「Cleaned」に関連した英語例文の一覧と使い方(70ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a beverage container for an infant in which a mouthpiece can be easily removed and cleaned, and a soft material which easily becomes comfortable to a mouth of the infant can be used for the mouthpiece.例文帳に追加

吸い口の取り外しが容易で洗浄を楽に行うことができるとともに、吸い口を幼児の口に馴染みやすい柔らかい材質のものを使用し得るようにした幼児用飲料容器を得ること。 - 特許庁

After oil and grease adhered to the roll surface before starting the rolling is cleaned by the cleaning method, a metal stock is bitten between upper and lower rolls, and the metal is rolled while feeding rolling mill lubricant.例文帳に追加

圧延開始前のロール表面の油脂類を上記洗浄方法で洗浄した後に、金属素材を上下ロール間に噛み込ませ、次いで、圧延油を供給しつつ該金属を圧延する。 - 特許庁

Thereby, a hole transport layer (an organic film of a first layer) is formed by being tightly attached to the ITO surface of the substrate G cleaned in the same treatment vessel as the treatment vessel PM1 which was used for cleaning the substrate G.例文帳に追加

これにより、基板Ｇをクリーニングした処理容器ＰＭ１と同一の処理容器内にてクリーニングされた基板ＧのＩＴＯ表面にホール輸送層（第１層の有機膜）を密着して形成する。 - 特許庁

The contaminants stuck to the surface of the glass article are cleaned and removed and the defect existing in the glass article is enlarged by forcing particulate dry ice to collide with the glass article at high speed.例文帳に追加

ガラス物品に粒子状のドライアイスを高速で衝突させて、ガラス物品の表面に付着した汚染物質を洗浄除去すると同時に、ガラス物品に存在する欠陥を拡大させる。 - 特許庁

By an RTA apparatus, a heat treatment is performed in a vacuum, at 1,000°C for one minute, the exposed surface of the n-type epitaxial layer 20 is cleaned, and a gate oxide film 50 and a gate electrode 60 are formed.例文帳に追加

ＲＴＡ装置で、１０００℃、１分間の熱処理を真空中で行い、ｎ型エピタキシャル層２０の露出された表面を清浄化し、ゲート酸化膜５０、ゲート電極６０を形成する。 - 特許庁

To obtain a wiping cloth which has excellent wiping properties and stretchability, soft feeling, no slipperiness on a surface to be cleaned or from a hand to hold the cloth, excellent workability, double-sided pile tone and high-class feeling.例文帳に追加

拭き取り性，伸縮性に優れ、風合いが柔軟で、更に被清掃面で、あるいは保持する手元からの滑りもなく、作業性良好な両面パイル調の高級感のあるワイピングクロスを提供する。 - 特許庁

The piece-like member 50 is provided so as to be deformed together with the cleaning member 14 following the shape of the gap even if the gap of an area to be cleaned has a curved or wavy shape.例文帳に追加

片状部材５０は、被清掃領域の隙間が曲線若しくは波状であっても、当該隙間の形状に追従して前記清掃用部材１４と共に変形可能に設けられている。 - 特許庁

The method for producing pickled plums comprises salting plums 1 followed by drying the plums in the sun in midsummer, and putting the plums 1, salt 2 and charcoal 3 with its surface cleaned into a vessel 5.例文帳に追加

梅の実を塩漬けした後、土用干しした梅干しの製造方法において、塩漬けを梅の実１と、塩２と、表面を洗浄した木炭３を容器５に入れて塩漬けする梅干しの製造方法。 - 特許庁

Odor in the air including smell emitted to the outside is cleaned through a filter, and the air is distributed after the quantity is adjusted by a plurality of flow controllers of a first group by each of the plurality of guidance objects.例文帳に追加

