「substrate layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(696ページ目) - Weblio英語例文検索

In the semiconductor device, two MOS structures which share a drain are formed in the front surface side of the semiconductor substrate, and a plurality of ditch-like opening parts 4 are formed to extend from the drain region of one MOS structure to the drain region of the other MOS structure in the interior of an N+ type drain layer 7 in the back surface side of the semiconductor substrate.例文帳に追加

本発明の半導体装置は、半導体基板の表面側にドレインを共有するＭＯＳ構造が２つ形成され、かつ、半導体基板の裏面側のＮ＋型ドレイン層７の内部に、一方のＭＯＳ構造のドレイン領域から他方のＭＯＳ構造のドレイン領域まで、延在して形成された複数の堀状の開口部４を有する。 - 特許庁

A field emission device has a glass substrate 30; an emitter electrode 32 formed on the glass substrate 30; an CNT emitter 46 formed on the emitter electrode 32; and a gate stacking layer S1 formed around the CNT emitter 46 for emitting an electron beam from the carbon nanotube (CNT) emitter 46 to be focussed at a given position.例文帳に追加

ガラス基板３０と、ガラス基板３０上に形成されたエミッタ電極３２と、エミッタ電極３２上に形成されたＣＮＴエミッタ４６と、ＣＮＴエミッタ４６の周りに形成されて炭素ナノチューブ（ＣＮＴ）エミッタ４６から電子ビームを放出させ、与えられた位置にフォーカシングするゲート積層物Ｓ１と、を含む電界放出素子。 - 特許庁

The liquid crystal display is equipped with an electrode substrate G1 having a plurality of pixel electrodes 2, an electrode substrate G2 having a counter electrode 12 facing the plurality of pixel electrodes 2, and a liquid crystal layer LQ held between the electrode substrates G1, G2 to modulate the reflected light and transmitted light from pixels defined by the pixel electrodes 2.例文帳に追加

液晶表示装置は複数の画素電極２を含む電極基板Ｇ１と、複数の画素電極２に対向する対向電極１２を含む電極基板Ｇ２と、電極基板Ｇ１，Ｇ２間に挟持され各画素電極２により規定される画素の反射光および透過光を変調する液晶層ＬＱとを備える。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an optical waveguide by which a light propagation path is formed between a substrate and an adherend without using an adhesive layer, the substrate and the adherend are strongly bonded, thus an assembly functioning as an optical waveguide is easily obtained, and to provide an optical waveguide which is made thinner and reliable.例文帳に追加

接着層を用いることなく、基材と被着体との間に光の伝搬経路を形成するとともに、基材と被着体とを強固に接合し、光導波路として機能する接合体を容易に得ることができる光導波路の製造方法、および、薄型化が可能でかつ信頼性の高い光導波路を提供すること。 - 特許庁

The organic EL panel 1 for lighting has a transparent substrate 11 formed by laminating EL light-emitting layers, an element electrode 12 led to the outer periphery of the rear surface of the transparent substrate 11, an auxiliary electrode 13 connected with the element electrode 12 by butting and supplying power from the outside, and a sealing section 14 protecting the EL light-emitting layer by sealing.例文帳に追加

照明用有機ＥＬパネル１は、ＥＬ発光層が積層してある透明基板１１、透明基板１１の裏面の外周に導出された素子電極１２、素子電極１２に当接して接続され外部から電力を供給する補助電極１３、ＥＬ発光層を封止して保護する封止部１４を備える。 - 特許庁

This field emission electron source 10 has a large number of minute emitters having a tip with sharpened profile formed on the conductive substrate 12 and a gate electrode 18 surrounding the vicinity of the tip of each emitter 14 with a minute gap, and an insulating layer for insulating between the gate electrode 18 and the substrate 12.例文帳に追加

この電界放射型電子源１０は、導電性の基板１２上に先端が尖った形状をした多数の微小なエミッタ１４を形成し、かつ各エミッタ１４の先端付近を微小な間隙をあけて取り囲むゲート電極１８と、ゲート電極１８と基板１２との間を絶縁する絶縁層とを設けた構造をしている。 - 特許庁

