「reference beam」に関連した英語例文の一覧と使い方(17ページ目) - Weblio英語例文検索

Thus, even when the optical box 21 is positionally arranged at the reference irradiating position and positioned on the frame 22 by a positioning means, the image- forming point of the laser beam is moved on the tangential plane T, so that focus fluctuation on the drum 17 at the positioning position of the optical box 21 is not caused.例文帳に追加

これによって、光学箱２１を基準照射位置へ位置調整を行って、位置決め手段で本体フレーム２２に位置決めしても、レーザー光束の結像点が接平面Ｔ内で移動することになるために、光学箱２１の位置決め位置における感光体ドラム１７上でのピント変動が生ずることはない。 - 特許庁

To permit an operation for developing or not developing an image using two different kinds of light beam, i.e., visible light and UV-rays, as a reference light.例文帳に追加

可視光と紫外線という異なる２種類の光線を参照光として画像現出の可、不可を操作可能とする可視光下及び／又は紫外線下画像現出用データ作成装置、可視光下及び／又は紫外線下画像現出用データ作成プログラムを記録した記録媒体及び光学式データ処理装置を提供する。 - 特許庁

To suppress the positional deviation at beginning of scanning in a main scanning direction on a face to be scanned with respective laser beams, in an optical scanner in which the beginning position of scanning with one laser beam in the main scanning direction on the face to be scanned is taken as a reference and the beginning position of scanning with the rest of a plurality of laser beams in the main scanning direction is decided.例文帳に追加

複数のレーザビームの中の１本のレーザビームの被走査面での主走査方向への走査開始位置を基準として、残りのレーザビームの主走査方向への走査開始位置を決定する光走査装置において、各レーザビームの被走査面での主走査方向への走査開始位置のズレを抑制する。 - 特許庁

For the deviation amount from a prescribed reference position of the other land part 14 relative to the one land part 14 across the insulating substrate 12 such as a flexible substrate, position correction of moving the position of the other land part 14 in the direction of reducing the deviation amount is performed, and a circuit pattern is drawn by a laser beam.例文帳に追加

フレキシブル基板等の絶縁基板１２を挟んで、一方のランド部１４に対する他方のランド部１４の、所定の基準位置からのずれ量に対して、前記ずれ量を減少させる方向に、他方のランド部１４の位置を移動させる位置補正を行って、レーザ光による回路パターンの描画を行う。 - 特許庁

Spots 94, 96, 98 of normal size and spots 95, 97, 99 having a wide spreading profile of light beam are adjusted to have the same position in the main scanning direction even for each color of magenta (M), yellow (Y) and black (K) with reference to the spot profile 92, 93 of cyan (C) in the main scanning direction.例文帳に追加

主走査方向のシアン（Ｃ）のスポット形状９２、９３を基準とした場合に、マゼンタ（Ｍ）、イエロー（Ｙ）、ブラック（Ｋ）の各色においても、正常な大きさのスポット９４、９６、９８と、光線の広がり形状が大きいスポット９５、９７、９９の位置が、主走査方向で同じ位置になるような調整を行う。 - 特許庁

The reflection intensity from the standard reflecting body 4 is measured by a reflection intensity measuring unit 12 from the reception signal of the reflected beam from the standard reflecting body 4, and the measured reflection intensity and the change to the reference reflection intensity stored in a detection condition storage unit 11 are determined by a reflection intensity determination unit 14.例文帳に追加

標準反射体４からの反射ビームの受信信号から反射強度計測部１２で標準反射体４からの反射強度を計測し、計測した反射強度と検知条件記憶部１１に記憶した基準反射強度に対する変化を反射強度判定部１４で判定する。 - 特許庁

This radiotherapy system 2 irradiates therapeutic radiation beams according to a radiation plan prescribing a reference dose to be absorbed by the therapy object side and the normal site of the subject, and the irradiation conditions of the radiation, and a scattered ray detecting system 3 detects scattered rays generated based on therapeutic radiation beam.例文帳に追加

放射線照射システム２は、被検体の治療部位および正常部位に吸収される基準線量及び放射線の照射条件を定めた照射計画にしたがって治療用放射線ビームを照射し、散乱線検出システム３は、治療用放射線ビームに基づいて発生する散乱線を検出する。 - 特許庁