外部に排出されたニオイを含む空気は、フィルタにより臭気を清浄化され、複数の第１群フローコントローラで複数案内対象毎に空気量を調節して分配される。 - 特許庁

Cleaned air is exhausted from an exhaust pipe 40 opened at a bottom surface of the wet pipe 20 and then is introduced into the dust protective cover 4 to purify the air in the dust protective cover 4.例文帳に追加

浄化された空気は、湿潤管２０の底面に開口された排出管４０から排出されて、防塵カバー４内に導入され防塵カバー４内の空気を浄化することになる。 - 特許庁

To provide a cleaning method by which an oil and fat component attached to the surface of a hard surface such as the surface of a mold can efficiently be cleaned and removed without damaging the surface.例文帳に追加

金型表面などの硬質表面の表面に付着した油脂成分を、その表面を損傷させることなく、効率良く洗浄除去することを可能にする洗浄方法を提供すること。 - 特許庁

The mask 11 for plasma CVD is cleaned using a plasma CVD system where a cleaning gas is fed from the side direction of the mask 11 for plasma CVD arranged inside a chamber into the chamber.例文帳に追加

プラズマＣＶＤ用マスク１１は、洗浄ガスが、チャンバー内に配置されたプラズマＣＶＤ用マスク１１の側方からチャンバー内に供給されるプラズマＣＶＤ装置を使用して洗浄が行われる。 - 特許庁

To provide a vacuum cleaner capable of cutting waste wound around a rotor of a floor suction device and retaining a dust collecting performance from a floor face without being cleaned by a user.例文帳に追加

床用吸込み具の回転子に巻き付いたゴミを分断可能とし、使用者が手入れをすることなく床面からの集塵性能を維持することができる電気掃除機を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an apparatus for ultrasonic cleaning with the high cleaning effect of an object to be cleaned and superior durability, and to provide a method for ultrasonic cleaning with high efficiency using the apparatus.例文帳に追加

被洗浄物の洗浄効果が高く、耐久性にも優れた超音波洗浄装置を提供する、この装置を用いた高能率な被洗浄物の超音波洗浄方法を提供する。 - 特許庁

To improve the quality of picture reading by detecting the part of the optical system of a picture reader where dirt is stuck and making the dirty part surely cleaned.例文帳に追加

画像読取装置の光学系のどの部品に汚れが付着しているかを部品単位で検出することにより、汚れた部品の的確な清掃を可能にし、高品質の画像読み取りを可能にする。 - 特許庁

The water circuit can be cleaned with the pulsating fluid running through the water circuit 10 on the downstream side of the first control valve 21 by opening/closing the first control valve 21 and the second control valve 23 intermittently.例文帳に追加

前記第１の制御弁２１と第２の制御弁２３を断続的に開閉して前記第１の制御弁の下流側の水回路１０に脈動流を流して該水回路を洗浄する。 - 特許庁

To provide an installation structure of a deodorizing cartridge which is cleaned at a high frequency since the deodorizing cartridge is exposed when a casing is lifted and removed from a Western style toilet bowl.例文帳に追加

ケーシングを上昇させたり洋風便器から取り外した際に脱臭カートリッジが露出するので、脱臭カートリッジが高頻度で清掃されるようになる脱臭カートリッジの設置構造を提供する。 - 特許庁

To provide a deposit detector for detecting the deposit amount of a deposit on the pipe inner-wall face of a measuring part when the measuring part is cleaned at the time of finishing measurement, and a cleaner.例文帳に追加

計測終了時に計測部を清掃する際に計測部のパイプ内壁面の付着物の付着量を検出する付着物検出装置および洗浄装置を提供しようとするものである。 - 特許庁

In this drilling mud treating device to treat drilling mud 7 to be circulated and used, muck 9a and sand 9b separated from the drilling mud 7 are cleaned by cleansing water 12.例文帳に追加

