研磨パッドは、研磨作用を有する物質を含んでいない。例文帳に追加

The polishing pad does not contain a material that has polishing action. - 特許庁

各研磨作用面に研磨砥粒を固定した表面研磨用の研磨布１５と裏面研磨用の研磨布１４とにより、表裏両面を高い平坦度で研磨できる。例文帳に追加

A polishing cloth 15 for front side and a polishing cloth 14 for backside wherein polishing particles are fixed on the respective polishing work surfaces are used to polish both sides in high flatness. - 特許庁

研磨中、研磨ヘッド１２の下面に突設されたテンプレート１６が研磨布１３の研磨作用面に押し当てられる。例文帳に追加

A template 16 protrusively arranged on the lower surface of a grinding head 12 is pushed against the grinding surface of the grinding cloth 13 during grinding. - 特許庁

この状態のまま、研磨布１３上に研磨剤を供給しながら研磨ヘッド１２を回転し、シリコンウェーハＷの表面を研磨布１３の研磨作用面に押し付けて研磨する。例文帳に追加

While keeping the state, a polishing head 12 is rotated, while supplying an abrasive onto a polishing cloth 13 and the surface of the silicon wafer W is pressed to the polishing surface of the polishing cloth 13 and polished. - 特許庁

研磨体の研磨層に用いる研磨剤であって、研磨作用と共に、水性または油性液体の供給能が付与されたマイクロスフェアー型研磨剤とそれを用いて製造された研磨の際に水などを新たに滴下する必要のない研磨体を提供する。例文帳に追加

To obtain a microsphere-type abrasive to be used for the abrasive layer of an abrasive form and imparted with the ability to feed an aqueous or oily liquid as well as abrasive action, and to provide such an abrasive form made by using the above abrasive and unnecessary for newly dripping water, or the like, in making an abrasion. - 特許庁

電解研磨液Ｅ中で、研磨対象となる金属膜表面を電解作用によって酸化しながら当該金属膜表面に研磨パッド１５を摺動させて平坦化を行う電解研磨方法であって、上記電解研磨液Ｅは、少なくとも研磨砥粒と、上記研磨砥粒の帯電状態を維持する電解質とを含有する。例文帳に追加

The electrolytic polishing liquid E contains at least the abrasive grains and electrolytes to maintain static charged state of the abrasive grains. - 特許庁

これにより、シリコンウェーハＷを研磨しながら研磨作用面がドレッシングされる。例文帳に追加

As the result of this operation, the dressing of a grinding surface is carried out while grinding the silicon wafer W. - 特許庁

シリコン基板研磨時、塩素含有化合物が促進剤として作用し、研磨速度が向上する。例文帳に追加

When the silicon substrate is polished, the chloride-containing compound acts as an accelerator, thereby improving the polishing speed. - 特許庁

研磨砥粒を含む研磨液を用いて研磨する研磨工程によりマスクブランク用基板表面を研磨した後、該基板表面に高濃度のオゾンガスを作用させる。例文帳に追加

After the surface of the substrate for the mask blank is polished in a polishing step of polishing a substrate using a polishing liquid containing polishing grains, the surface is acted upon by high concentration ozone gas. - 特許庁

バレル１１内に投入した研磨剤２０を研磨対象物３０に接触させ、バレル１１内の研磨剤２０に超音波１２を作用させて、研磨剤２０を振動させるマイクロバレル研磨方法。例文帳に追加

In this microbarrel polishing method, the polishing agent 20 fed into a barrel 11 is brought into contact with the polishing object 30, ultrasonic waves 12 are applied to the polishing agent 20 within the barrel 11 and the polishing agent 20 is vibrated. - 特許庁

研磨パッドを真空吸着作用で着脱可能に保持する研磨装置において、研磨パッドが低剛性のものであっても、真空度を維持するためのシール部材が研磨パッドに転写されず高い平面度の研磨を達成する。例文帳に追加

To attain high flatness polishing without transferring of seal members for maintaining vacuum to a polishing pad even when the polishing pad is of low stiffness in a polishing device detachably holding the polishing pad by vacuum suction. - 特許庁

被研磨物の後面に加わる圧力をウエハーの全体面にわたって均等に作用させ被研磨物の研磨厚さを均一にする研磨装置及び研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide a polishing device for evenly allowing the pressure applied on the back surface of a polishing article to act over the entire surface of a wafer, thereby making polishing thickness of the polishing article even. - 特許庁

