「temperature method」に関連した英語例文の一覧と使い方(403ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method of manufacturing the MnAlC-system alloy magnet, the powder of MnAlC-system alloy is sintered for 1 to 10 hrs at 1,323 to 1,473K and thereafter the sintered powder is molded at the warm extruding temperature in the range of 933 to 1,023K.例文帳に追加

ＭｎＡｌＣ系合金磁石の製造する方法において、該ＭｎＡｌＣ系合金からなる粉末を焼結温度１３２３〜１４７３Ｋで焼結時間１〜１０ｈｒにて焼結した後、押出温度９３３〜１０２３Ｋなる条件で温間押出にて成形したＭｎＡｌＣ磁石の製造方法。 - 特許庁

To provide an ink jet recording device and a method of ink jet recording which inhibit the excessive temperature rise of a recording head and an evil accompanying with this as much as possible without complicating a recording device body and controlling and without generating density unevenness and hue unevenness which are conspicuous in the outputted image.例文帳に追加

記録装置本体および制御を複雑にすることなく、また出力される画像において目立った濃度むらや色相むらを生じさせることなく、記録ヘッドの過昇温やこれに伴う弊害を極力抑制するインクジェット記録装置およびインクジェット記録方法を提供する。 - 特許庁

This organic waste treatment method comprises the following steps (a) and (b): (a) a step of decomposing an organic substance contained in organic waste at a temperature of 60°C or above by methane fermentation sludge and (b) a step of subjecting the decomposition product produced in step (a) to methane fermentation under an anaerobic atmosphere.例文帳に追加

以下の工程(a)及び(b)を含有する有機性廃棄物の処理方法：(a)６０℃以上の温度条件下で、有機性廃棄物に含まれる有機物をメタン発酵汚泥により分解する工程、及び(b)工程(a)で得られた分解物を嫌気性雰囲気下でメタン発酵する工程。 - 特許庁

To cancel the variance of individual heads and to enable to cope with also the change in the state of a medium due to the temperature variation as to the write/read control method and the controller in a magnetic disk device provided with a circuit for variably controlling a write current.例文帳に追加

本発明はライト電流を可変に制御する回路を備えた磁気ディスク装置におけるライトリード制御方法及び制御装置に関し，個々のヘッドのばらつきをキャンセルし，また温度変化による媒体状況の変化にも対応することができることを目的とする。 - 特許庁

To provide an exhaust cleaning catalyst, an exhaust cleaning system, and an exhaust cleaning method having a high activity with respect to low temperature exhaust discharged from an internal combustion engine being started up or run at a low load capable of exhibiting excellent cleaning capacity even if carbon monoxide (CO) and hydrocarbon (HC) are present therein.例文帳に追加

内燃機関の始動時や低負荷時の低温の排気ガスに対しても活性が高く、また、一酸化炭素（ＣＯ）と炭化水素（ＨＣ）が共存していても高い浄化能力を発揮できる排気ガス浄化触媒、排気ガス浄化システム及び排気ガス浄化方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for depositing a low dielectric film by vacuum ultraviolet CVD in which an insulation film having low dielectric film quality equivalent to or better than that of an Si based organic film (SiOF film, SiOC film) formed by plasma CVD can be deposited at a temperature not higher than 350°C.例文帳に追加

プラズマＣＶＤによるＳｉ系有機膜（ＳｉＯＦ膜、ＳｉＯＣ膜）と同等以上の低誘電体膜質を持つ絶縁膜を、３５０℃以下の低温にて製造することができる真空紫外光ＣＶＤによる低誘電体膜の製造方法を提供する。 - 特許庁

In the finish heat treatment method for iron powder where, while continuously moving iron powder 7, it is subjected to one or more kinds of treatments among decarburizing, deoxidizing and denitriding, after the iron powder is directly contacted with heated gas (high temperature and nonoxidizing gas 52) and is preheated, the above treatment(s) is performed.例文帳に追加

鉄粉７を連続的に移動させつつ、これに脱炭、脱酸、脱窒のうち１種または２種以上の処理を施す鉄粉の仕上熱処理方法において、該鉄粉を加熱気体（高温かつ非酸化性の気体５２）と直接接触させて予熱した後に前記処理を行なう。 - 特許庁