掘削泥水７を処理して循環使用するようにする掘削泥水処理装置において、掘削泥水７から分離させたずり９ａ及び砂分９ｂを洗浄用水１２により洗浄する。 - 特許庁

To obtain particle diameter and hardness of dry ice suitable for cleaning in consideration of the surface area ratio of a nozzle and a horn in the case of projecting liquefied carbonic acid gas in form of dry ice to an object to be cleaned.例文帳に追加

液化炭酸ガスをドライアイスにして被洗浄物に投射して洗浄するに、ノズルとこれを囲包するホーンとの面積比を考慮して洗浄に適したドライアイスの粒径と硬度を得る。 - 特許庁

Moreover, the covering sheet 15 can be separated from the form board and cleaned in one-touch operation 1 after the form F is removed, and the form can be repeatedly used rapidly by merely bonding a new covering sheet 15.例文帳に追加

また脱型後には被覆シート１５を型枠板１から剥がすことによってワンタッチで清掃が行え、更に新たな被覆シート１５を貼付するだけで即座に循環使用に供することができる。 - 特許庁

This suction part assembly for the vacuum cleaner includes a suction part main body which is connected with a cleaner main body via an extension pipe and is provided with a suction port so as to suck air including dust and foreign matter from a surface to be cleaned and an impact relaxing means for relaxing the impact when the suction part main body collides with a prescribed obstacle while moving along the surface to be cleaned.例文帳に追加

本発明に係る真空掃除機の吸入部組立体は、掃除機本体について延長管を介して連結され、被掃除面からホコリ及び異物が含まれた空気を吸い込むように吸入口が設けられた吸入部本体と、吸入部本体が被掃除面に沿って移動しているうちに所定妨害物に衝突する時、その衝撃を緩和させる衝撃緩和手段とを含む。 - 特許庁

In a high-pressure jet cleaning method or a two-fluid cleaning method for cleaning an object to be cleaned by discharging a cleaning fluid or a mixed fluid of the cleaning fluid and gas to the object to be cleaned from a fluid discharging nozzle, the cleaning liquid introduced to the fluid discharging nozzle includes a dissolved gas having not less than saturation solubility at the cleaning liquid temperature.例文帳に追加

洗浄流体吐出ノズルから、洗浄液又は洗浄液と気体との混合流体を被洗浄物に向けて吐出させて該被洗浄物を洗浄する高圧ジェット洗浄又は二流体洗浄方法において、該洗浄流体吐出ノズルに導入される洗浄液が、該洗浄液の液温における飽和溶解度以上の溶存ガスを含むことを特徴とする洗浄方法。 - 特許庁

The sludge containing heavy metals is treated through: a cleaning step for cleaning the sludge by using basic treating water; an acid cleaning step for cleaning the soil cleaned in the cleaning step under acidic conditions; a detoxification step for treating the sludge cleaned in the acid cleaning step in the presence of chemicals capable of detoxifying the heavy metals; and a solidification step for solidifying the sludge treated in the detoxification step.例文帳に追加

重金属類を含むヘドロは、塩基性の処理水を用いて洗浄する洗浄工程と、前記洗浄工程において洗浄された土壌を酸性条件下で洗浄する酸洗工程と、当該酸洗工程で洗浄されたヘドロを、前記重金属類を無害化可能な薬剤の存在下で処理する無害化工程と、当該無害化工程において処理されたヘドロを固化する固化工程とを経て処理される。 - 特許庁

After the supersaturated gas solution is prepared in the cleaning container by introducing the supersaturated gas solution or introducing a pressure gas after introducing the cleaning liquid into the cleaning container, the cleaning container is decompressed in a state wherein the body to be cleaned is brought into contact with the supersaturated gas solution in the cleaning container to clean the body to be cleaned with bubbles of a supersaturated dissolved gas produced from the supersaturated gas solution.例文帳に追加

