Defectsを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 10273件
To provide colored polypropylene fiber that has excellent color uniformity enough to inhibit streaky defects caused by color difference, when woven or knitted fabrics are formed, provide a method of producing the same and provide woven and knitted fabrics having no uneven coloring using the colored fiber.例文帳に追加
織編物を形成したときに色差による筋斑を発生させない均色性に優れたポリプロピレン着色繊維、その製造方法及びこの繊維を用いた色斑のない良好な織編物を提供する。 - 特許庁
If necessary, e.g. for the removal of internal defects, HIP treatment is applied, before the above solution heat treatment, at 400 to 550°C treatment temperature and 0.05 to 1 GPa treatment pressure.例文帳に追加
また内部欠陥の除去のためなど必要に応じて、上記溶体化処理の前に、処理温度が400〜550℃かつ処理圧力が0.05〜1GPaのHIP処理を施すマグネシウム合金の製造方法である。 - 特許庁
To suppress defects such as breakage of an electronic device, a defect in electric conduction, and insufficient sealing, in an electronic component package formed by electrically connecting and sealing a large number of electronic devices at the same time on a wafer level and then dividing them into individual pieces.例文帳に追加
電子装置をウエハレベルで大量に同時に電気接続およびシールした後に個片化して形成する電子部品パッケージにおいて、前記電子装置の破壊、導通不良、シール不十分などの不良を抑える。 - 特許庁
To equate optically functional characteristics in a plane and eliminate defects in appearance by improving thickness accuracy of a coated layer in a large area region when producing an optically functional layer on a base film.例文帳に追加
基材フィルム上に光学機能層を作製する場合に、大面積の領域において、塗工層の厚み精度を向上させ、光学機能特性の面内均一化、外観不良解消を図ることを目的とする。 - 特許庁
To provide a fisheye detection determination method for detecting fisheye defects generated during a manufacturing process of a thermoplastic resin film, capable of surely discriminating fisheyes caused by foreign matters, caused by raw material gas and caused by gel, and allowing number management for each kind thereof.例文帳に追加
熱可塑性樹脂フィルム製造中に発生するフィッシュアイ欠点を検出し、異物起因、原料カス、ゲル起因を確実に判別し、種類ごとに個数管理を行うフィッシュアイ検出判定方法を提供する。 - 特許庁
To provide a producing method of radiation image conversion panel capable of extremely reducing an unevenness and spots of paint generating during forming a spread protection layer and reducing an unevenness and defects on image caused by the unevenness and spots of paint.例文帳に追加
保護層の塗布形成時に発生する塗布ムラやブツを極力低減させ、塗布ムラやブツにより引き起こされる画像上のムラや欠陥を低減させ得る放射線像変換パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a culture substrate solving problems brought up by a substrate in conventional technique, satisfying all requirements and criteria of this kind of the substrate and being free from defects, limit and disadvantage of the substrate in conventional technique.例文帳に追加
従来技術の其質によって提示される課題を解決し、そして、この種の其質の全ての要件及び基準を満たす、従来技術の其質の欠点、瑕疵、限界及び不利な点がない、培養其質を提供する。 - 特許庁
To provide a circuit selection device which can economize power by putting a main power supply in the state of an input in only a utilization time zone which is specified by users and does not cause defects at the time of sending out signals from a telephone.例文帳に追加
利用者が指定する利用時間帯のみ主電源を入力状態とすることによって節電を行うことができ、且つ電話発信時に不具合の起こらない回線選択装置を提供する。 - 特許庁
To provide a method and device for detecting burning of electrode wheels of a lap seam welding machine, a method and device capable of quickly detecting the burning before the resulting weld defects are generated.例文帳に追加
ラップシーム溶接機の電極輪に生じる焼付きを、それによる溶接不良が発生する前に迅速に検出することができるラップシーム溶接機の電極輪の焼付き検出方法及び検出装置を提供する - 特許庁
To provide device manufacturing equipment which can manufacture a device with desired performance capable of preventing dot defects by detecting a nonaction nozzle without reducing the throughput in manufacturing the device with a liquid drop ejection method.例文帳に追加