The servo control method of the hologram information storing device is constituted in such a manner that a planar glass is positioned in a 4-f system so that the angle only is changeable while keeping the position of a reference beam constant by changing the inclination of this planar glass, then a volume of a pickup itself is reduced without using an expensive AOM or a galvano mirror.例文帳に追加

ホログラム情報保存装置のサーボコントロール方法は、４-fシステム内に平板ガラスを位置させ、この平板ガラスの傾きを変らせることによって、基準ビームの位置を一定に維持しつつ角度だけ変化させられるようにし、高価のＡＯＭやガルバノミラーを使用せずピックアップそれ自体の体積を縮小する。 - 特許庁

To provide an optical scanning line calibrator and a position adjusting method that can adjust the forming position of optical scanning lines with high accuracy by eliminating a blur of an image to be a reference line, in the case where optical scanning lines formed by scanning a laser beam from an optical part are observed with a camera for the purpose of adjusting their position.例文帳に追加

本発明の課題は、光学部からのレーザ光を走査することにより形成される光走査線をカメラで観測して、その位置を調整する場合、基準線となる画像のぼけを無くし、高精度で光走査線の形成位置を調整できる光走査線校正器及び位置調整方法を提供することである。 - 特許庁

When the arrangement of the turning stage 35 is shifted from a reference position to an irradiation position, each of irradiation ports 37a of the laser head 37 is turned around the target irradiation position PT corresponding thereto, so as to reduce the irradiation angle θ of the laser beam B by the turning angle θr of the turning stage 35.例文帳に追加

そして、回動ステージ３５を「基準位置」から「照射位置」に配置移動するときに、レーザヘッド３７の各照射口３７ａが、それぞれ対応する目標照射位置ＰＴを回動中心にして回動して、レーザ光Ｂの「照射角度θ」を回動ステージ３５の「回動角度θｒ」だけ小さくした。 - 特許庁

The respective holograms recorded on the medium 10 function as Hough conversion filters and the light peak diffracted light is obtained on the optical path of the reference light 6 during recording in the spatial positions meeting the positions of the segments in the objective images at the polarization angles meeting the segment directions in the objective images as the hologram deffracted light beam 7.例文帳に追加

媒体１０に記録の各ホログラムはＨｏｕｇｈ変換フィルタとして機能，記録時の参照光６の光路上に、ホログラム回折光７として、対象画像中の線分方向に応じた偏光角で対象画像中の線分の位置に応じた空間的位置で光ピーク回折光を得る。 - 特許庁

A first servo-mechanical system may actuate a first optical head (e.g., transmitting the reference and tracking beams) to compensate for such errors, and a second servo-mechanical system may actuate a second optical head (e.g., transmitting the recording beam) to follow the actuation of the first servo system.例文帳に追加

第１のサーボ機械システムはそのような誤りを補償するために第１の光ヘッド（例えば、参照ビームおよびトラッキングビームを伝送する）を作動させることができ、第２のサーボ機械システムは第１のサーボシステムの作動に追従するように第２の光ヘッド（例えば、記録ビームを伝送する）を作動させることができる。 - 特許庁

Lens groups of an optical system are arranged in the optical pickup device making a main beam for the DVD as the reference and the device is formed in such a manner that the major axes of the elliptic beams emitted from respective light emitting sections 32 and 31 for the CDs and DVDs of a semiconductor laser and radiated onto a disk 15 become approximately 35° in the radial direction of the disk 15.例文帳に追加

ＤＶＤ用のメインビームを基準として光学系のレンズ群を配置し、かつ、半導体レーザ１０のＣＤ用及びＤＶＤ用の各発光部３２，３１から出射されてディスク１５上に照射される楕円ビームの長軸がディスク１５の半径方向に対して略３５°となるようにする。 - 特許庁

A position detector 21 for detecting the position of an optical origin to the detection surface of a reference laser beam that is applied by photocurrents I1 and I2 is set to tool that is mounted in a cavity having a YAG rod, and detection circuits 29 and 30 having variable resistors 27 and 28 are connected to the position detector 21.例文帳に追加

