「Fine Alignment」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an optical film having fine alignment between the structure of a surface side lens and the structure of a rear side light reflection layer and having excellent light utilization efficiency.例文帳に追加

表面側のレンズの構造と、裏面側の光反射層の構造とのアラインメントが良好で、かつ光の利用効率に優れた光学フィルムを提供すること。 - 特許庁

The electrolyte film is either a nano-porous metal oxide or a carbon structure with extra fine holes formed in alignment in a film thickness direction almost over a whole area.例文帳に追加

本発明の電解質膜は、ほぼ全領域にわたって膜厚方向に極細孔が整列して形成されているナノポーラス金属酸化物あるいは炭素構造物ある。 - 特許庁

To provide a structure capable of forming a junction FET having a low on-voltage without using an alignment of an ultra-high accuracy or without requiring a fine electrode patterning.例文帳に追加

超高精度のアライメントを用いることなく、あるいは微細な電極パターニングを要することなく、オン電圧の低い接合FETを形成できる構造を提案する。 - 特許庁

To prevent the productivity and reliability of a liquid crystal cell from being degraded and the display appearance of the liquid crystal cell from being impaired by suppressing generation of fine dust or generation of fine discharge due to high voltage static electricity in the manufacturing of a liquid crystal alignment layer.例文帳に追加

液晶配向膜の製造において微細な埃の発生や高圧静電気による微細放電の発生をなくし、液晶セルの生産性や信頼性が低下したり液晶セルの表示の外観が損なわれたりすることを防ぐ。 - 特許庁

In the semiconductor device, a dummy gate is used a mask for forming the source/drain region in a self- alignment manner, and at the same time the gate electrode is formed in self- alignment manner, thus forming the fine element without generating matching deviation between the source/drain region and gate electrode.例文帳に追加

この半導体装置は、ダミーゲートをマスクにして自己整合的にソース／ドレイン領域を形成すると共に自己整合的にゲート電極を形成している為、ソース／ドレイン領域とゲート電極に合わせずれが生じず微細化された素子を形成することができる。 - 特許庁

To provide an excellent rubbing cloth in which an angle of gradient and uniformity of density in a raising part scarcely make any difference and which further also realizes fine alignment with raising consisting of very thin fibers.例文帳に追加

起毛部における傾斜角度や密度の均一製がさほど問題ではなく、しかも極細繊維からなる起毛により、微細な配向をも実現しうる、優れたラビングクロスを提供する。 - 特許庁

To fine a semiconductor device by reducing the design thickness of a wiring protective film coating the surface of a wiring layer and decreasing a space between the wiring layer and a via plug formed by a self-alignment process.例文帳に追加

配線層の表面を被覆する配線保護膜の設計厚みを小さくし、配線層とセルフアラインプロセスで形成されるビアプラグの間隔を縮小し、半導体装置を微細化する。 - 特許庁

In the mold with the pattern formed by a fine uneven shape, alignment marks for determining the relative positional relationship between the substrate and the mold are attached in the shape of a concentric circle to at least two spots.例文帳に追加

微細な凹凸形状によりパターンを形成したモールドに、基板とモールドとの相対位置関係を決定するためのアライメントマークを同心円状に２箇所以上にする。 - 特許庁

To improve adjustment precision and its reliability by reducing variance of the optical axis alignment of a detecting element without requiring fine adjusting operation by a skilled operator.例文帳に追加

本発明は、熟練作業者による微調整作業を必要とせずに、検出素子の光軸合わせのばらつきを低減し、調整精度の向上及びその信頼性を向上する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display panel which can have fine pixels and a high aperture rate by eliminating the concern for an alignment error while laminating substrates and can also have improved display quality.例文帳に追加

基板の貼り合わせ時のアライメント誤差を考慮する必要を無くして画素の微細化や高開口率化が可能であるとともに表示品位を向上可能な液晶パネルを提供する。 - 特許庁

An alignment film 43 is formed on the active matrix substrate 20 having a TFT 14 in each pixel, and an insulating film 44 having dispersion of conductive fine particles is formed on the counter posed substrate 40.例文帳に追加