A liquid crystal layer 6 of antiferroelectric liquid crystal and the like are placed between a transparent substrate 11 made of glass, etc., having a polarizer plate 31 on the observation side and a transparent electrode 21 on the other side, and a transparent substrate 12 made of glass, etc., having a polarizer plate 32 on the incident side of light and a transparent electrode 22 on the other side.例文帳に追加

観察側に偏光板３１が設けられその反対側に透明電極２１が設けられたガラス等からなる透明基板１１と、光入射側に偏光板３２が設けられその反対側に透明電極２２が設けられたガラス等からなる透明基板１２との間に、反強誘電性液晶による液晶層６等が配置されている。 - 特許庁

The vapor deposition angle is controlled and the uniform alignment layer can be obtained by providing a slit between a substrate and a vaporization source and applying an electric field to the slit, in alignment control of a liquid crystal display panel wherein an inorganic compound is vapor- deposited from a direction oblique to the substrate, with respect to the manufacturing method and the manufacturing equipment for the liquid crystal device.例文帳に追加

液晶装置の製造方法及び製造装置に関して、基板に対して斜め方向から無機化合物を蒸着して行う、液晶表示パネルの配向制御において、基板と蒸発源との間にスリットを設け、前記スリットに電界をかけることで蒸着角を制御し均一な配向膜を得ることができる。 - 特許庁

The method of manufacturing the coated substrate is also disclosed in which a coating layer containing titanium oxycarbonitride or titanium aluminum oxycarbonitride are deposited by MT-CVD (Medium Temperature - Chemical Vapor Deposition) on a substrate in the temperature range of about 750 to about 950°C using a mixture of gases wherein a ratio of the hydrogen gas to the nitrogen gas is greater than 5.例文帳に追加

上記コーティング付き基材を作製する方法も開示され、その方法では、チタンオキシカーボナイトライドまたはチタンアルミニウムオキシカーボナイトライドを含むコーティング層は、ガスの混合物を使用して、約７５０℃〜約９５０℃で基材に中温化学蒸着（ＭＴ−ＣＶＤ）により堆積され、水素ガスの窒素ガスに対する比率は５を超える。 - 特許庁

The optical device comprises a first dielectric multilayer film 2 formed on one surface of a glass substrate 1, a second dielectric multilayer film 3 formed on the other surface of the glass substrate, a metal electrode 4 comprising a metal film that allows soldering is formed on one of the first and second dielectric multilayer films 2, 3, and an optical component soldered on the meta layer.例文帳に追加

ガラス基板１の一方の面に形成された第１の誘電体多層膜２と、ガラス基板の他方の面に形成された第２の誘電体多層膜３と、第１，第２の誘電体多層膜２，３のどちらか一方の上に半田付けが可能な金属膜による金属電極４を形成し、その上に光学部品を半田付けするようにした。 - 特許庁

To provide a polishing pad, its producing method and a method for polishing a semiconductor substrate in which the polishing rate is high, the global level difference is small, dishing is prevented in metal wiring, clogging and settling at the surface layer part are retarded and the polishing rate is stabilized at the time of planarizing local irregularities of a semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の局所的凹凸の平坦化をするに際して、研磨レートが高く、グローバル段差が小さく、金属配線でのディッシングが起こりにくく、目詰まりや表層部分のへたりが生じにくく研磨レートが安定している研磨パッドおよび研磨パッドの製造方法ならびに半導体基板の研磨方法を提供するものである。 - 特許庁

The plasma display panel includes a first and a second substrates arranged in opposition, an address electrode formed at the second substrate, partitioning walls arranged between the first and the second substrates for zoning non-discharging regions together with a plurality of discharge cells, a phosphor layer formed inside each discharge cell, and a discharge sustaining electrode formed at the first substrate.例文帳に追加