照射された基準レーザ光の検出面に対する光原点の位置を光電流Ｉ１，Ｉ２により検出し得るようにした位置検出器２１を、ＹＡＧロッドを備えたキャビティに取付けた冶具にセットし、位置検出器２１に可変抵抗器２７，２８を備えた検出回路２９，３０を接続する。 - 特許庁

The optical path of the measurement light 1a emitted from the semiconductor laser 1 is divided by a beam splitter 3, in which one reflected by a reference reflective surface 4a reaches an observation surface 6a, and the other reflected by the sample surface 8a reaches the observation surface 6a, and an interference fringe is formed.例文帳に追加

半導体レーザ１から発せられた測定光１ａは、ビームスプリッタ３によって光路を分割され、一方が基準反射面４ａによって反射されて観測面６ａに到達し、他方が試料表面８ａによって反射されて観測面６ａに到達して、干渉縞を形成する。 - 特許庁

The photodetector 32 and the laser emitter 34 constitute a measuring means for measuring positional deviation for a Y-axis, and they are provided so that the optical axis of a laser beam to be emitted from the laser emitter 34 may match the movement direction (Y-direction) of the Y-stage 12 when the Y-stage 12 is at a reference position.例文帳に追加

光検出器３２とレーザ発光器３４とは、Ｙ軸に対する位置ずれを計測する計測手段を構成しており、Ｙステージ１２が基準位置にあるときレーザ発光器３４から出射されるレーザ光の光軸がＹステージ１２の移動方向（Ｙ方向）と一致するように設けられている。 - 特許庁

A device for optically detecting and measuring comprises a light source (1) with an emitting optical part (2) for projecting a light beam to an object to be measured along the axis of an emitting optical part (Oe), and a first detector (3) for demarcating a light-receiving axis (Or) contained in a reference plane surface (A) same as an emitting axis.例文帳に追加

光学距離検出または測定デバイスは、放出光学部品の軸（Ｏｅ）に沿って、測定すべき目標（Ｃ）に光ビームを投射するためのエミッタ光学部品（２）を備えた光源（１）と、放出軸と同じ基準平面（Ａ）に含まれた受光軸（Ｏｒ）を画定する第１の検出器（３）とを備えている。 - 特許庁

A relation between a stress value and a wave number value of a fluorescence peak is found preliminarily using the first and second reference samples SB1, SB2 having compositions the same to those of the layers 1, 3 or the layer 2, utilizing the wave number value of the fluorescence peak emitted by Cr^3+ ion in the alumina crystal particle is varied by the stress when irradiated with a laser beam.例文帳に追加

レーザ光を照射したときにアルミナ結晶粒子中のＣｒ^3+イオンが発する蛍光のピークの波数値が応力によって変化することを利用し、層１，３あるいは層２と同じ組成の第１，第２基準試料ＳＢ１，ＳＢ２を用いて、応力値と蛍光ピークの波数値との関係を求めておく。 - 特許庁

In the method of manufacturing the optical master disk for forming projecting and recessed patterns by developing an exposed photoresist, the photoresist layer is irradiated with the second harmonic of solid laser as reference beam in the development and the developing process is finished based on the level of a diffracted light in the projecting and recessed pattern.例文帳に追加

露光されたフォトレジスト層を現像し凹凸パターンを形成する光ディスク原盤の製造方法において、上記現像の際にフォトレジスト層に対して固体レーザの第２高調波を参照光として照射し、上記凹凸パターンにおける回折光のレベルに基づいて現像工程を終了させる。 - 特許庁

To provide a pattern inspection device dispensing with the strict setting of a judge threshold value when an inspection image signal detected from an object to be inspected having a circuit pattern formed thereon by charged corpuscular beam or the like is compared with a reference image signal to judge a flaw on the basis of the judge threshold value to inspect the same, and an inspection method using the same.例文帳に追加

回路パターンなどが形成された被検査対象物から荷電粒子線等によって検出される検査画像信号と参照画像信号とを比較して判定しきい値により欠陥を判定して検査する際、厳密な判定しきい値を設定することを不要にしたパターン検査装置およびその方法を提供することにある。 - 特許庁