画素毎にＴＦＴ１４を備えたアクティブマトリクス基板２０には配向膜４３を形成し、対向基板４０には、導電性微粒子を分散させた絶縁膜４４を形成する。 - 特許庁

In the diffuse reflective plate comprising a substrate and a thin film layer having regular many fine rugged shapes, the alignment direction of at least one of the fine rugged shapes and the direction of one side of the substrate are crossed.例文帳に追加

基板と規則的な多数の微細な凹凸形状を有する薄膜層からなる拡散反射板において、規則的な多数の微細な凹凸形状の少なくとも一つの配列方向と、基板のいずれか一辺方向を互いに交わるようにした拡散反射板。 - 特許庁

For instance, by pressing a mold including a part having a fine pattern of lines and spaces and a part not having the fine pattern to the polymer liquid crystal, a part aligned in a specified direction and a part of random alignment are intentionally arranged and simultaneously formed in the liquid crystal.例文帳に追加

たとえば、ラインアンドスペースの微細パターンを有する部分と有しない部分とを含むモールドを高分子液晶に押し付けることによって、当該液晶中に、特定方向へ配向した部分と配向がランダムな部分とを意図的に配置して同時に形成する。 - 特許庁

Further, when an alignment to the wafer W on the fine movement stage WFS2 supported by a coarse movement stage WCS2 is performed at the measurement station 300, the position of the fine movement stage WFS2 within an XY plane is measured with good precision by a measurement system 70B.例文帳に追加

また、計測ステーション３００で、粗動ステージＷＣＳ２に支持された微動ステージＷＦＳ２上のウエハＷに対するアライメントが行われる際に、計測系７０Ｂにより微動ステージＷＦＳ２のＸＹ平面内の位置を精度良く計測する。 - 特許庁

To provide a method of controlling position by which an ultra-fine pattern can be formed in a highly reproducible state with high accuracy when an auto-alignment mechanism is unusable or the fine adjustment of a sample holder is difficult after the holder is fixed in a lithography step performed in the manufacturing process of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の製造工程のリソグラフィー工程において、オートアライメント機構の使用が不可能な場合、またはサンプルホルダー固定後の微調整が困難な場合に極微細パターンを高精度で再現性良く形成できる位置制御方法を提供する。 - 特許庁

The liquid crystal aligning surface has a fine concavo-convex structure wherein the surface has a buckling surface and can change the liquid crystal alignment by changing the fine concavo-convex structure of the liquid crystal aligning surface.例文帳に追加

微細凹凸構造を有する液晶配向表面であって、前記液晶配向表面が座屈表面を有し、液晶配向表面の微細凹凸構造が変化することで液晶配向を変化させることができることを特徴とする液晶配向表面。 - 特許庁

In an alignment area 9 set on a trestle 1, there are provided two sets of fine adjustment push mechanisms 13 opposite to each other along the Y axis direction, at a required interval in the X axis direction and a camera 10 for the purpose of photographing an alignment mark 11 prepared in a plate 5 and a printing target 6.例文帳に追加

架台１上に設定したアライメントエリア９に、Ｙ軸方向に沿って対向する微調押し機構１３を、Ｘ軸方向に所要間隔で２組設け、更に、版５及び印刷対象６に設けたアライメントマーク１１を撮影するためのカメラ１０を備える。 - 特許庁

To transfer a fine transferring pattern to an accurate position of an article to be molded even though the mold is constituted of a material not transmitting light and an alignment mark is not arranged in the article to be molded, in a transfer device transferring a fine transferring pattern formed in a mold to an article to be molded.例文帳に追加

型に形成されている微細な転写パターンを、被成型品に転写する転写装置において、型が光を透過しない材質で構成されており、また、被成型品にアライメントマークが設けられていなくても、前記被成型品の正確な位置に前記微細な転写パターンを転写する。 - 特許庁

To provide a fine particle dispersion in which the alignment structure of fine particles is stably maintained and which reflects light with specified wavelength and sufficiently lowers the angle dependency of reflected light with peak wavelength changed in accordance with the alteration of the incident angle of the light.例文帳に追加