To provide the manufacturing method of a semiconductor device for using a mask material that has excellent dry etching resistance and can be formed at low temperature to achieve a fine via hole and a high yield in a semiconductor via hole-machining process, and achieving a high-performance ultra-high-frequency semiconductor device.例文帳に追加

半導体ヴィアホール加工工程において、ドライエッチング耐性良好、かつ低温において形成可能なマスク材料を使用することにより、ヴィアホール微細化や高歩留まり化を達成させ、高性能な超高周波半導体装置が実現できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the thin amorphous alloy strip by rapidly cooling and casting a molten alloy comprises polishing the cooling roll while supplying 7 the gas essentially composed of CO_2 toward the molten alloy during casting and the nanocrystal alloy formed with fine nanocrystals by heat treatment at a crystallization temperature or above in this steel strip.例文帳に追加

合金溶湯を冷却ロール５上で急冷、鋳造するアモルファス合金薄帯の製造方法であって、鋳造中に上記合金溶湯に向かってＣＯ_２を主体とするガスを供給しつつ７、冷却ロールの研磨を行うアモルファス合金薄帯の製造方法。 - 特許庁

Since the use of a dielectric material having an extremely high temperature-dependency of a dielectric constant can achieve voltage amplification efficiently by using exhaust heat energy, the new usage of exhaust energy is provided, and the voltage amplification method which causes no failure because a mechanical driving section is omitted.例文帳に追加

誘電率の温度依存性が極めて高い誘電体材料を利用すれば、排熱エネルギーを用いて電圧増幅を効率的に実現できるから、排熱の新規利用方法を提供するもので、機械的駆動部が無いので故障等が生じない電圧増幅方法を提供できる。 - 特許庁

(2) The method of manufacturing the solid fuel includes an adsorption ability enhancing step of treating a mixture of the organic sludge and the used activated carbon, to enhance an adsorption ability of the used activated carbon (excepting high-temperature treatment), after the step of mixing the organic sludge and the used activated carbon.例文帳に追加

２）有機性汚泥と使用済み活性炭を混合する工程の後、有機性汚泥と使用済み活性炭の混合物に対して、使用済み活性炭の吸着能を向上する処理を施す吸着能向上工程（ただし、高温処理を除く）を含む、固形燃料製造方法。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing apparatus equipped with a lamp annealing unit, which realizes the temperature rises or drops quickly so as to thermally diffuse impurities into an impurity diffusion region accurately and quickly in a semiconductor device, and to provide a method of manufacturing the semiconductor device using the semiconductor manufacturing device.例文帳に追加

半導体装置における不純物拡散領の熱拡散などを迅速的確に行うために、ランプアニール装置の高速昇降温を実現する半導体製造装置及びこの半導体製造装置を用いた半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

In a method for heating the steel material containing 0.05-3 mass% Cu precedent to the hot-rolling, the steel material is heated in an auxiliary atmosphere having ≤ 5 vol% steam under state of the lowest temperature of the steel material surface at ≥ 1,080°C.例文帳に追加

Ｃｕを０．０５質量％以上３質量％以下含有する鋼材を熱間圧延に先立ち加熱する方法において、鋼材の表面の最低温度が１０８０℃以上である状態で、水蒸気が５容量％以下である酸化性雰囲気内で鋼材を加熱する鋼材の加熱方法。 - 特許庁

To provide a method for operating a direct reducing furnace using preheated raw materials by which a high product reducing ratio is secured by suppressing excessive temperature rise and fusion at the lower part of the furnace, the direct reducing furnace being a type of a shaft furnace producing reduced iron by using gas mainly containing hydrogen.例文帳に追加

水素を主体としたガスを用いて還元鉄を製造するシャフト炉方式の直接還元炉において、下部での過剰な昇温と融着を抑制し、高い製品還元率を確保する予熱原料を使用した直接還元炉の操業方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor wafer structure which makes the interior of a wafer surface uniform in reflection factor, in order to acquire an uniform temperature change over a wafer whole region, when a rapid thermal annealing process of a semiconductor structure including a combination of different semiconductor materials is carried out.例文帳に追加

異なる半導体材料の組み合わせを含む半導体構造の急速熱アニール・プロセスを実施する時に、ウェハ全域にわたる一様な温度変化を得るため、ウエハー面内を一様な反射率にする半導体ウェハ構造体の製造方法を提供する。 - 特許庁