洗浄容器に、過飽和ガス溶解液を導入するか、或いは、洗浄容器内に洗浄液を導入した後加圧ガスを導入して洗浄容器内で過飽和ガス溶解液を調製した後、洗浄容器内で被洗浄物を過飽和ガス溶解液に接触させた状態で洗浄容器内を減圧し、過飽和ガス溶解液から発生した過飽和の溶存ガスの気泡で被洗浄物を洗浄する。 - 特許庁

The processing apparatus for partially cleaning the semiconductor wafer includes: a turntable 2 holding the semiconductor wafer; a nanobubble generator 17 which supplies processing liquid with mixed nanobubbles at least to a part to be cleaned of the semiconductor wafer held by the turntable; and an electron gun 12 which breaks nanobubbles contained in the processing liquid by irradiating the part to be cleaned of the semiconductor wafer with an electron beam.例文帳に追加

半導体ウエハを部分的に洗浄処理する処理装置であって、 半導体ウエハを保持する回転テーブル２と、回転テーブルによって保持された半導体ウエハの少なくとも洗浄処理される部分にナノバブルが混入された処理液を供給するナノバブル発生器１７と、半導体ウエハの洗浄処理される部分に電子ビームを照射して処理液に含まれるナノバブルを圧壊させる電子銃１２を具備する。 - 特許庁

A semiconductor wafer 14 is pasted on a polisher plate 10 with wax 12, then polished, cleaned and dried out as it is pasted on the polisher plate 10, separated from the polisher plate 10, transferred by supporting its rear while the wax 12 is kept attached to the rear of the semiconductor wafer 14, undergoes a laser marking process, and then is cleaned up.例文帳に追加

半導体ウエハ１４をワックス１２によりポリッシャプレート１０に貼り付けて研磨した後に、半導体ウエハ１４をポリッシャプレート１０に貼り付けたまま洗浄および乾燥し、半導体ウエハ１４をポリッシャプレート１０から剥ぎ取り、半導体ウエハ１４の裏面にワックス１２が付着したまま半導体ウエハ１４の裏面を支持して搬送し、レーザーマーキングを行い、その後、半導体ウエハ１４を洗浄する。 - 特許庁

This dialysis liquid is such one as to be used in peritoneal dialysis technique comprising transferring the dialysis liquid in the peritoneal cavity to an external dialyzer where the liquid is cleaned, and returning the liquid thus cleaned to the peritoneal cavity again, and contains an osmotic agent substantially impermeable to the holes of a hollow fiber membrane, for example, albumin, glucose polymer or dextran.例文帳に追加

腹腔内の腹膜透析液を外部透析器に移送し、該外部透析器で浄化した後、浄化された腹膜透析液を再び腹腔内へ返送する腹膜透析法に用いられる透析液であって、実質的に中空糸膜の孔を透過しない浸透圧剤、例えば、アルブミン、グルコースポリマーまたはデキストランを含有してなる腹膜透析液および該透析液を使用する連続再循環腹膜透析方法。 - 特許庁

To provide a method of cleaning a sheet type semiconductor wafer in which the wafer is cleaned while rotated by supplying a prescribed cleaning liquid to a center position of the top surface and/or the reverse surface of the semiconductor wafer, the top surface (and reverse surface) of, particularly, a wafer having a large diameter being efficiently cleaned with a minimum amount of cleaning liquid.例文帳に追加

本発明の目的は、半導体ウェーハの表面及び／又は裏面の中心位置に対して、所定の洗浄液を供給し、前記ウェーハを回転させながら洗浄を行う枚葉式の半導体ウェーハの洗浄方法であって、特に、大口径のウェーハに対して、洗浄液を極力少ない量で効率よくウェーハ表面（及び裏面）を洗浄することができる半導体ウェーハの洗浄方法を提供することにある。 - 特許庁

To device a shape and a structure of a toner replenishing vessel (powder container), a cleaning method thereof, and a cleaning apparatus thereof, so that a cleaning medium can be spread throughout the inside of the toner replenishing vessel regardless of the shape of the toner replenishing vessel, so that dirt stuck to its inside surface is surely cleaned and many toner replenishing vessels can be cleaned in a short period of time by continuously cleaning them.例文帳に追加