微粒子の配列構造が安定的に維持され、特定の波長の光を反射することができ、光の入射角の変化によって反射光のピーク波長が変化する反射光の角度依存性を十分に低減することが可能な微粒子分散体を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor element of fine structure in which an alignment accuracy, an accuracy of processing technology by step and repeat exposure, finishing size of resist mask, yield by etching technology, etc. are overcome; and to provide a method for manufacturing a semiconductor device in which the semiconductor elements of the fine structures are highly integrated.例文帳に追加

本発明では、アライメント精度、縮小投影露光による加工技術の精度、レジストマスクの仕上り寸法、エッチング技術等による歩留まりを克服し、微細構造の半導体素子、及び微細構造の半導体素子が高集積化された半導体装置を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To realize a fine MOS transistor wherein a thin gate oxide film is arranged, metal is used as gate material, a source/drain region is formed by self alignment, a channel region is shallow and a gate length is at most 0.5 μm.例文帳に追加

薄いゲート酸化膜を有し、金属をゲート材料とし、セルファラインでソース／ドレイン領域が形成された、浅いチャネル領域の、０．５μｍ以下のゲート長を持つ微細なＭＯＳトランジスタを実現する。 - 特許庁

To provide an alignment system that enables measurement and modeling of an asymmetrical target for solving defects of the prior art, and special design and/or fine tuning of a target geometry (geometrical structure).例文帳に追加

従来技法の欠点を解決すべく非対称なターゲットの測定やモデル化、ターゲットジオメトリ（幾何学構造）の特殊な設計および/または微妙な調整を可能にするアライメントシステムを提供すること。 - 特許庁

To provide a thin film piezoelectric element which has a simple wiring configuration as an actuator for fine alignment and simplifies the manufacturing processes, to provide its manufacturing method and to provide an actuator using the same.例文帳に追加

微小位置決め用のアクチュエータとして、配線構成が簡便で、かつ製造工程を簡略化可能な薄膜圧電体素子とその製造方法並びにそれを用いたアクチュエータを提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device that has a fine MOS transistor where a thin gate oxide film is used, a source/drain region is formed by self alignment, and a shallow channel has a gate length of 0.5 μm or less.例文帳に追加

薄いゲート酸化膜を用い、セルファラインでソース／ドレイン領域が形成され、浅いチャネル領域が０．５μｍ以下のゲート長を持つ微細なＭＯＳトランジスタを備えた半導体装置を提供する。 - 特許庁

A fine hole 11 through which alignment layer contaminants such as a gas component are positively exuded, is formed in a position of a reflection layer 10 corresponding to each crossing part of a light shielding film 8 formed in a lattice shape.例文帳に追加

反射層１０のうち格子状に形成された遮光膜８の各交叉部に対応する位置に、ガス成分等の配向膜汚染物を積極的に滲出させる細孔１１を形成する。 - 特許庁

To provide a product with an alignment mark that enables spatially varying reflective properties by using a pattern of fine lines for different polarization components for radiation of selectable orders of diffraction.例文帳に追加

選択可能な回折次数の放射のために様々な偏光成分に対する微細なラインパターンにより空間的に変化する反射特性を可能にするアライメントマークを製品にもたらすことである。 - 特許庁

To provide a high-precision and high-performance liquid crystal display device having high luminance, by controlling the angle or the density of the fine structure of a particulate columnar laminate of an inorganic alignment layer, such as a SiOx film formed by oblique vapor deposition or directional sputtering, by arranging the alignment of liquid crystal in the order, and by reducing color unevenness.例文帳に追加

斜方蒸着或いは指向性スパッタリングにより形成するＳｉＯｘ膜等の無機系配向膜の微粒子の柱状積層の微細構造の角度や密度をコントロールし、液晶配向を揃え、色ムラを低減して高輝度、高精細、高性能の液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a liquid crystal aligner which is excellent in coatability and printability on a panel with fine irregularities, is capable of giving a good liquid crystal aligning property (pretilt angle production) by a photo-alignment method with low radiation exposure, and provides a liquid crystal alignment layer having excellent characteristics of image sticking.例文帳に追加