The control part 302 controls the light distribution pattern in a switching system in response to position information on a front vehicle when the information is the content of indicating the presence of the front vehicle, and takes preference of switching to the light distribution pattern for the low beam regardless of the existence of the front vehicle when the information is the content of indicating a steeper curve road state than a reference curve road.例文帳に追加

制御部３０２は、情報が前方車の存在を示す内容である場合、前方車の位置情報にしたがって配光パターンを切替制御する一方、情報が基準曲路より急な曲路状態を示す内容である場合、前方車の有無に拘わらずロービーム用配光パターンへの切り替えを優先する。 - 特許庁

The control device 50 is configured to correct the direction of a visible ray flux emitted from the projector 10 based on the position deviation value and rotational deviation angle of the third laser beam LB3 with respect to the reference mark of a placement face SF imaged by the imaging device 33 and the inclination of the projector 10 detected by the first and second inclination sensors 31 and 32.例文帳に追加

制御装置５０は、撮像装置３３で撮像された載置面ＳＦの基準マークに対する第３のレーザー光ＬＢ３の位置ずれ量及び回転ずれ角度、並びに第１及び第２の傾斜センサ３１、３２で検出された投光器１０の傾きに基づいて、投光器１０から照射される可視光線束の方向を補正する。 - 特許庁

Since an integrated value computed by a micro-computer 12 is brought into a low value compared with that deposited with no dust because a level of the reflected laser beam is lowered in a portion deposited with the dust in the surface of the disk 2, a difference between the integrated value and a preset reference value is found to measure the dust amount in the air.例文帳に追加

光学式ディスク２表面の、塵埃が付着している部分では、反射するレーザ光のレベルが低下するので、マイコン１２で演算される積分値は、塵埃が付着していないときと比較して低い値となるので、この積分値と予め設定されている基準値との差分を求めることにより、空気中の塵埃量を測定することができる。 - 特許庁

At the time of actually recording on an optical disk 28, a recording level setting means 50 is adjusted so that the recording laser beam is at the optimum recording output, in a recording level adjusting circuit 58, by the recording reference level stored in the set value storage means 52 and by a temperature signal near the present optical disk 28 from a temperature sensor 26.例文帳に追加

実際に光ディスク２８に記録するとき、記録レベル調整回路５８では、設定値記憶手段５２に記憶されている記録基準レベルと、温度センサ２６からの現在の光ディスク２８近傍の温度信号によって、記録レーザ光が最適記録出力となるように記録レベル設定手段５０の調整が行われる。 - 特許庁

A disk device 1 is provided with: an optical pickup 4 for irradiating an optical disk 2 with a laser beam; a jitter detecting part 6 for detecting jitter; an adjusting means 7 for deciding reference recording power for recording data to be smoothly reproduced; and a power range detecting means for detecting the range of optimum recording power P as a power range W.例文帳に追加

ディスク装置１は、光ディスク２にレーザ光を照射する光ピックアップ４と、ジッターを検出するジッター検出部６と、スムーズに再生されるデータを記録することができる基準記録パワーＳを決定する調整手段７と、最適な記録パワーＰの範囲をパワー範囲Ｗとして検出するパワー範囲検出手段１０とを備える。 - 特許庁

The positioning reference mark Q on the glass substrate A is detected through the glass substrate B by a CCD camera 12 installed inside a machining head 7, which is fed back to X axis stage and Y axis stage to carry out precise positioning for the necessary point, and then the alignment mark is machined by irradiation of the laser beam 5 at the position P overlapped with the position detection mark P.例文帳に追加

加工ヘッド７内部に設けたＣＣＤカメラ１２によりガラス基板Ｂを透過してガラス基板Ａの位置参照マークＱを検出し、これをＸ軸ステージおよびＹ軸ステージにフィードバックして必要な場所で精密な位置決め行ない、レーザビーム５の照射により位置検出マークＰと重なる位置Ｐにアライメントマークを加工する。 - 特許庁

Gain of a detection signal amplifying circuit 11 amplifying a signal obtained from a photodetector 7 to which is irradiated with a laser beam reflected from the optical disk 1 is changed corresponding to change operation of an erasing level value being a reference level constituting a pulse signal for recording accompanied by setting operation of the laser output.例文帳に追加