トナー補給容器（粉体容器）の形状に関わりなく洗浄媒体を該トナー補給容器の隅々まで行き渡らせて、その内面に固着している汚れを確実に洗浄し得るように、また連続的に洗浄することにより短時間で多数のトナー補給容器を洗浄し得るように、トナー補給容器の形状や構造、その洗浄方法および洗浄装置を工夫すること。 - 特許庁

In manufacturing the occlusion and reduction type exhaust gas cleaning catalyst by supporting an occlusion material for occluding a substance to be cleaned and a reducing catalyst for reducing and cleaning the substance to be cleaned discharged from the occlusion material on the carrier, a nitrogen oxide occluding element being the occlusion material and a noble metal being the reducing catalyst are supported on the carrier comprising manganese oxide having a hollandite type crystal structure.例文帳に追加

担体に、浄化対象物質を吸蔵する吸蔵材と、この吸蔵材から放出された浄化対象物質を還元浄化する還元触媒とを担持させた吸蔵還元型の排気ガス浄化触媒において、ホーランダイト型結晶構造を有するマンガン酸化物から成る担体に、吸蔵材としての窒素酸化物吸蔵元素と、還元触媒としての貴金属とを担持して成ることを特徴とする排気ガス浄化触媒。 - 特許庁

This is a string formed by collecting fine threads, not cloth, and the diameters of these fine threads are smaller than that of the optical fiber, so that the end face of the optical fiber fitted to the optical connector can be cleaned without unevenness.例文帳に追加

布ではなく細かな糸を集合させた紐であり、しかも、これら細かな糸の径は光ファイバ径よりも小であるから、光コネクタに取り付けられた光ファイバ端面をムラ無く清掃することができる。 - 特許庁

The device is formed in a bar-like L-shape which does not hinder the flow of the toilet paper and dirt so that, even if paper is caught in the bowl or the bowl is stained by dirt, the bowl can be easily cleaned by a rotating/detachable arm.例文帳に追加

トイレットペーパーや、汚物の流れを阻害しない棒状のＬ型形状とし、仮にペーパーがひっかかったり、汚物で汚れた場合のために、清掃、除去がしやすい回転・脱着式のアームとした。 - 特許庁

A 5 to 100 angstrom oxide film consisting of a substrate material is made to form on the surface of a semiconductor substrate, and thereafter the substrate is cleaned with a chemical containing one weight ppm or higher to 10 wt.% or lower of an organic compound.例文帳に追加

半導体基板表面に５〜１００オングストロームの基板物質の酸化膜を形成させた後、該基板を１重量ｐｐｍ以上１０重量％以下の有機化合物を含有する薬液で洗浄する。 - 特許庁

The work W_1 is cleaned with an organic solvent as pretreatment and the UV-cleaning is then carried out while pressurizing the processing gas so that the contaminants and the organic solvent remaining on the surface of the work W_1 can be removed completely in a short time.例文帳に追加

前処理として有機溶剤による液体洗浄後に、処理ガスを加圧してＵＶ洗浄することで、ワークＷ_1 の表面に残る汚染物質や有機溶剤を短時間で完全に除去できる。 - 特許庁

The compression roller (40) is cleaned continuously by a burner (50), and this is executed in such a manner that an open fire (54) is directed to the roller (40) to remove contaminants and the residues of a thermoplastic composite material adhering to the compression roller (40).例文帳に追加

圧縮ローラ（４０）は、バーナ（５０）で連続的に洗浄され、これは、裸火（５４）をローラ（４０）に向けて、圧縮ローラ（４０）に接着した汚染物および熱可塑性複合材料の残留物を取り除く。 - 特許庁