本発明によるプラズマディスプレイパネルは、互いに対向配置された第１基板及び第２基板と；第２基板に形成されたアドレス電極と；第１基板と第２基板の間に配置され、複数の放電セルと共に非放電領域を区画する隔壁と；各放電セル内に形成された蛍光体層と；第１基板に形成された放電維持電極と；を含む。 - 特許庁

In the semiconductor device having the on-chip type electrostatic discharge (ESD) protection circuit, the on-chip type ESD protection circuit may include a first junction diode having a first conductivity region contacting a second conductivity region in a semiconductor substrate, and a first schottky diode having a metallic material layer arranged on and contacting the first conductivity region of the semiconductor substrate.例文帳に追加

オンチップ形態の静電放電（ＥｌｅｃｔｒｏＳｔａｔｉｃ Ｄｉｓｃｈａｒｇｅ；ＥＳＤ）保護回路を持つ半導体素子であって、半導体基板内で第２導電型領域と接触する第１導電型領域を持つ第１接合ダイオードと、前記第１導電型領域上に接触する位置に配置された金属系材料層を備える第１ショットキーダイオードとを有する。 - 特許庁

To lessen variation in configuration as small as possible after construction of moving parts, performing surely the release of moving parts in the semiconductor mechanical quantity sensor in the moving part of which a plurality of open holes are arranged after the moving part released from a supporting substrate is formed through trenches etched in the semiconductor layer supported by the supporting substrate.例文帳に追加

支持基板に支持された半導体層にエッチングによりトレンチを形成することで支持基板からリリースされた可動部を形成するとともに、可動部に複数個の貫通穴が配列されて設けられてなる半導体力学量センサにおいて、可動部のリリースを確実に行うとともに、可動部のできあがり形状のばらつきを極力小さくする。 - 特許庁

The TFT array substrate comprises a gate line 4 provided on an insulating substrate, a source line 5 intersecting the gate line 4 through an insulating film, a source electrode 3 connected with the source line, a drain electrode 2 provided oppositely to the source electrode 3, and a semiconductor layer 1 underlying the source electrode 3 and the drain electrode 2.例文帳に追加

本発明にかかるＴＦＴアレイ基板は絶縁性基板上に設けられたゲート配線４と、ゲート配線４と絶縁膜を介して交差するソース配線５と、ソース配線と接続されたソース電極３と、ソース電極３と対向して設けられたドレイン電極２と、ソース電極３とドレイン電極２の下層に設けられた半導体層１を備えている。 - 特許庁

The manufacturing method for a hard coat film comprises applying a resin composition on a substrate film and subsequently drying it to form a hard coat layer, wherein a period for drying the resin composition at a temperature where the viscosity of a resin in the resin composition applied on the substrate film falls within the range of 3-7 mPa s is introduced in a decreasing drying section in the drying step.例文帳に追加

基材フィルム上に樹脂組成物を塗布した後、乾燥することにより、ハードコート層を形成するハードコートフィルムの製造方法において、前記乾燥の減率乾燥区間に、基材フィルム上に塗布した樹脂組成物中の樹脂の粘度が３〜７ｍＰａ・ｓとなる温度で樹脂組成物を乾燥する期間を設ける。 - 特許庁

This mask is used when filling a particle group constituted containing the charged particles, into a substrate cell formed of a partitioning wall, using a particle supply device, a mask body 15 of the mask is constituted of a conductive material, and an insulating layer 17 is provided on a surface of the mask body 15 in a side not contacting with the partitioning wall 12 on the substrate.例文帳に追加

隔壁によって形成された基板上セル内に、帯電性粒子を含んで構成した粒子群を、粒子供給装置を用いて充填する際に用いるマスクであって、マスクのマスク本体１５は導電性材料で構成され、基板１１上の隔壁１２と接触しない側のマスク本体１５の表面に絶縁層１７が設けられている。 - 特許庁