液滴吐出方式を用いてデバイスを製造する際、スループットを低下することなく非動作ノズル検出を行い、ドット抜けの無い所望の性能を有するデバイスを製造できるデバイス製造装置を提供する。 - 特許庁
This recording medium stores information, showing whether linear replacement defect management for replacing defects on the recording medium with data in a margin area so as to record real-time data in a recording area.例文帳に追加
本発明の記録媒体は記録領域にリアルタイムデータを記録するために、記録媒体上の欠陥を余裕領域のデータに置換する線形置換欠陥管理を使用するかどうかを示す情報を貯蔵する。 - 特許庁
As a first method, tetraethylorthosilicate Si(OC2H5)4 is employed as a film deposition material in order to reduce crystal defects occurring as a silicon oxide film is grown by chemical vapor deposition.例文帳に追加
第1の方法として、化学気相成長によりシリコン酸化膜を成長させるに伴って発生してしまう結晶欠陥を少なくすべく、成膜の原料として、テトラエチルオルトシリケートSi(OC2H5)4を用いる方法を提供する。 - 特許庁
To correct failures and defects of a thermohardening type or photo-hardening type transferred rough pattern caused when peeling off from an original in the nano imprint lithography and reduce the failures of device of a wafer after dry etching.例文帳に追加
ナノインプリントリソグラフィで原版から引き剥がすときなどに発生する転写された熱硬化型もしくは光硬化型の凹凸パターンの欠損欠陥を修正し、ドライエッチング後のウェーハのデバイス不良を低減する。 - 特許庁
The sponge layer 100B can be bonded with desired strength and variance in hardness and thickness of the sponge layer 100B due to the penetration of adhesive is suppressed, so that cleaning defects of the electrifying roll 14 are suppressed.例文帳に追加
スポンジ層100Bを所望の強度で接着できるとともに、接着剤の浸透によるスポンジ層100Bの硬度や厚さのばらつきが抑えられるため、帯電ロール14のクリーニング不良が抑制される。 - 特許庁
To provide a radiation-sensitive resin composition useful as a chemically amplified resist excelling particularly in depth of focus (DOF) and capability of substantially decreasing development defects, while maintaining excellent basic performance as a resist.例文帳に追加
レジストとしての十分な基本性能を維持しつつ、特に、焦点深度(DOF)に優れ、かつ現像欠陥が著しく低減された化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
To provide a joint line setting method for tailored blank material, for reducing defects in press molding of a tailored blank material, and to provide a joint line setting device, a joint line setting program and a storage medium therefor.例文帳に追加
テーラードブランク材のプレス成形時における欠陥の発生を低減することが可能なテーラードブランク材における接合線設定方法、接合線設定装置、接合線設定プログラム及び記録媒体を提供する。 - 特許庁
To provide a printing plate capable of continuously printing a highly fine pattern while hardly causing defects even when a reverse offset printing method is used as a pattern formation method, and a method of manufacturing the printing plate.例文帳に追加
パターン形成方法として反転オフセット印刷法を用いた場合においても、欠陥を生じ難く、連続的に高精細パターンを印刷可能な印刷用版およびその製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁
To provide a substrate for display devices, of which short-circuit defects can be easily repaired, and a liquid crystal display device provided with the same.例文帳に追加
本発明は、表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置に関し、短絡欠陥を容易に修復できる表示装置用基板及びそれを備えた液晶表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁
When the number of the residues is counted by means of a data processor, particle counter, etc., under an optical microscope, the density of the defects as precipitation of oxygen in the etched sample can be found.例文帳に追加
例えば、酸素析出欠陥の存在するシリコンウエハを試料としてこれを対酸化物選択比の大きい条件でエッチングすることで、エッチングされにくい酸素析出欠陥を頂点として円錐状エッチング残渣を得る。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing an extruded molding which can restrain the generation of defects, in the front side edge part of the extruded molding, which increase with time when the molding is manufactured by extrusion molding.例文帳に追加