The toluene 5 is adhered to the surface of the trim 4 (Fig.1(b)), and the mixing is continued in this state, whereby the trim 4 is cleaned with the toluene 5, and a silicon film 3 that is a release agent on the surface of the trim 4 is removed.例文帳に追加

これによりトリム４の表面にトルエン５が付着し（図１（ｂ））、この状態で混合を続けることで、トルエン５がトリム４を洗浄して、トリム４の表面の離型剤であるシリコン膜３が除去される。 - 特許庁

In the water cleaning device, moldings which have surfaces having holes and form a cylinder by being arranged oppositely and being connected to each other, are connected cylindrically, and the cylinder is filled with the filler and installed in water to be cleaned.例文帳に追加

有孔の表面を有し、互いに対向させて接続することにより筒状となる成形体を筒状に接続させ、該筒内に充填体を充填し、被浄化水中に設置した水の浄化装置である。 - 特許庁

Or, the flux adhering to the net conveyor 14 in very sticky condition is cleaned, using a brush 31 and cleaning liquid 34 in combination while the temperature within the device drops after finish of production.例文帳に追加

あるいは、生産を終了して装置内の温度が低下するまでの間に粘りの強い状態でネットコンベア１４に付着しているフラックスヒュームをブラシ３１と洗浄液３４とを併用して清掃を行うようにする。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for laser beam machining, by which method and apparatus, the surface of a workpiece can be machined and cleaned by the non-contact type operation without requiring high vacuum and with the dry process.例文帳に追加

非接触型で、必ずしも高い真空度を要することなく、かつドライプロセスによって部材表面の加工ならびに清浄化を図ることが可能なレーザ加工方法及びレーザ加工装置を提供する。 - 特許庁

The aim is attained by installing an air cleaning system within the vehicle and at the same time by arranging for the operation of the air cleaning system even when the vehicle is parked, such that the quality of vehicle interior air can be cleaned even during parking.例文帳に追加

空気清浄器を車両に設けると共に、該空気清浄器を駐車中においても作動可能とする手段を設け、駐車中に空気質の向上を行なうようにして成るように構成する。 - 特許庁

At this time, a reflection type sensor 18 detects the amount of toner sticking on the transfer belt surface as a dirt state and based upon the output of the detection sensor, it is determined whether or not the transfer belt is cleaned.例文帳に追加

この際、反射型センサ１８によって転写ベルト表面上のトナー付着量が汚れ状態として検知されて、検知センサの出力に基づいて転写ベルトのクリーニングを行うか否かを決定する。 - 特許庁

A heat treatment is performed to the back of an n^+ type SiC substrate 10 in a vacuum, at 1,000°C for one minute, the exposed rear surface of an n-type SiC substrate 10 is cleaned, and a drain electrode 100 is formed.例文帳に追加

ｎ^+型ＳｉＣ基板１０の裏面に、１０００℃、１分間の熱処理を真空中で行って、ｎ^+型ＳｉＣ基板１０の露出された裏面表面を清浄化した後、ドレイン電極１００を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing anneal wafers, in which a plurality of wafers manufactured in one batch all have surface roughness such that there is no influence on subsequent processes when cleaned with a cleaning liquid of one composition.例文帳に追加

１バッチで製造される複数のウェハを１つの組成の洗浄液で洗浄したときに、全てのウェハの表面粗さを後工程に影響を及ぼさないレベルにすることが可能なアニールウェハの製造方法の提供。 - 特許庁

The apparatus further comprises a vibration generating body 60 and a vibration transferring plate 15 for transferring vibration from the vibration generating body 60 to the control plate 30 so that portions of openings 12 are cleaned by applying the vibration to the control plate 30.例文帳に追加

制御板３０に振動を付与して開口１２部分のクリーニングを行うよう、振動発生体６０と、振動発生体６０からの振動を制御板３０に伝達する振動伝達板１５とを備えている。 - 特許庁