光ディスク１から反射されるレーザー光が照射される光検出器７から得られる信号を増幅する検出信号増幅回路１１の利得をレーザー出力の設定動作に伴い記録用パルス信号を構成する基準レベルである消去レベル値の変更動作に対応させて変更するように構成されている。 - 特許庁

A switching timing calculating circuit is provided that obtains the switching timing of switching control using an output of a hall sensor HU installed inside a motor 2 for detecting a rotational position and the positional relation on the output time axis of a beam detector BD1 that detects reflected light by a polygon mirror 4 and that makes reference signals for switching by switches S1-S6.例文帳に追加

モータ２内に設置された回転位置検知用ホールセンサＨＵの出力と、ポリゴンミラー４による反射光を検知するビーム検知器ＢＤ１の出力時間軸上の位置関係を用いてスイッチング制御の切替タイミングを求め、スイッチＳ１〜Ｓ６によるスイッチングの基準となる信号を作成するスイッチングタイミング演算算出回路を備えている。 - 特許庁

Reception information is separated by both beams from a propagation time difference, and each reflected wave reception intensity is determined individually, and highly sensitive detection of fine exfoliation is performed by the longitudinal wave beam having excellent convergence property, and sizing of the exfoliation area of the sprayed film 1 is performed by using a calibration curve 29 or a calibration curve 30 on reference to each reflected wave reception intensity.例文帳に追加

その受信情報は両ビームによるものに伝播時間差から分離され、各々の反射波受信強度を個別に求め、収束性の良い縦波ビームで小さな剥離の高感度検出を行い、各々の反射波受信強度を参照して校正曲線２９や校正曲線３０を用いて溶射膜１の剥離面積のサイジングを行う。 - 特許庁

During continuous pulse oscillation operation for making a discharge applied voltage between discharge electrodes fixed, if impurities are mixed inside a laser chamber, an output energy (a) of laser beam lowers to a prescribed level (a2) to a reference level (a1) as of pulse oscillation of a prescribed pulse number (n2) after continuous pulse oscillation operation is started.例文帳に追加

放電電極間への放電印加電圧が一定となるように連続パルス発振運転をした場合には、レーザチャンバ内に不純物が混入すると、連続パルス発振運転が開始されてから所定パルス数ｎ2のパルス発振がなされた時点でレーザ光の出力エネルギーａが基準レベルａ1に対して所定レベルａ2に低下する。 - 特許庁

In the focus sweep operation, the focus of the objective lens is controlled so that the coupling lens moves to a reference position where the focus of the objective lens passes next through a recording layer before passing through the recording layer of the optical disk, in other words, a position where the spherical aberration is corrected which is calculated based on the specification of the optical disk and is generated by the laser beam.例文帳に追加

また、前記フォーカススイープ時において、対物レンズの焦点が前記光ディスクの記録層を通過する前に、対物レンズの焦点が次に通過しようとする記録層の基準位置、つまり、光ディスクの仕様に基づき計算されるレーザ光により生じる球面収差を補正する位置にカップリングレンズが移動するように制御する。 - 特許庁

When two kinds of lenses having different effective diameters are used with reference to the operation of two kinds of optical disks having different substrate thicknesses, a focus error signal is detected by a light receiving part group having a light receiving part width matched to a beam spot size, in every light receiving face inside a light receiving part which constitutes a first photodetector 58 and a second photodetector 59.例文帳に追加

基板厚さの異なる２種類の光ディスクの動作に対して有効径の異なる２種類のレンズを使用した場合、焦点誤差信号を第１の光検出器５８および第２の光検出器５９を構成する受光部の内、それぞれの受光面でのビームスポットサイズに合わせた受光部幅を持つ受光部群で検出する。 - 特許庁

An integration disk 100G where a reference plate 200 for initialization is temporarily fixed as an integration disk 100G to an uninitialized optical disk 100X working as an optical disk for recording information as a recording mark RM is rotated by applying the light beam LB having not less than prescribed intensity.例文帳に追加