This method for manufacturing a pneumatic tire comprises a heating step of inner heating for heating a green tire placed in a mold from the inner cavity side by filling a high temperature heating medium in the inner cavity of the tire, and outer heating for heating the green tire from the outer surface side by heating the mold.例文帳に追加

金型内に装填した生タイヤのタイヤ内腔内に、高温の加熱媒体を充填して前記生タイヤをタイヤ内腔側から加熱する内側加熱と、前記金型を加熱して前記生タイヤをタイヤ外面側から加熱する外側加熱とからなる加熱工程を含む。 - 特許庁

To provide a Pb-free new brazing filler metal sheet in which the problems on thermal damage caused by the increase of joining temperature and the reduction in heat radiability due to a gap caused in a joint are solved, to provide its production method, and to provide a package for electronic parts.例文帳に追加

本発明の目的は、接合温度の上昇に起因する熱的損傷や接合部内に発生する空隙に起因する放熱性低下の問題を解決した、Ｐｂを含有しない新規なロウ材シートとその製造方法ならびに電子部品用パッケージを提供することである。 - 特許庁

To provide a production method whereby hollow polymer particles having a uniform size and a high porosity, especially hollow polymer particles useful as a light-scattering agent or a light-scattering assistant for a coating or coating composition for paper, fibers, leather, etc., can be efficiently produced at a relatively low temperature under normal pressure.例文帳に追加

粒子径が均一で、かつ空孔率の高い中空ポリマー粒子、特に、紙、繊維、皮革等のコーティング、塗料等の用途における光散乱剤又は光散乱助剤として有用な中空ポリマー粒子を、常圧で比較的低温で効率良く製造することが可能な方法を提供する。 - 特許庁

In the manufacturing method of a magnesium alloy formed component, magnesium alloy with an initial-stage crystal-grain size of 300 μm or less is put into a molding die and formed by pressure under the condition that it is heated to and held at the temperature of solid and liquid coexistent phase with a solid phase rate of 30-80%.例文帳に追加

本発明のマグネシウム合金成形部品の製造方法は、初期の結晶粒径が３００μｍ以下のマグネシウム合金を固相率３０〜８０％の固液共存温度に加熱保持した状態で成形用金型内に装入し加圧成形することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a waste treatment method for enhancing treatment efficiency by improving the heat conductivity of a material to be treated as a heating system of waste using an oxygen/hydrogen fuel which is clean, reduced in the generation of an exhaust gas, and having good heat efficiency capable of obtaining a high temperature.例文帳に追加

クリ-ンでかつ排ガスが少なく、かつ高温度が得られる熱効率の好い酸水素ガス燃料を使用する廃棄物の加熱システムとして、被処理物の熱伝導性改善によって処理効率を向上させる廃棄物の処理方法を提供することである。 - 特許庁

The method comprises storing the plant seed under a condition of exposing the seed in an electromagnetic field of 50-60 Hz frequency so as to suppressing decrease of the plant seed germination rate under a storing condition of a high temperature and a high humidity.例文帳に追加

前記課題を解決するために、本発明は、高温および高湿度の保存条件下における植物の種子の発芽率の低下を抑制する方法であって、50〜60Ｈｚの周波数の電磁場に暴露させながら前記種子を保存することを特徴とする方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heating control/regulate method capable of making the film thickness of a resist formed on a substrate uniform among a plurality of heat treatment units for heating a semiconductor substrate by reducing the temperature difference of a heating plate among the units, and to provide a heat treatment unit and a heat treatment system.例文帳に追加

半導体基板を加熱する複数の熱処理ユニットにおいて、ユニット間における加熱プレートの温度差を小さくすることにより、基板上に形成されるレジストの膜厚をユニット間で均一化することができる加熱制御調整方法、熱処理ユニット及び熱処理システムを提供する。 - 特許庁

To easily produce aluminum-doped particulate synthetic silica which can be limited to be in a particulate state and is highly pure, durable at a high temperature, and useful as a raw material of a quartz crucible or the like, by applying a conventional production method for synthetic silica.例文帳に追加