The semiconductor device comprises a semiconductor substrate 10 on which an integrated circuit 12 is formed and a passivation film 16 is formed to expose at least a part of an electrode 14 connected electrically with the integrated circuit 12, a resin layer 24 formed on the passvation film 16 of the semiconductor substrate 10, and an interconnect 28 formed on the resin layer 24 from above the electrode 14 to be connected electrically therewith.例文帳に追加

本発明に係る半導体装置は、集積回路１２が形成され、集積回路１２に電気的に接続された電極１４を有し、電極１４の少なくとも一部が露出するようにパッシベーション膜１６が形成されている半導体基板１０と、半導体基板１０のパッシベーション膜１６上に形成された樹脂層２４と、電極１４に電気的に接続されるように、電極１４上から樹脂層２４上に形成された配線２８と、を有する。 - 特許庁

This organic EL device includes an insulating substrate, a pixel electrode disposed above the insulating substrate, a barrier plate disposed around the pixel electrode, an interlayer insulating film extending from the barrier plate to the peripheral part of the pixel electrode and exposing the center part of the pixel electrode, and organic layer disposed on the interlayer insulating film and the center part of the pixel electrode, and a counter electrode disposed on the organic layer.例文帳に追加

絶縁基板と、前記絶縁基板の上方に配置された画素電極と、前記画素電極の周囲に配置された隔壁と、前記隔壁から前記画素電極の周縁部に亘って延在するとともに前記画素電極の中央部を露出する層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜の上、及び、前記画素電極の中央部の上に配置された有機層と、前記有機層の上に配置された対向電極と、を備えたことを特徴とする有機ＥＬ装置。 - 特許庁

The method is for manufacturing a fine protrusion array having a substrate, two or more protrusions arranged on one side of the substrate and a layer of a functional liquid coated onto the protrusions and includes a process of scanning an inkjet head equipped with two or more nozzles relative to the protrusions and discharging the functional liquid to the surface arranged with the protrusions to form a layer of the functional liquid.例文帳に追加

少なくとも基材と、この基材の片面上に配置された複数の突起と、前記複数の突起上に被膜された機能液層を備えた微細突起アレイの製造方法であって、 複数のノズルを備えたインクジェットヘッドを前記突起に対して相対的に走査し、前記基材の前記複数の突起が設けられた面に対し、機能液を吐出して供給し、機能液層を形成する工程、を含むことを特徴とする微細突起アレイの製造方法とする。 - 特許庁

The liquid crystal display device is characterized by having a diffusion plate 20 equipped on the liquid crystal layer 16 side or on the side opposite to the liquid crystal layer 16 of the lower substrate 11 and further having an upper diffusion plate 26 on the observer's side of the upper substrate 1.例文帳に追加

上基板１上および下基板１１上のそれぞれに電極を有し、上基板１と下基板１１とを所定の間隔をもって対向し、上基板１と下基板１１との間に封入する液晶１６とを備え、上基板１を観察者側に配置した液晶表示装置であって、下基板１１における液晶層１６側あるいは、液晶層１６と反対側には拡散板２０を備え、さらに上基板１の観察者側にも、上拡散板２６を備えたことを特徴とする。 - 特許庁

In the method of evaluating optical property development of the optical functional film, the optical property development of the optical functional film is evaluated by using the optical functional film including a transparent substrate and the optical functional layer which is formed on the transparent substrate and contains an ultraviolet curing optical functional material and a photopolymerization initiator and by measuring fluorescence intensity of the optical functional layer.例文帳に追加

本発明は、透明基板と、上記透明基板上に形成され、紫外線硬化性光学機能材料および光重合開始剤を含有する光学機能層とを有する光学機能フィルムを用い、上記光学機能層の蛍光強度を測定することにより、光学機能フィルムの光学特性発現性を評価することを特徴とする、光学機能フィルムの光学特性発現性評価方法を提供することにより、上記課題を解決するものである。 - 特許庁

In the positive or negative ion emission device 1, positive or negative DC voltage is applied to a conductive substrate 2 on the surface of which ion emissive material layer 3 containing either a covalent bonding or ion-bonding material is formed, whereby clustered ions generated by the solvation of polar molecules are emitted from the surface of the ion emissive material layer of either the covalent bonding or ion-bonding material on the surface of the conductive substrate.例文帳に追加