例えば上下側研磨布１３，１４の使用で、両研磨布１３，１４の布表面が目詰まりしたり、形状崩れが起きた場合は、研磨布シーズニング治具１０により、研磨布１３，１４の研磨作用面をシーズニングする。例文帳に追加

If for example the use of an upper 13 and a lower polishing cloth 14 has caused clogging of the cloth surfaces or a collapse of the shape, the acting surfaces of the cloths 13 and 14 are subjected to a seasoning process using a polishing cloth seasoning jig 10. - 特許庁

被研磨面Ｅ１には、研磨剤供給部１２から光触媒作用を有する研磨剤１２Ｃが供給される。例文帳に追加

A polishing agent 12C having a photocatalyst function is supplied from a polishing agent supply section 12 to the surface E1 to be polished. - 特許庁

研磨ブラシ７の周囲では白米の移送速度が低下するので、白米の表面は研磨ブラシ７の研磨作用を受けやすくなる。例文帳に追加

Since the transfer speed of the polished rice is lowered in the periphery of the polishing brush 7, the surface of the polished rice becomes easy to receive the polishing action of the polishing brush 7. - 特許庁

研磨具から被研磨材に作用する負荷を相殺し、装置の振動を低減して、研磨装置の大型化を容易にする。例文帳に追加

To facilitate a grinding device to grow in size by canceling loads acting from grinding tools on members to be ground to reduce a vibration of a device. - 特許庁

残留トナーの排出速度が高くなっても研磨手段（研磨ローラ６，クリーニングブレード９）と研磨トナーの相互作用で感光体１を研磨するシステムにおいて、研磨手段の周辺に滞留部を形成させて、常に一定の研磨力が得ることができる画像形成装置を提供すること例文帳に追加

To provide an image forming device capable of always obtaining the specific grinding force by forming a residing part on the surroundings of a grinding means, in a system for grinding a photoreceptor by an interaction of the grinding means and grinding toner even if discharging speed of the residual toner is accelerated. - 特許庁

Ｍｎ酸化物を砥粒とする研磨剤において、研磨剤の廃棄物量を低減するとともに、金属層に選択的に作用し、酸化膜で研磨が停止する選択性の高い研磨剤およびかかる研磨剤を使った研磨方法を提供する。例文帳に追加

To provide an abrasive containing Mn oxide as abrasive grain in which the amount of waste of the abrasive is reduced and which has high selectivity in selectively acting on a metal layer and stopping polishing at an oxide film, and to provide a polishing method with the abrasive. - 特許庁

磁気研磨の際に、錆が発生せず、被加工物を傷つけることがなく、かつ、被加工物に対して研磨材が偏らずに均等に作用して、良好な加工面が得られるための磁気研磨用研磨材、加工液、および磁気研磨用研磨材の製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide an abrasive for magnetic polishing, a processing liquid and a manufacturing method of the abrasive for magnetic polishing, for providing a superior processing surface, by uniformly acting on a workpiece without deviating the abrasive, without damaging the workpiece, without generating rust, in the magnetic polishing. - 特許庁

研磨装置の研磨液に界面活性剤を添加すると、界面活性剤の減摩作用により、研磨装置の研磨布の機械作用を減少させることができる。例文帳に追加

When a surface active agent is added to a polishing solution used by a polishing device, the mechanical action of the polishing cloth of the polishing device can be reduced by the lubricating action of the agent. - 特許庁

ワークの研磨面に対し、ポリシャの研磨荷重を常に法線方向に作用させるとともに所定の研磨荷重を安定的に作用させ、高精度な研磨加工を行う。例文帳に追加

To effect high-precision polishing by always applying the polishing load of a polisher in a normal direction to the polished surface of a workpiece, and stably imposing a predetermined polishing load. - 特許庁

被研磨基板の加工面に作用する研磨圧力に多少の変動が生じても研磨量を正確に制御することができる基板研磨装置を提供する。例文帳に追加

To provide a base board polishing device capable of accurately controlling a polishing quantity, even if a little variation is caused in polishing pressure acting on a processing surface of a polishing object base board. - 特許庁

また、研磨材を使った研磨又は切断加工中に加工装置と研磨材の間で生じるメカノケミカル的な作用により研磨材を担磁させて超電導磁気分離により回収する。例文帳に追加

The abrasive material is magnetized by mechanical action occurring between a working device and an abrasive material during polishing or cutting work in which abrasive material is used, and are collected by the super-conductive magnetic separation. - 特許庁