精緻な凹凸を有するパネルへの塗布性ないし印刷性に優れるとともに、少ない放射線照射量の光配向法によって良好な液晶配向性（プレチルト角発現性）を付与することができ、しかも焼き付き特性に優れる液晶配向膜を与える液晶配向剤を提供すること。 - 特許庁

In this method for manufacturing semiconductor devices, fine adjustment alignment targets 25, 26, 27, and 31 are arranged along a scribe line 29 in the X-direction among scribe lines 29X and 29Y in the X and Y- directions, dividing plural chip patterns 21 on a semiconductor wafer 24.例文帳に追加

半導体ウエハ２４上で複数のチップパターン２１を区画するＸ，Ｙ方向のスクライブライン２９Ｘ，２９Ｙのうち、Ｘ方向のスクライブライン２９Ｘに沿って微調アライメントターゲット２５，２６，２７，３１を配置する。 - 特許庁

To dispense with fine alignment between a contact terminal of a printed circuit board inspection device and a pattern for inspecting the function of the printed circuit board, and to avoid the mounting efficiency of the printed circuit board from being degraded by the pattern for inspecting function.例文帳に追加

プリント基板検査装置の接触端子とプリント基板の機能検査用パターンとの細かな位置合わせを不要とし、かつ、機能検査用パターンによってプリント基板の実装効率が損なわれないようにする。 - 特許庁

To provide a transfer device that can transfer a fine transfer pattern to an accurate position of a molded article even if a mold is formed of a material that does not transmit light and the molded article is not provided with an alignment mark.例文帳に追加

型が光を透過しない材質で構成され、また、被成型品にアライメントマークが設けられていなくても、被成型品の正確な位置に微細な転写パターンを転写できる転写装置を提供する。 - 特許庁

To provide a surface-treating method by which the surface of a glass substrate is roughened, and fine patterns can be formed accurately on the roughened surface by using alignment marks as a reference.例文帳に追加

ガラス基板の表面を粗面化する表面処理方法であって、粗面化された表面上に微細パターンをアライメントマークを基準として正確に形成できるガラス基板の粗面化表面処理方法を提供する。 - 特許庁

Flanges 22c of the resulted semi-cylindrical lenses 22 are held by clips with fine adjustment bases for alignment and a matching oil is applied to the rear surfaces of the semi-cylindrical lenses 22 and the lenses are temporarily adhered to the end faces 20 of the quartz PLC 10.例文帳に追加

このようにして得られた半円筒レンズ２２のフランジ２２ｃをアライメント用微動台付きのクリップで挟み、半円筒レンズ２２の裏面にマッチングオイルを塗布して、石英ＰＬＣ１０の端面２０に仮接着する。 - 特許庁

After the substrate 2 arrives at the processing position, each imaging section 7 for fine adjustment images a second region of the substrate 2 including the alignment mark 3 and narrower than the first region at a second magnification higher than the first magnification.例文帳に追加

基板２が処理位置に到達した後、各微調用撮像部７によって、基板２のアライメントマーク３を含み、かつ第１領域よりも狭い第２領域を、第１倍率よりも高い第２倍率で撮像する。 - 特許庁

Furthermore, the liquid crystal 40 in the vicinity of the first substrate is aligned along a direction vertically intersecting a straight line connecting the two disclinations by subjecting the surface of the first substrate 31 except for the fine pores to homogeneous alignment treatment.例文帳に追加

また、第１基板３１の細孔外の表面には水平配向処理を施すことにより、第１基板近くの液晶４０を２つのディスクリネーションを結ぶ直線と直交する方向に沿って配向させる。 - 特許庁

The resistance value of the liquid crystal and the resistance value of the alignment layer are adjusted by adding an additive such as an organic matter and by adding conductive fine particles of a metal oxide coated with an organic film, respectively.例文帳に追加

液晶の抵抗値の調整は有機物などの添加物を入れることにより、また、配向膜の抵抗値の調整は有機膜を被膜した金属酸化物の導電性微粒子を入れることにより行なう。 - 特許庁

A device and a method are applied for fine adjusting a diffraction grating in an optical wavelength-division multiplexing (WDM) device, and maintaining the diffraction grating at a near-Littrow alignment (or at an accuracy of ±0.003°) over the operational temperature range of the device.例文帳に追加