表面に、共有結合性あるいはイオン結合性材料のいずれかを含むイオン放出性材料層３が形成された導電性基板２に、正あるいは負の直流電圧を印加することにより、極性分子が溶媒和することで発生したクラスターイオンが導電性基板表面の前記共有結合性あるいはイオン結合性材料のいずれかの前記イオン放出性材料層表面から放出されることを特徴とする正あるいは負イオン放出素子１。 - 特許庁

The upper electrode 105 for a parallel-plate plasma processing apparatus includes a substrate 105a formed of a desired dielectric, and a dielectric layer 110 formed at least partially on the lower electrode 210 side surface of the plasma processing apparatus out of the surface of the substrate 105a, the dielectric layer 110 having a sparse and dense pattern where the outside of the lower electrode 210 side surface is denser than the inside.例文帳に追加

平行平板型のプラズマ処理装置用の上部電極１０５であって、所望の誘電体から形成された基材１０５ａと、前記基材１０５ａの表面のうち、少なくとも前記プラズマ処理装置の下部電極２１０側の表面の一部に形成された導電体層１１０と、を含み、前記導電体層１１０は、前記下部電極２１０側の表面の外側が内側より密になるように疎密のパターンを有する上部電極１０５が提供される。 - 特許庁

A thin film transistor substrate includes: a gate electrode formed on a substrate; an active layer including polycrystalline silicon formed on the gate electrode so as to overlap with the gate electrode; first ohmic contact layers formed on opposite sides of the gate electrode on the active layer; second ohmic contact layers formed on the first ohmic contact layers; and a source electrode and a drain electrode formed on the second ohmic contact layers.例文帳に追加

本発明の薄膜トランジスタ基板は、基板上に形成されたゲート電極、前記ゲート電極上に前記ゲート電極と重なるように形成され、多結晶シリコンを含むアクティブ層、前記アクティブ層上に前記ゲート電極を中心に両側に分離して形成された第１オーミックコンタクト層、前記第１オーミックコンタクト層上に形成された第２オーミックコンタクト層および前記第２オーミックコンタクト層上に形成されたソース電極およびドレーン電極を含む。 - 特許庁

In a method of manufacturing the organic EL device having a substrate, a pair of electrodes disposed on the substrate and an organic compound layer disposed between the electrodes, and sealed with a gas barrier film having a base material film and a gas barrier layer formed on the base material film, the gas barrier film is disposed on the electrodes to position the base material film of the gas barrier film on side faces of the electrodes.例文帳に追加

基板と、該基板上に設けられた一対の電極と、該電極の間に設けられた有機化合物層とを有する有機ＥＬ素子が、基材フィルムと、該基材フィルム上に設けられたガスバリア層とを有するガスバリアフィルムで封止された有機ＥＬ素子を製造する方法であって、前記ガスバリアフィルムを、電極上に、該ガスバリアフィルムの基材フィルムが電極側面に位置するように設けることを特徴とするガスバリアフィルムで封止された有機ＥＬ素子を製造する方法。 - 特許庁

In the pixel formation area preformed on a transparent substrate, an ink layer is formed by selectively sticking the curable color ink of ≥40 wt.% in solid-component density which contains a pigment and a curable component with an ink jet method, and the ink layer is cured by light irradiation and/or heat irradiation to form a prescribed pattern.例文帳に追加

透明基板上に予め形成される画素形成領域に、顔料および硬化可能な成分を含む固形分濃度が４０重量％以上である硬化性カラーインクを、インクジェット法によって選択的に付着させて、インク層を形成し、該インク層を、光照射および／または熱照射によって硬化させて所定のパターンを形成する。 - 特許庁

The primer composition comprises a thiol group-containing a silsesquioxane (A), a hydroxyl group-containing polyester resin (B), an organic solvent (C) and polyisocyanates having two or more isocyanate group (D); and the conductive film laminate has a primer layer obtained by thermally curing the primer composition provided between a plastic substrate and a conductive layer.例文帳に追加