研磨加工中に前記研磨定盤３の作用面上の遊離砥粒および研磨カスを除去する円筒状のクリーニング部材１０を前記研磨定盤３の作用面に回転可能に当接せしめ、その回転により前記遊離砥粒および研磨カスを、常時作用面より除去することにより、作用面全体の研磨レートを安定に保つ。例文帳に追加

A cylindrical cleaning member 10 which removes a suspended abrasive grain and ground scraps on the operation surface of the grinding surface plate 3 is allowed to rotatably contact the operation surface of the grinding surface plate 3 in grinding processing, the grinding rate of the whole operation surface is stably maintained by regularly removing the suspended abrasive gain and ground scraps from the operation surface by the rotation. - 特許庁

研磨作用を有する洗浄剤配合物におけるポリアスパラギン酸の使用例文帳に追加

USE OF POLYASPARTIC ACID IN DETERGENT COMPOSITION HAVING POLISHING ACTION - 特許庁

大豆の研磨作用の効率をよくして商品価値を高める。例文帳に追加

To improve the efficiency in polishing actions on soybeans and raise the merchandise value. - 特許庁

テーパー状の異形孔であるアプローチ部を有するダイス２に外部から側圧をかけてアプローチ部の内周面と研磨治具１９の研磨部との間に押し付け力を作用させつつ、研磨剤を入れ、研磨治具１９を上下動させてアプローチ部の内周面を研磨する。例文帳に追加

An internal peripheral surface of an approach section is polished by moving up and down a polishing jig 19 by pouring a polishing agent while pushing force is applied between the internal peripheral surface of the approach section and a polishing section of the polishing jig 19 by applying side pressure on the die 2 having the approach section being the tapered variant hole from the outside. - 特許庁

被研磨体の研磨するための固定砥粒研削研磨用工具において、メカノケミカル作用を発現させるために水を添加した状態で長時間研削作業を行った場合でも、研削研磨性能が劣化しない実用性に優れた固定砥粒研削研磨用工具を提供する。例文帳に追加

To provide a stationary abrasive grain grinding and polishing tool for polishing a body to be polished, preventing deterioration of grinding and polishing performance to keep excellent practicality even in the case of performing grinding work in the state of adding water for exhibiting the mechano-chemical action for a long time. - 特許庁

Ａ作用部においては、流入する研磨液によって旋回流を生じさせ、それによって粒状研磨材を分級し、Ｂ作用部における粒状研磨材の溶媒からの沈降分離が促進される。例文帳に追加

In the working section A, spiral flow is generated by the polishing liquid flowing therein, by which the granular abrasive is classified and the sedimentary separation of the granular abrasive in the working section B from the solvent is promoted. - 特許庁

しかし、研磨布１１の研磨作用面の外周部にテーパ面１１ａが形成されているので、このウェーハＷの研磨面の一部に作用する圧力が分散される。例文帳に追加

A tapered surface 11a is formed in the outer peripheral part of the polishing action surface of the abrasive cloth 11, so that the pressure applied to the part of the surface to be polished of the wafer W is dispersed. - 特許庁

カカオマスから搾油して得られるココアパウダーを研磨清浄作用の有効成分として含有させることにより研磨清浄剤を得る。例文帳に追加

The polishing cleaner is obtained by including cocoa powder prepared by pressing cacao mass as an active ingredient of polishing and cleaning actions. - 特許庁

ドライアイスは昇華することによって、気体として研磨布３に作用するから、研磨布３に機械的損傷を与えることがほとんどない。例文帳に追加

As dry ice works on the abrasive cloth 3 as gas when it sublimates, the abrasive cloth 3 is rarely given mechanical damage. - 特許庁

光学素子研削・研磨工具の形状製作方法および研削・研磨工具の形状製作用摺り合わせ工具例文帳に追加

SHAPING METHOD FOR OPTICAL ELEMENT GRINDING/POLISHING TOOL, AND GRINDING TOOL FOR SHAPING OF GRINDING/POLISHING TOOL - 特許庁

研磨粒子１４が弾性粒子１３の弾性力により研磨対象物Ｗの表面に弾力的に均一に作用する。例文帳に追加

The polishing grains 14 acts evenly and elastically on the surface of a work W to be polished by an elastic force of the elastic grain 13. - 特許庁