本発明は、所定の強度以上でなる光である光ビームＬＢが照射されることにより情報を記録マークＲＭとして記録する光ディスクとしての未初期化光ディスク１００Ｘに対して初期化用基準盤２００が一体化ディスク１００Ｇとして一時的に固定された状態でなる一体化ディスク１００Ｇを回転させる。 - 特許庁

Data of positional deviation from reference data in the X-Y plane for each electrode are calculated, by taking images of the plurality of electrodes from the cathode side in the Z axis direction which is the direction of the beam passage axis to obtain image data in the X-Y plane, the obtained image data are image processed including outline extracting and straight line extracting, then by performing arithmetic processing.例文帳に追加

また、このような複数の電極を、ビーム通過軸に沿った方向であるＺ軸方向でかつカソード側から撮像して、ＸＹ平面の画像データを取得し、取得した画像データを、外形輪郭抽出処理および直線抽出処理を含む画像処理した後に、演算処理することにより、ＸＹ平面における基準データからの各電極の位置ずれデータを算出する。 - 特許庁

Provided is the charged particle beam lithographic system where stage acceleration conditions are decided to draw a mark for a test substrate on a scan or the test substrate, and decision as to whether the substrate displacement has occurred is carried out, if the cumulative frequency data of the difference between the scanned result and reference coordinate or the drawing reproducibility is worse than the prestored cumulative frequency data or the reproducibility index data.例文帳に追加

ステージの加速条件を設定し、テスト用基板のマークをスキャンまたはテスト用基板に描画し、スキャン結果と基準となる座標の差分の累積度数データまたは描画の再現性が、予め記憶されている累積度数データまたは再現性の指標データよりも悪ければ、基板ずれが生じている判断することが可能な荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

When a region 24 including a minute reference hole 23 previously formed by an ion beam in a place other than a machining region 25 in a shading film 21 on a glass substrate 22, the position 23 of the hole is memorized by detecting a secondary ion signal of the same atomic species as entered ions injected into the substrate instead of detecting the secondary ion signal of atomic species included in a base film.例文帳に追加

ガラス基板上２２の遮光膜２１に被加工領域２５以外の場所にあらかじめイオンビームで形成しておいた微細な参照穴２３を含む領域２４を走査するときに、下地膜に含まれる原子種の二次イオン信号を検出するのではなく、基板に注入された入射イオンと同じ原子種の二次イオン信号を検出し、穴の位置２３を記憶しておく。 - 特許庁

This radar device including a casing and an antenna mounted so that an angle with respect to the casing can be changed, adjusts a beam axis by an antenna angle detection part for detecting a tilt angle of the antenna with the casing fixed, and an adjustment part for changing the tilt angle so that the detected tilt angle agrees with a desired reference tilt angle.例文帳に追加

筐体と前記筐体に対する角度が変更可能に取り付けられたアンテナとを有するレーダ装置は、筐体が固定され状態で前記アンテナの傾き角度を検出するアンテナ角度検出部と、前記検出された傾き角度が所望の基準傾き角度になるように前記傾き角度を変化させる調節部とにより、ビーム軸の調節を行う。 - 特許庁

A frequency control device 101 calculates an auxiliary clock cycle 25 based on a reference clock cycle and a modulation coefficient, and generates an image clock 18 of which the frequencies are different between at least a part of an image forming area on a main scanning line scanned by a laser beam on a photosensitive drum 15 and the other part thereof based on a preset initial cycle value 27 and the auxiliary clock cycle 25.例文帳に追加

周波数制御装置１０１は、基準クロック周期と変調係数とに基づいて補助クロック周期２５を算出し、予め設定されている初期周期値２７と補助クロック周期２５とに基づいて、感光ドラム１５上のレーザビームで走査される主走査ライン上の画像形成エリアの少なくとも一部分と他部分とで周波数が異なる画像クロック１８を生成する。 - 特許庁

The control device sets the control mode in the wheelchair user mode when determining that a passenger getting on the car 5 is lower than the reference height, that is, its passenger is a wheelchair user by a signal from a multi-beam sensor 27, and when a car side operation button 16b for the wheelchair user is operated, by operating a landing hall operation panel 20b for the wheelchair user.例文帳に追加