チオール基含有シルセスキオキサン（Ａ）、水酸基含有ポリエステル樹脂（Ｂ）、有機溶剤（Ｃ）およびイソシアネート基を２以上有するポリイソシアネート類（Ｄ）を含有することを特徴とするプライマー組成物；当該プライマー組成物を熱硬化させて得られたプライマー層が、プラスチック基材および導電層の間に設けられた導電性フィルム積層体を用いる。 - 特許庁

The support has a porous layer formed by binding metal oxide particles with the compound, including a metal atom and phosphorous atom, on a substrate.The support has also an intermediate layer, including the composition containing alumina particles, particles with high void-ratio, phosphoric acid and aluminum compound as the principal component, on the substrate.例文帳に追加

基板上に、金属酸化物の粒子が金属原子とリン原子を含む化合物によって結着してなる多孔質層を有する平版印刷版用支持体、または基板上に、アルミナ粒子、高空隙粒子、燐酸、及びアルミニウム化合物を主成分として含有する組成物を含む中間層を有する平版印刷版用支持体。 - 特許庁

The semiconductor element is constituted by forming an AIN-based or GaN-based semiconductor layer 2 on a single-crystal substrate 1 and also bonding an electrode 3 onto the semiconductor layer 2, and the electrode 2 is formed of diboride single crystal represented as a general chemical formula XB_2 (X includes at least one kind from Ti and Zr).例文帳に追加

単結晶基板１上にＡｌＮ系もしくはＧａＮ系の半導体層２を形成するとともに、該半導体層２上に電極３を被着させた半導体素子において、前記電極３をＸＢ_２（ＸはＴｉもしくはＺｒの少なくとも１種を含む）の化学式で示される二棚化物単結晶により形成する。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor light-emitting element 1 absorbs in advance Si atoms 41 obtained by thermal decomposition of SiH_4, thereby forming a diffusion protection layer 31 composed of Si-doped InP with high impurity concentration on one surface of a semiconductor substrate 11 and side surfaces of a semiconductor mesa part 12 in the initial growth of a buried layer 13.例文帳に追加

半導体レーザ素子１の製造方法では、ＳｉＨ_４を熱分解して得られるＳｉ原子４１を予め吸着させることにより、埋込層１３の初期成長において、半導体基板１１の一面及び半導体メサ部１２の側面に、高不純物濃度のＳｉドープＩｎＰによる拡散防止層３１を形成する。 - 特許庁

The organic EL panel is formed with a light emitting display part 2 having a plurality of first electrodes 5 formed in line shape on a support substrate 1, a functional layer 8 formed on the first electrodes 5 and having at least an organic light emitting layer, and a plurality of second electrodes 9 formed in line shape to intersect the first electrodes 5.例文帳に追加

支持基板１上にライン状に複数形成される第一電極５と、第一電極５上に形成され少なくとも有機発光層を有する機能層８と、第一電極５と交差するようにライン状に複数形成される第二電極９とを有する発光表示部２を形成してなる有機ＥＬパネルである。 - 特許庁

The method for forming an image is carried out by using the above photoresist in steps of forming a photoresist layer on a substrate, irradiating the photoresist layer with light through a mask corresponding to a specified pattern, developing the photoresist film with a developing solution containing an alkali and removing the exposed part to form a positive image.例文帳に追加

更に、本発明によれば、基材上にフォトレジスト層を形成し、所望のパターンに対応するマスクを介して上記フォトレジスト層に光照射した後、得られたフォトレジスト膜をアルカリを含む現像液で現像し、露光部を除去して、ボジ型画像を形成する画像形成方法において、上記フォトレジストを用いる方法が提供される。 - 特許庁

The electrooptical device includes a thin film transistor formed on a substrate, a flattening film formed on the thin film transistor, an electrode formed on the flattening film and electrically connected to the thin film transistor, an EL layer formed on the electrode, and a passivation film formed on the EL layer.例文帳に追加