これにより、仕上げ部４１の外周面全周に作用する研磨液３０との摩擦力により仕上げ部４１の外周面が研磨される。例文帳に追加

Thereby, the outer peripheral surface of the finishing portion 41 is polished by a frictional force with the polishing solution 30 acting on the whole outer peripheral surface of the finishing portion 41. - 特許庁

ウェーハＷの研磨時におけるダイヤフラム５に作用するねじれは薄板２０によって抑えられるのでウェーハＷは安定して研磨される。例文帳に追加

The twist acting on the diaphragm 5 when the wafer W is polished is suppressed by the thin plate 20 so that the wafer W is stably polished. - 特許庁

セラミック素子２と、研磨媒体３と、緩衝材４とがバレル１ａに投入されて、バレル１ａが回転することにより、セラミック素子２が研磨されて面取りが行われるため、セラミック素子２の研磨屑は静電吸着作用により緩衝材４に吸着されるので、研磨工程の後に研磨屑が付着した緩衝材４を選り分けるだけで、研磨屑を効率よく除去することができる。例文帳に追加

The ceramic element 2, a polishing medium 3, and a buffer material 4 are thrown in a barrel 1a, the ceramic element 2 is polished through rotation of the barrel 1a to be chamfered, and polishing wastes of the ceramic element 2 are attracted to the buffer material 4 through electrostatic attracting operation, so the buffer material 4 where the polishing wastes stick is only sorted out after the polishing process to efficiently remove the polishing wastes. - 特許庁

研磨手段（研磨部）１６を大気とは別組成の雰囲気のチャンバ１３内に密閉収容し、研磨手段（研磨部）１６の雰囲気を大気とは異なる組成の雰囲気にすると共に、ウエーハＷと研磨パッド３４ａとの間に電圧を印加して、電解作用を行わせながら前記ウエーハＷを研磨するように構成した。例文帳に追加

A polishing means (polishing part) 16 is sealed and housed within a chamber 13 of an atmosphere of a different composition from the air, the atmosphere of the polishing means (polishing part) 16 is made into atmosphere of the different composition from the air, and a wafer W is polished while performing an electrolytic action by applying a voltage between the wafer W and a polishing pad 34a. - 特許庁

湿式ホーニング処理装置の研磨液槽にＡ作用部とＢ作用部を設ける。例文帳に追加

A polishing liquid tank of the wet honing treatment apparatus is provided with a working section A and a working section B. - 特許庁

このバレル研磨装置によれば、減圧装置２５によるバレル槽２内の減圧作用により、ホッパー２７より研磨石をバレル槽２内に迅速に導入して次のバレル研磨に備えることができる。例文帳に追加

In this barrel polishing device, action for reducing pressure in the barrel tank 2 by the pressure reduction device 25 allows to quickly introduce abrasive materials to the barrel tank 2 from the hopper 27 and to prepare for next barrel polishing. - 特許庁

その一部に干渉・回折効果による反射防止作用を持つ薄膜を有する多層膜を研磨する場合、研磨面が当該薄膜に近づく前は、研磨が進行しても反射率の変動はわずかである。例文帳に追加

In the polishing of a multilayer film whose one portion has a thin film with a reflection prevention operation by an interference/diffraction effect, variation in a reflection factor is small even if polishing advances before a polishing surface approaches the thin film. - 特許庁

新品のテープカセットを装着してから研磨テープが終了するまで、研磨テープに作用するテンション力が所定の値に維持され、研磨不良の発生が有効に防止された突起欠陥補修装置を実現する。例文帳に追加

To obtain a projection defect repair device where a tension force acting on a polishing tape is maintained in a predetermined value, and the occurrence of the polishing defects is effectively prevented from mounting a new tape cassette to the finishing of the polishing tape. - 特許庁

しかも、研磨ローラ１０Ａ，１０Ｂは合成樹脂製のローラ本体の研磨作用面に粒径１μｍ以下の研磨砥粒が固定されたローラである。例文帳に追加

Furthermore, in the rollers 10A and 10B, grinding abrasive grains of 1 μm or smaller in particle size are fixed on the grinding working surface of the roller body made of synthetic resin. - 特許庁

超硬合金からなる工作物と研磨工具との間に、超硬合金に対して酸化作用のある水溶液を介在させた状態で工作物の表面を研磨工具によって研磨加工する。例文帳に追加

A surface of the workpiece is polished by the polishing tool in a state of interposing an aqueous solution having an oxidation action to the cemented carbide between the workpiece composed of the cemented carbide and the polishing tool. - 特許庁