アルミニウムドープ合成シリカを粉粒状に制限することができ、高純度で且つ高温耐久性を有し石英坩堝等の原料として有用な粉粒状のアルミニウムドープ合成シリカを、従来の合成シリカの製造方法を応用して、容易に製造することのできる方法を提供すること。 - 特許庁

To provide machine parts which unnecessitates scale removing processing after induction hardening and is capable of performing correspondence according to in-line processing, reducing the cost, moreover reducing a deformation after the induction hardening and prolonging the endurance life in a high-temperature environment, and to provide a manufacturing method of the machine parts.例文帳に追加

高周波焼入れ後のスケール除去加工が不要でインライン化対応が可能となり、コストの低減を達成でき、しかも、高周波焼入れ後の変形を減少させることができ、高温雰囲気中での耐久寿命を延ばすことができる機械部品およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a gas metal arc welding method for performing the gouging-less complete joint penetration capable of obtaining a double-welded joint of complete penetration free from any high-temperature crack without requesting any gouging step even to a long joint in which tack welding is necessary for joint constraint within groove faces.例文帳に追加

ガウジング工程を要することなく、かつ、開先面内に継手拘束のための仮付け溶接が必要な長尺継手に対しても、高温ワレのない完全溶込みの両面溶接継手を得ることができるガウジングレス完全溶込み溶接を図るガスメタルアーク溶接方法を提供する。 - 特許庁

The molded item is composed of a resin composition that comprises a propylene-ethylene copolymer having an ethylene unit content of at most 20 mol% and an [EEE] triad chain fraction f_EEE of at most 0.1 mol%, and gives fractionated components by the temperature-raising elution fractionation method (TREF) that satisfy the requirements below.例文帳に追加

エチレン単位含量が２０モル％以下で、〔ＥＥＥ〕のトリアッド連鎖分率ｆ_EEEが０．１モル％以下のプロピレン−エチレン共重合体を含み、且つ温度昇温溶離分別法（ＴＲＥＦ）により分別される成分が下記要件を満足する樹脂組成物からなる成形体。 - 特許庁

The method of manufacturing the wiring board contains a process unitedly baking a metallizing layer mainly comprising a ceramic green sheet and copper powder, and the copper powder is coated with a metal oxide causing vitrification at 700-800 °C and ±50 °C of contraction starting temperature of the green sheet.例文帳に追加

セラミックグリーンシートと銅粉末を主成分とするメタライズ層を一体焼成して形成される配線基板の製造方法において、前記銅粉末に７００〜８００℃かつ、前記グリーンシートの収縮開始温度の±５０℃の温度域でガラス化する金属酸化物を被覆したことを特徴とする。 - 特許庁

In a method for heating and/or drying a flowable bulk material, synthetic resin granule in particular, wherein the material is supplied to a processing machine, an injection molding machine in particular, a high- temperature air flow 18 runs through transversely to the flowing direction of the flowable bulk material.例文帳に追加

ばら物が加工機械、特に射出成形機に供給される、流動可能なばら物、特に合成樹脂顆粒を加熱およびまたは乾燥するための方法において、高温空気流１８は流動するばら物４をその流動方向に対して横方向に流通する。 - 特許庁

In the manufacturing method, paint which is solid at a normal temperature is dissolved and continuously and automatically supplied and the dissolved paint is applied to the plurality of the sheathing wires when the plurality of the sheathing wires pass through a coating device (14).例文帳に追加

この製造方法は、加工ラインに配置した塗料塗布装置（１４）に、常温では固体である塗料を溶解して連続的に、かつ、自動的に供給すると共に、複数の外装線が塗料塗布装置を通過するとき、複数の外装線に溶解した塗料を塗布することを含む。 - 特許庁

To provide a method for producing an extracted solution from tea leaves to be used to make tea drinks having slight bitterness and astringency, and body and deliciousness without producing sediment through effectively extracting active ingredients from the tea leaves at a low temperature in a short time.例文帳に追加

本発明は、低温かつ短時間で効率的に茶葉から有用成分が抽出できることにより、苦渋味が少なく、澱が生成しないコクと旨みを有する茶飲料とすることができる茶葉抽出液の製造方法を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The process temperature of a process of growing a silicon epitaxial layer by a CVD method on the silicon crystal substrate doped with, for example, phosphorus and germanium together during the growth of silicon crystal is set within a range of 1,000 to 1,090°C (preferably, 1,050 to 1,080°C).例文帳に追加