本発明に係る電気光学装置は、基板上に形成された薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタ上に形成された平坦化膜と、前記平坦化膜上に形成された、前記薄膜トランジスタと電気的に接続された電極と、前記電極上に形成されたＥＬ層と、前記ＥＬ層上に形成されたパッシベーション膜を有することを特徴とする。 - 特許庁

The method of manufacturing a display includes processes for forming a plurality of first conductors on a substrate, forming a layer containing the polymer dispersion cholesteric liquid crystal material on a preliminarily selected part of the first conductors, and forming a second conductor, electrically insulated from the first conductors, on the polymer dispersion cholesteric liquid crystal layer.例文帳に追加

基板上に複数の第一の導体を形成し、これら第一の導体のあらかじめ選択された部分にポリマー分散コレステリック液晶材料を含む層を形成し、このポリマー分散コレステリック液晶層の上に第二の導体を第一の導体から電気的に絶縁して形成することを含んでなるディスプレイの製造方法。 - 特許庁

The easily-releasable pressure-sensitive adhesive tape is formed by arranging an adhesive layer on at least one surface of a substrate film, the adhesive layer is formed by mixing a side-chain crystalline polymer with at least one selected from a straight silicone oil and a non-reactive silicone oil, and the adhesive strength thereof is reduced at a temperature lower than the melting point of the side-chain crystalline polymer.例文帳に追加

基材フィルムの少なくとも片面に粘着剤層を設けてなり、該粘着剤層が、側鎖結晶性ポリマーと、ストレートシリコーンオイルおよび非反応性シリコーンオイルから選ばれる少なくとも１種とを混合してなり、前記側鎖結晶性ポリマーの融点未満の温度で粘着力が低下する易剥離性粘着テープである。 - 特許庁

This tacky optical film is such that one side of an optical film is laminated with a tacky layer for sticking the film on the glass substrate of a liquid crystal panel; wherein it is characteristic that the ratio of the storage modulus (A) of the tacky layer at 20°C to that (B) at 100°C:A/B is ≤1.5.例文帳に追加

光学フィルムの一方の面に光学フィルムを液晶パネルのガラス基板に貼着するための粘着層が積層されている粘着型光学フィルムにおいて、前記粘着層の２０℃における貯蔵弾性率（Ａ）と１００℃における貯蔵弾性率（Ｂ）との比（Ａ／Ｂ）が１．５以下であることを特徴とする粘着型光学フィルム。 - 特許庁

When a prescribed AC voltage is impressed between the both electrode layers 2, 7 by a power supply part 8, ultraviolet emission is generated in the ultraviolet luminous layer 5, and this ultraviolet emission is converted into visible light emission in the fluorescent thin layers 4, 6, and the generated visible light emission is directly or, by being reflected by the upper electrode layer 7, outputted through the glass substrate 1.例文帳に追加

電源部８により両電極層２、７間に所定の交流電圧が印加されると、紫外発光層５において紫外発光が発生し、この紫外発光は蛍光薄層４、６において可視発光に変換され、生成された可視発光は直接および上部電極層７に反射されて、ガラス基板１を介し出力される。 - 特許庁

To provide a non-solvent type under-filling material, having a sufficiently close adhesion with a polyimide film together with a silicon wafer, and a mold-processing property (having a low viscosity and possibility of invasion in a relatively short time), and applicable for a flexible base substrate consisting of a thin copper layer and a polyimide film layer, and an electronic part applied with the above under-filling material.例文帳に追加

シリコンウエハ−とともにポリイミドフィルムに対する密着性が十分であり、成形加工性（低粘度、比較的短時間での侵入可能性）を有し、薄い銅層とポリイミドフィルム層とからなるフレキシブル基板に適用可能である無溶剤型のアンダ−フィル材料及びこのアンダ−フィル材を適用した電子部品を提供する。 - 特許庁