押出成形により成形体を製造する際に、経時的に増大する押出成形体の前面辺縁部の欠陥の発生を抑制することができる押出成形体の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a transfer device having a wide application range of the device, by effectively suppressing the occurrence of density uneveness, spot-like defects and blurs, even when applying to an image forming apparatus or the like that performs printing processing at high speed.例文帳に追加
高速で印刷処理を行う画像形成装置等に適用する場合であっても、濃度ムラ、斑点状ディフェクト、ブラーの発生を効果的に抑制でき、装置の適用範囲の広い転写装置を提供する。 - 特許庁
The mechanical stress is exerted on the surface of an alloy 1 containing Al to generate lattice defects, to increase the diffusion coefficient of oxygen to Al in a surface layer, and to promote generation of an Al_2O_3 film 4.例文帳に追加
Alを含有する合金1表面に、機械的応力を付与し、格子欠陥を発生させ、表面層でのAlに対する酸素の拡散係数を増大させ、Al2 O3 皮膜4の生成を促進させる。 - 特許庁
To provide a positive type photoresist composition less liable to cause development defects in the production of a semiconductor device or excellent also in adhesion, exposure margin (particularly in the case of isolated lines), resistance to a sensitivity change with time, etc.例文帳に追加
半導体デバイスの製造において、現像欠陥の発生が少ない、または加えて、密着性、露光マージン(特に孤立ラインの露光マージン)、経時感度変動等にも優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。 - 特許庁
To obtain a crystal type oxotitanyl phthalocyanine capable of preparing a sensitive material sufficiently satisfying all of high sensitivity, high image quality and high stability without causing a problem of occurrence of fine image defects or the like.例文帳に追加
微小画像欠陥の発生等の問題が発生し未だ高感度、高画質、高安定性の全てを充分に満足する感光体が作製できるような結晶型チタニルフタロシアニンが未だ得られていない。 - 特許庁
The developing solution for diminishing defects contains 1-5 wt.% metal ion-free organic base and 100-1,500 ppm nonionic surfactant and has 45.0-65.0 mN/m (20°C) initial surface tension.例文帳に追加
また、金属イオンを含まない有機塩基を1〜5重量%、ノニオン性界面活性剤を100〜1500ppm含有し、その表面張力初期値が45.0〜65.0mN/m(20℃)であるディフェクト低減用現像液。 - 特許庁
To provide a back panel member of a flat panel display, and a vacuum container wherein various defects are suppressed as much as possible and sufficient weight reduction can be made by taking effective reinforcing countermeasures at appropriate places.例文帳に追加
適切な箇所に対して効果的な補強対策を講じることにより、種々の弊害を可及的に抑制した上で充分な軽量化を図り得るフラットパネルディスプレイのバックパネル部材及び真空容器を提供する。 - 特許庁
To provide a porous carbon nano-structure and its manufacturing method characterized by that it is as easily dispersed in a liquid medium since it has pores and defects on a surface, it effectively modifies a graphite layer, or the like.例文帳に追加
表面に細孔および欠陥を有しているために、液媒体中への分散が容易で、グラファイト層を効果的に修飾できる等の特長をもつ有孔カーボンナノ構造体とその製造方法を提供する。 - 特許庁
The microscopic inspection device refers to the distribution information 15 stored in the storage device before executing the microscopic inspection and omits execution of the microscopic inspection in a region where the macro-defects are distributed on the inspection substrate.例文帳に追加
ミクロ検査装置は、ミクロ検査を実施する前に、記憶装置に記憶された分布情報15を参照して、被検査基板のうちマクロ欠陥が分布している領域ではミクロ検査の実施を省略する。 - 特許庁
It is possible to suppress the occurrence of defects on the surface of the luminescent semiconductor nanocrystal and can maintain a quantum yield by allowing the reactive silicone group to be adsorbed into the surface of the luminescent semiconductor nanocrystal.例文帳に追加
反応性シリコーン基を発光性半導体ナノクリスタルの表面中に吸着させることで、発光性半導体ナノクリスタルの表面に欠陥が発生することを抑制でき、量子収率を維持することができる。 - 特許庁
To provide a plasma treatment apparatus that may store the information concerning the arc cutting to prevent abnormal discharge, and facilitate searching of the cause of the film defects based on the information.例文帳に追加