光学波長分割多重（ＷＤＭ）装置内の回折格子の微調整を可能にし、回折格子を、装置の動作温度にわたって近リトロー・アラインメントに（すなわち＋／−０．００３度の正確さで）維持する装置および方法。 - 特許庁

Because aligmnent controllability of a liquid crystal is imparted with anisotropic fine etching of the surface of the electrodes or the like or anisotropic breaking of molecular bonds, alignment uniformity is not deteriorated and reliability is improved.例文帳に追加

電極等の表面を異方的に微細エッチングしあるいは異方的に分子結合を破壊することにより、液晶の配向規制力を付与しているので、配向均一性が劣化することがなく、信頼性が向上する。 - 特許庁

To provide a document image generating apparatus, a document image generating method and a computer program, wherein a supplementary explanation can be given to be viewed with fine alignment between lower or upper lines of a phrase composed of words or a collocation.例文帳に追加

単語又は連語からなる語句の下方又は上方の行間にきれいに揃って見えるように補足説明を付与することが可能な文書画像生成装置、文書画像生成方法及びコンピュータプログラムを提供する。 - 特許庁

Main body circuit patterns 1a, reticle alignment marks 1c, a bar code 1d, and an identification mark 1e formed on a glass substrate GP of the photomask A are constituted of an extinctive material, having a photosensitive composition containing a fine particulate material and a binder.例文帳に追加

フォトマスクＡのガラス基板ＧＰ上に形成された本体回路パターン１ａ、レチクル合わせマーク１ｃ、バーコード１ｄ、識別マーク１ｅを、微粒子状物質とバインダーとを有する感光性組成物減光体で構成した。 - 特許庁

To provide a method and device for correcting an error in a defect coordinate output from an inspection device to make it easy to select a visual field size for defect search of a defect review device and a defect for fine alignment.例文帳に追加

検査装置から出力された欠陥座標の誤差を補正し、欠陥レビュー装置における欠陥探索用の視野サイズ及びファインアライメント用の欠陥を容易に選定することができる方法及び装置を提供する。 - 特許庁

In an aligner, temperature sensors 44A, 44B, and 44C are respectively attached to fine adjustment stage 42A for reticle, an alignment system ALG, and a Z-tilt stage 58 constituting a body 100 of the aligner and, at the same time, an environment sensor unit ES is provided in a chamber 11.例文帳に追加

露光装置本体１００を構成するレチクル微動ステージ４２Ａ、アライメント系ＡＬＧ及びＺチルトステージ５８に温度センサ４４Ａ、４４Ｂ、４４Ｃを取付けるとともに、チャンバ１１内に環境センサユニットＥＳを設けている。 - 特許庁

To provide a method by which a circuit board, having a wide tolerance of the alignment accuracy coping with landless holes or holes having narrow land widths required for increasing the density of the circuit board can be manufactured by using the subtractive method coping with fine wiring.例文帳に追加

本発明の課題は、回路基板の高密度化のために要求されているランドレスや狭小ランド幅の孔に対応した、位置合わせ精度の許容範囲が広い回路基板の製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The original plate for a pattern alignment layer for three-dimensional display includes a substrate having on its surface a first pattern portion where a fine concavo-convex shape is formed in a given direction and a second pattern portion where the fine concavo-convex shape is formed in a direction different from that of the first pattern portion.例文帳に追加

本発明は、微細凹凸形状が一定方向に形成された第１パターン部および上記微細凹凸形状が上記第１パターン部とは異なる方向に形成された第２パターン部を表面に備える基材を有することを特徴とする３次元表示用パターン配向層用原版を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

To provide a transfer method of an element wherein alignment precision is not damaged after transfer and yield of transfer is not deteriorated in the case that elements which are subjected to fine work are transferred, a semiconductor device and a method for manufacturing an image display device.例文帳に追加

微細加工された素子を転写する際に、転写後も位置合わせ精度が損なわれることもなく、転写の歩留まりも低下しないような素子の転写方法、半導体装置及び画像表示装置の製造方法を提供する。 - 特許庁