シリコン結晶育成時に例えばリンとゲルマニウムが一緒に高濃度ドープされたシリコン結晶基板上に、シリコンエピタキシャル層をＣＶＤ法で成長させるプロセスにおいて、そのプロセス温度を１０００〜１０９０℃の範囲内（より望ましくは、１０５０〜１０８０℃）の範囲内にする。 - 特許庁

To provide a method for producing aromatic polycarbonate, which can enhance mechanical properties of molded products to a ductile range, can reduce the number of internal stressed point of sheet, can prevent transparency from lowering, and can minimize the number of white points generated under high-temperature high-humidity conditions.例文帳に追加

成形品の機械的物性を延性領域に高めることができ、シートのひずみ点の数を減少させることができそして透視性の低下を防ぐと共に、高温高湿条件下発生する白点を最小限にできる芳香族ポリカーボネートの製造方法の提供。 - 特許庁

This treating method comprises heating the copper-etching waste liquid containing sulfuric acid, hydrogen peroxide, and a hydrogen peroxide stabilizer composed of an organic compound to 60-80°C, keeping the liquid in the same temperature range for 0.5-10 hours to decompose hydrogen peroxide, and then recovering a copper component as metallic copper through electrolysis.例文帳に追加

硫酸、過酸化水素及び有機化合物からなる過酸化水素安定剤を含有する銅エッチング廃液を６０〜８０℃に加熱し同温度範囲に０．５〜１０時間維持して過酸化水素を分解した後に、電気分解して銅成分を金属銅として回収する。 - 特許庁

The method for producing the rice protein includes the step of forming the aggregate of the rice protein in a state that the rice protein-containing extract liquid obtained by immersing rice or rice flour in an alkaline solution is placed at a predetermined temperature of not less than 40°C, and recovering the aggregate.例文帳に追加

米タンパク質組成物の製造方法は、米又は米粉をアルカリ性溶液に浸漬して得られる米タンパク質含有抽出液を、４０℃以上の所定温度においた状態で米タンパク質の凝集体を生成させ、この凝集体を回収する工程を有する。 - 特許庁

To provide a member for fixing, a method for manufacturing it and a device for forming images having it that excels in heat resistance, flexibility and toner mold release properties, and improves the gloss of the image, the uneven gloss of image, and a fixed temperature range by making a surface smooth without cracks.例文帳に追加

耐熱性、柔軟性及び対トナー離型性に優れ、しかも、クラックのない平滑な表面にして画像の光沢、画像の光沢ムラ及び定着温度幅を向上させた定着用部材及びその製造方法並びにそれを有する画像形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a power conversion apparatus which is provided with a cooling structure using a refrigerant and can extend a service life of a power device with respect to temperature cycle and service lines of pumps, valves, etc. by a simple control method composed of a small number of detectors and devices, and can surely prevent dew condensation.例文帳に追加

冷媒を用いる冷却構造を有し、少ない検出器、装置で構成した簡単な制御方法により、パワーデバイス素子の温度サイクルに対する寿命やポンプ、バルブ等の寿命を延命することができ、且つ、結露を確実に防止することができる電力変換装置を提供する。 - 特許庁

To provide an ultra-hydrophilic coating film having a photocatalytic function, which can be formed easily even on the surface of a base material having a large area and a complicated shape in the atmosphere at normal temperature, has durability and can exhibit the photocatalytic function satisfactorily and to provide a method for forming the coating film having the photocatalytic function.例文帳に追加

大気中かつ常温で簡単に施工でき、大面積で複雑形状の基材表面にも耐久性のある皮膜を形成可能で、しかも光触媒機能を十分に発揮可能な超親水性の光触媒機能皮膜及びその形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an image forming method by which sufficient fixing strength can be obtained at low temperature, e.g., 120°C, excellent print images with no belt-like or streak image defect can be obtained, and no document offsetting is generated even though the superimposed print images are stored.例文帳に追加

低温（例えば１２０℃）の定着温度において、十分な定着強度で定着され、帯状やすじ状の画像欠陥が無い良好なプリント画像が得ら、該プリント画像を重ねて保存してもドキュメントオフセットが発生しないプリントが得られる画像形成方法の提供。 - 特許庁