異常放電を防止するためのアークカット動作が実行された場合にその情報を残すことができ、その情報に基づいて膜質不良の原因調査の容易化を図れるようにしたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁
Thereby, the mechanical strength of the liquid crystal element can be enhanced and display unevenness due to the generation of secular display defects and rapid temperature change can be satisfactorily prevented.例文帳に追加
この発明によれば、液晶素子の機械的強度を向上させることが可能となり、また、経時的な表示欠陥発生及び急激な温度変化による表示むらを十分に防止することが可能となる。 - 特許庁
To provide a positive resist composition which is suitable for use under an exposure light source of ≤160 nm, particularly F_2 excimer laser light (157 nm) and suppresses occurrence of development defects.例文帳に追加
160nm以下、特にF_2エキシマレーザー光(157nm)の露光光源の使用に好適なポジ型レジスト組成物を提供することであり、現像欠陥の発生が低減されたポジ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁
This is a method and a device for automatically classifying the defects on the surface of a semiconductor wafer into one of the prescribed number of core classes by using a core classifier using boundary and topographical information.例文帳に追加
方法及び装置は、境界及び地形情報を用いるコア分級機を使用して半導体ウェーハの表面の欠陥をコア分類の所定数の1つに自動的に分類するための提供されている。 - 特許庁
To provide a partition for plasma display panel and a plasma display panel using the same which can improve the adhesion between the partition and a fluorescent layer, while improving quality and yield of products with less rib defects.例文帳に追加
隔壁と蛍光体層との密着性を向上させ、、しかもリブ欠陥も少なく、製品の品質および歩留の向上が図れるプラズマディスプレイパネル用隔壁およびそれを用いたプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁
To provide the manufacturing method of a semiconductor device flat on the surface, low in an interface level and providing a metal oxidation film with good quality hardly having defects as a gate insulation film without containing H and C in the film.例文帳に追加
表面が平坦で界面準位が低くしかも膜中にHやCを含まず、欠陥の少ない良質な金属酸化膜をゲート絶縁膜として具備する半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a nickel paste that is capable of preventing the occurrence of structural defects such as delamination during a debinder process and a subsequent firing process for a layered ceramic capacitor, and that is suitable for formation of an inner electrode of nickel.例文帳に追加
積層セラミックコンデンサの脱バインダー工程及びその後の焼成工程において、層間剥離などの構造欠陥の発生を防止でき、ニッケル内部電極の形成に好適なニッケルペーストを提供する。 - 特許庁
The number of such defects after developing as the crushing of pattern is decreased by using the processing solution as a rinse liquid at the time of developing of a patterned host resist layer or thereafter under a specified preferable aspect.例文帳に追加
この処理溶液は、特定の好ましい態様において、パターニングしたホトレジスト層の現像の際又はその後でリンス液として使用すると、パターンのつぶれのような現像後の欠陥を低減することができる。 - 特許庁
To provide an electronic component with bump electrodes which is equipped with an insulation film for surface protection having a sufficient thickness and a bump having a sufficient height, and which can properly reduce the occurrence of open defects in manufacturing processes.例文帳に追加
充分な膜厚の表面保護用絶縁膜および充分な高さのバンプ部を具備しつつ、製造過程においてオープン不良の発生が適切に低減されるバンプ電極付き電子部品を提供すること。 - 特許庁
To provide abrasive tools containing high concentrations of hollow filer materials in a resin bond suitable for polishing and backgrinding of hard materials, such as ceramic wafers and components requiring a controlled amount of surface defects.例文帳に追加
セラミックウェハおよび制御された量の表面欠陥を要する部品のような硬質材料の研磨および裏面研剤に適する樹脂結合剤に高濃度の中空フィラー材料を含む研摩工具はを提供する。 - 特許庁
To provide a polishing method and a polishing device capable of reducing deformation of a substrate such as a semiconductor wafer and stress applied on the substrate, lessening defects on the substrate, and safely performing polishing, sucking, and releasing the substrate.例文帳に追加