The method of growing a compound semiconductor, in which an InxGayAl1-x-yN layer (0≤x, y≤1) is grown on a GaAs substrate includes a process of adding group V elements, having an atomic radius larger than that of N, in a density that ranges from 1×1017 to 1×1023 cm-3, to the InxGayAl1-x-yN layer.例文帳に追加

本発明では、ＧａＡｓ基板上に、Ｉｎ_xＧａ_yＡｌ_1-x-yＮ層(０≦x,y≦１)を成長させる化合物半導体の成長方法において、該Ｉｎ_xＧａ_yＡｌ_1-x-_yＮ層に、原子半径がＮよりも大きいＶ族元素を1×１０^17ｃｍ^-3から１×１０^23ｃｍ^-3までの濃度範囲だけ添加する工程を含む化合物半導体の成長方法を提供する。 - 特許庁

Two kinds of 1st and 2nd mask layers 1 and 2 which have a large etching selection ratio are laminated and cut along the laminating direction to form a mask substrate and the 1st mask layer 1 is selectively etched by using a resist pattern as an etching mask to form a mask having a mask opening (beam transmission part) C determined by the film thickness d1 of the 1st mask layer 1.例文帳に追加

エッチング選択比の大きい２種類の第１および第２のマスク層１，２を積層し、積層方向に沿って切断することによりマスク基板を形成し、レジストパターンをエッチングマスクとして第１のマスク層１を選択的にエッチングすることで、第１のマスク層１の膜厚ｄ１によって決まるマスク開口（ビーム透過部）Ｃを有するマスクが形成される。 - 特許庁

In an electroluminescent element in which a transparent insulating sheet 2, a transparent electrode 3, a luminous substance (EL) layer 4, a dielectric layer 5, and a back plate 6 are laminated, the back plate 6 and a connecting wire 6a to apply a voltage to the back plate are formed by etching a copper foil formed on an insulating substrate.例文帳に追加

透明な絶縁シート２と、透明電極３と、発光体（ＥＬ）層４と、誘電体層５と、背面電極６とが積層されたエレクトロルミネッセンス素子において、前記背面電極６および背面電極に電圧を印加する接続線６ａが、絶縁基板上に形成された銅箔をエッチングすることにより形成されている。 - 特許庁

The purpose is attained by the actively driven organic electroluminescence display panel for forming the second electrode in a matrix by using an organic electroluminescence element having the element constitution, a substrate, the first electrode, an organic layer including at least a light emitting layer, and the second electrode, and taking out the emitting light from the second electrode side for the picture element light emitting parts.例文帳に追加

素子構成が基板／第一電極／少なくとも発光層を含む有機物層／第二電極であり、かつ第二電極側より発光を取り出す有機エレクトロルミネッセンス素子を画素発光部に用い、第二電極がマトリックス型に形成されてなるアクティブ駆動型有機エレクトロルミネッセンス表示パネルにより、上記の課題を解決する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a light-emitting device, which can not only improve use efficiency of an evaporation material but also increase accuracy in forming an evaporated pattern by using an evaporation donor substrate by which a material layer to be transfer layer is prevented from being excessively evaporated and a desired evaporated pattern can be formed.例文帳に追加

転写層となる材料層が余分に蒸着されるのを防ぐと共に所望の蒸着パターンを形成することができる蒸着用基板を用いることにより、蒸着材料の利用効率を高めるだけでなく、蒸着パターンを形成する上での精度を高めることができる発光装置の作製方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a metallic particulate sintered compact exhibiting a good electric conductivity by setting a heat treatment temperature to be used within a range not exceeding at least 200°C at the time of forming a metallic particulate sintered compact layer while a metallic particulate coating layer applied on a substrate is subjected to low-temperature thermal sintering.例文帳に追加

基板上に塗布された金属微粒子塗布層に対して、低温加熱焼結を施して金属微粒子焼結体層を形成する際、利用される加熱処理温度を少なくとも２００℃を超えない範囲として、良好な導電性を示す金属微粒子焼結体を簡便に、高い再現性で作製可能な方法の提供。 - 特許庁