To provide a firing method for preventing the crack due to the thermal stress caused by a temperature difference in the central part, outer peripheral part and/or upper and lower parts of a honeycomb structure in a warm-up process in firing the large-sized honeycomb structure of an external diameter ≥150 mm and length ≥150 mm.例文帳に追加

外径１５０ｍｍ以上、長さ１５０ｍｍ以上の大型ハニカム構造体を焼成するにあたり、昇温過程での、ハニカム構造体の中心部、外周部及び／または上下部の温度差から発生する熱応力による割れを防止しできる、焼成方法を提供する。 - 特許庁

To reduce cost in mass production of an SiCOI construction substrate with regard to a method to grow a cubic silicon carbide (3 C-SiC) crystal film with orientation (100) at relatively low substrate temperature.例文帳に追加

３Ｃ−ＳｉＣによる高周波デバイスやセンサー等の電子デバイスの作製において、ＳｉＣＯＩ構造が知られているものの、３Ｃ−ＳｉＣ膜をＳｉの熱酸化膜上へ直接成長させることによってＳｉＣＯＩ構造を形成する技術はこれまで報告されていない。 - 特許庁

The method for culturing the plant of the aster family comprises culturing tissue fragments of the plant of the aster family on a solid medium containing a plant hormone in a bright place under a temperature condition of 12-22°C and growing the fragments by forming adventitious buds to regenerate the plant bodies comprising a plurality of the adventitious buds.例文帳に追加

キク科植物の組織片を、１２℃〜２２℃の温度条件で植物ホルモンを含んだ固体培地で明所下に培養して、不定芽を形成して伸長させることにより、複数の不定芽からなる植物体を再生させることを特徴とする、キク科植物の培養方法。 - 特許庁

The method for manufacturing the magnetic body holding particulate comprises a stage for bringing a magnetic body raw material which is a solid soluble in a liquid or an organic solvent at room temperature and is changed into the magnetic body by heat treatment into contact with a hollow particulate and a stage for changing the magnetic body raw material into the magnetic body by the heat treatment.例文帳に追加

中空微粒子に、室温で液体または有機溶剤に溶解する固体であって加熱処理により磁性体となる磁性体原料を接触させる工程と、加熱処理により磁性体原料を磁性体にする工程とを含む磁性体保持微粒子の製造方法。 - 特許庁

The termite repellent timber in which a paraffin barrier layer is formed in a timber outer layer tissue is obtained by dipping a timber in a molten paraffin bath for a predetermined time, then pouring the paraffin in the timber by a warm/cold bath method for immersing in the molten paraffin bath at a temperature lower than the previous paraffin bath and then taking out the timber and cooling the timber.例文帳に追加

木材を溶融パラフィン浴に所定時間浸漬後、これよりも低い温度の溶融パラフィン浴に浸漬する温冷浴法によりパラフィンを材内に注入後、これを取り出して冷却することにより、木材外層組織にパラフィンバリア層が形成されたシロアリ忌避木材を得る。 - 特許庁

The method for producing a silica glass product comprises casting a silica glass slurry having an average particle diameter of 6 to 15 μm and a solids concentration of 70 to 85 mass% into a mold, subjecting the casting to decontamination after drying, and vitrifying it by heating to a high temperature on a glassy-carbon-coated and/or -impregnated carbon support.例文帳に追加

平均粒径が６〜１５μｍで、固形分濃度が７０〜８５質量％のシリカガラススラリーを成形型に鋳込み、乾燥し、純化処理したのち、ガラス状カーボン被覆及び/又は含浸カーボン支持体上で、高温加熱下でガラス化することを特徴とするシリカガラス製品の製造方法。 - 特許庁

To provide a thin-film-forming method which forms a thin film of high quality, and especially the thin-film made from a fluoride having adequate adhesiveness to a substrate, a high degree of denseness, high hardness and high quality even on a substrate of a low temperature, and to provide a thin-film-forming apparatus therefor.例文帳に追加

高品質の薄膜の形成が可能となり、中でも低い基板温度環境において、基板との密着性が良好で、緻密性が高く、硬度の高い、高品質のフッ化物薄膜の形成が可能となる薄膜形成方法および薄膜形成装置を提供する。 - 特許庁