半導体ウエハ等の基板の変形および基板にかかる応力を低減し、基板の欠陥を少なく且つ基板を安全に研磨し吸着しリリースすることができる研磨方法および研磨装置を提供する。 - 特許庁
To provide, as one object of the invention, a terminal electrode capable of increasing the attaching strength of the terminal electrode by eliminating defects such as voids in an insulating layer around the terminal electrode to set a high density.例文帳に追加
本発明は、端子電極まわりの絶縁層にボイド等の欠陥をなくし、高密度なものとして端子電極の取付強度を向上させることができる端子電極の提供を目的の1つとする。 - 特許庁
To provide equipment and a method for combined welding using jointly a laser and an arc by which high-quality weld zone where is free from the generation of weld defects such as porosity is obtained and also stable weld bead is formed.例文帳に追加
ポロシティ等の溶接欠陥の発生の無い高品質な溶接部を得ることができると共に、安定した溶接ビードを形成することができるレーザとアークを併用した複合溶接装置及び方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for dyeing a fabric, made of fibers high in elongation and elongation recovery, or of very fine fibers, without causing processing defects, e.g. rope creases and folded traces.例文帳に追加
本発明は、伸長性が高く、伸長回復率の高い繊維や極細繊維で構成された布帛であっても、ロープジワ、折れ跡などの加工欠点の発生しない染色方法を提供せんとするものである。 - 特許庁
To provide a toothbrush in which an angle formed from a brush part and a handle part can be adjusted into desired angle and hardly away therefrom by the operation of aveoli, the mouth and the wrist by improving the defects of a conventional toothbrush.例文帳に追加
従来型の歯ブラシの欠点を改良し、ブラシ部と柄部のなす角度を、歯槽あるいは口腔および手首の作用により、所望の角度に調整可能とするとともに外れ難い歯ブラシを提供することにある。 - 特許庁
To easily detect defects such as short circuitting of a contact hole for making a semiconductor substrate conduct with other wiring, with a conductive pattern which originally is not conducted.例文帳に追加
半導体基板と他の配線とを導通させるコンタクトホールが、本来は導通しない導電性パターンとの間で短絡するといった欠陥を簡便に検出することができる検査用パターン及び検査方法を提供する。 - 特許庁
To provide an eddy-current test probe and an eddy-current test method using the probe having high detection precision to detect defects of a heat exchanger tube with inner fins.例文帳に追加
インナーフィン付き伝熱管における伝熱管自体に発生した欠陥の検出精度を向上させることができる渦流探傷検査用プローブおよびこれを用いる渦流探傷検査方法を提供することである。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a silicon single-crystal substrate of SOI structure through oxygen ion implantation which reduces defects of a silicon single-crystal part on the surface as much as possible, by forming a sound embedded oxide layer with a low dosage.例文帳に追加
低ドーズ量で健全な埋め込み酸化物層を形成させ、表面のシリコン単結晶部の欠陥をできるだけ少なくした、酸素イオン注入によるSOI構造のシリコン単結晶基板の製造方法。 - 特許庁
To provide a fixing machine, by which defects of conventional technology can be solved using a simple configuration at a low cost by heating a fixing roller from its outer periphery surface, thereby rapidly raising its temperature.例文帳に追加
定着ローラの外周表面から加熱することにより温度の急速昇温を可能にして上述の従来技術の欠点を簡単な構成でかつ安価に解消できる定着装置を提供する。 - 特許庁
To provide an excellent electrophotographic photoreceptor having high durability and excellent electrophotographic characteristics to obviate the occurrence of image defects, a process cartridge having the electrophotographic photoreceptor and an electrophotographic device.例文帳に追加
耐久性が高く、かつ画像欠陥の生じない優れた電子写真特性を有する電子写真感光体、その電子写真感光体を有するプロセスカートリッジ及び電子写真装置を提供することにある。 - 特許庁
To provide a corrosion protection-covered steel material having durability over a long period by efficiently forming a dense film having excellent corrosion resistance and hardly having defects on the surface of a steel material, and to provide its production method.例文帳に追加
耐食性に優れた欠陥のほとんどない緻密な被膜を効率的に鋼材表面に形成させることで、長期に渡る耐久性を有する防食被覆鋼材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
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