制御装置は、車椅子利用者用乗場操作盤２０ｂが操作され、かつマルチビームセンサ２７からの信号により、かご５に乗り込む乗客が基準高さよりも低く、即ちその乗客が車椅子利用者であると判断され、かつ車椅子利用者用かご側操作釦１６ｂが操作された場合に、制御モードを上記車椅子利用者用モードとする。 - 特許庁

The phantom for determination of bone mineral quantity is used for a dental cone beam X-ray CT apparatus, and it has a soft tissue member comprising an equivalent material of a chin soft tissue and a bone block reference body which comprises hydroxyapatite in a resin at a fixed ratio and is buried in the soft tissue member, and it is characterized in that the shape of the phantom can be used for a chin rest.例文帳に追加

本発明の骨塩定量ファントムは、歯科用コーンビームＸ線ＣＴ装置に用いられる骨塩定量ファントムであって、顎の軟組織等価材料からなる軟組織部材と、樹脂にハイドロキシアパタイトが所定の割合で含有されており該軟組織部材に埋め込まれた骨ブロック参照体と、を備え、チンレストとして使用可能な形状とされていることを特徴とする。 - 特許庁

Particulates of metal or dielectric material are trapped near the work O as an object of measurement with an optical tweezers device 20 in a non-contact manner, a keenly sharpened light beam is made to impinge on the trapped particulates to form a point light source 19, and reflected light radiated in spherical waves from the point light source 19 is used as reference light for driving the compensation optical device 13.例文帳に追加

被測定物体Ｏの近傍に金属や誘電体の微粒子を光ピンセット装置２０を用いて非接触で捕捉し、この捕捉された微粒子に鋭く絞った光を入射して点光源１９を作成し、この点光源１９から球面波状に放射される反射光を補償光学装置１３を駆動するための参照光として利用する。 - 特許庁

This method materializes highly accurate converged ion beam processing in a relatively short time, by executing the position correction work at relatively long intervals in the case of processing not requiring accuracy thereby omitting not efficient position correcting work, though this executes the position correction work by check of a reference mark at short intervals thereby performing highly accurate processing in a fine processing requiring accuracy.例文帳に追加

本発明は、精度を要求される微細な加工の際には参照マーク確認による位置補正作業を短い時間間隔で実行して高精度の加工を行うが、精度を要求されない加工の場合には位置補正作業を長い時間間隔で実行し、効率の悪い位置補正作業を省略することで、無駄時間をなくし比較的短時間で高精度の集束イオンビーム加工を実現するものである。 - 特許庁

To provide an interference microscope and a measuring apparatus, capable of measuring the surface shape of a sample (object to be measured) such as a wafer just by slightly inclining a reference mirror by a simple structure, identify accurate coordinate positions of dirt, pole pieces, etc., transmit and receive their accurate data to a charged particle beam device such as an electronic microscope and an image drawing device, and contribute more to an improvement in workability.例文帳に追加

簡易な構成により、参照ミラーを僅かに傾斜させるだけで、ウェハなどの試料（被測定物）の表面形状を計測し、ごみやポールピースなどの正確な座標位置を特定し、電子顕微鏡、描画装置などの荷電粒子ビーム装置にその正確なデータを送受信して、作業効率の向上に一層貢献することができる干渉顕微鏡及び測定装置を提供する。 - 特許庁

A spectrophotometer part 20 measures the intensity of self- fluorescence Ka, which is generated from a viable tissue 100 by irradiating it with excited laser beam La, in specified wavelengths more than two, a standardizer 50 standardizes the intensity of the self-fluorescence Ka in the specified wavelengths, and a comparator 70 compares the standardized intensity of the self-fluorescence in each wavelength with reference standardized intensity provided from the normal or diseased tissue.例文帳に追加

励起レーザ光Ｌａの照射によって生体組織１００から生ぜしめられた自家蛍光Ｋａの２つ以上の特定の波長における強度を分光測光部２０により測定し、特定の波長における自家蛍光Ｋａの強度を規格化器５０により規格化し、規格化された各波長における自家蛍光の強度と正常組織または患部組織から得た参照規格化強度とを比較器７０で比較する。 - 特許庁