「First steps」に関連した英語例文の一覧と使い方(22ページ目) - Weblio英語例文検索

The method includes the steps of: coupling a module to the carrier board; determining, by the carrier board, a type of the module; and providing power to the module based on the module type such that a voltage component of the power is one of a first voltage and a second voltage that is different from the first voltage.例文帳に追加

方法は、モジュールをキャリアボードに結合するステップと、キャリアボードによってモジュールのタイプを判定するステップと、電力の電圧成分が、第１の電圧および第１の電圧とは異なる第２の電圧のうちの一方となるように、モジュールタイプに基づいてモジュールに電力を供給するステップとを含む。 - 特許庁

A technique is provided for the user interface which includes steps of determining whether a first received touch input is for use in GUI setting; determining a GUI setting mode; and activating at least one or above GUI elements for control of game play, in response to the GUI-setting mode by using the received first touch input.例文帳に追加

受信された第１タッチ入力がＧＵＩ設定のためのタッチ入力であるかを判定し、ＧＵＩ設定モードを決定し、受信された第１タッチ入力がＧＵＩ設定モードに対応してゲームプレイ制御のための１つ以上のＧＵＩ要素を活性化するユーザインターフェース提供技術を提案する。 - 特許庁

A method of assembling a stator assembly includes the steps of: providing a vane; providing a first fairing; providing a second fairing located near the second side of the vane, the second fairing having a second seal coupled to the second edge portion of the second fairing; and engaging a portion of the first seal with a portion of the second seal.例文帳に追加

ステータ組立体を組立てる方法は、ベーンを準備するステップと、第１のフェアリングを準備するステップと、ベーンの第２の側面に近接して設置されかつその第２のエッジ部分に結合された第２のシールを有する第２のフェアリングを準備するステップと、第１のシールの一部分を第２のシールの一部分と係合させるステップとを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the flange includes steps for: preparing a laminate having a first metal layer composed of an Al-based material and a second metal layer joined to the first metal layer and composed of a Ti-based material; and forming a seal layer having a mounting face and an annular edge formed on the mounting face by processing the second metal layer.例文帳に追加

本発明に係るフランジの製造方法は、Ａｌ系材料からなる第１の金属層と、第１の金属層に接合されたＴｉ系材料からなる第２の金属層とを有する積層体を準備し、第２の金属層を加工することで、取付面と前記取付面に形成された環状のエッジ部とを有するシール層を成形する。 - 特許庁

The method of producing the dispersion composition includes the steps of dispersing a mixed liquid containing titanium black; a first dispersant and a solvent; and further, adding a second dispersant to the mixed liquid obtained by the dispersion process and dispersing the liquid, wherein a dispersant having an acid value of 50 mgKOH/g or more is used for at least a part of the overall dispersant which includes the first dispersant and the second dispersant.例文帳に追加

チタンブラック、第一の分散剤、及び溶剤を含む混合液に対して分散処理を行なう工程と、分散処理して得られた混合液に更に第二の分散剤を添加して分散処理を行なう工程とを含み、前記第一及び第二の分散剤を含む分散剤の全体の少なくとも一部に、酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の分散剤を用いる。 - 特許庁

The life management system (100) includes: a first step (120) of evaluating the cumulative damage of one or more gas turbine components; a second step (130) of evaluating a gas-turbine unit risk and a classification probability; and a third step (140) of calculating at least one life parameter from a result evaluated by the first and second steps (120) and (130).例文帳に追加

本寿命管理システム（１００）は、１以上のガスタービン部品の累積損傷を求めることを行なう第１のステップ（１２０）と、ガスタービンユニットのニットリスク及び分類確率を求めることを行なう第２のステップ（１３０）と、第１のステップ（１２０）及び第２のステップ（１３０）で求めた結果から少なくとも１つの寿命パラメータを計算することを行なう第３のステップ（１４０）とを含む。 - 特許庁

To provide a method for forming simply and conveniently a first wiring pattern including patterns of less than resolution limit in a first wiring pattern formation region and a second wiring pattern comprised of usual patterns of more than or equal to resolution limit in a second wiring pattern formation region, by using an SADP method (Self Align Double Patterning) through two-time lithography steps is used to form.例文帳に追加

２回のリソグラフィ工程によるＳＡＤＰ法（Self Align Double Patterning）を用いて、第１配線パターン形成領域には解像限界未満のパターンを含む第１配線パターンを形成し、第２配線パターン形成領域には解像限界以上の通常パターンからなる第２配線パターンを簡便に形成する方法を提供する。 - 特許庁

According to one embodiment, the method has steps of: providing a substrate containing a metal-containing barrier layer having the oxidized surface layer; exposing the oxidized surface layer to a flow of a first process gas containing plasma-excited argon gas to activate the oxidized surface layer; and applying substrate bias electric power during the step of exposing the oxidized surface layer to the flow of the first process gas.例文帳に追加

一の実施例によると、当該方法は、酸化表面層を有する金属含有バリア層を含む基板を供する工程、前記酸化表面層を活性化させるために、プラズマ励起されたアルゴン気体を含む第1処理気体流へ前記酸化表面層を曝露する工程、及び、前記の第1処理気体流へ酸化表面層を曝露する工程中に基板バイアス電力を印加する工程を有する。 - 特許庁

The method includes the steps to be executed by the optical line terminal for receiving data from the telecommunication network, identifying the optical network unit to which the data is intended, memorizing the data, transferring information enabling the identified optical network unit to determine a first time period in which the identified optical network unit receives the data, and transferring the data according to the first time period.例文帳に追加

前記光回線ターミナルは、前記通信ネットワークからデータを受信し、前記データが対象とする前記光ネットワークユニットを識別し、前記データを記憶し、前記識別された光ネットワークユニットが、該識別された光ネットワークユニットが前記データを受信する第１の時間期間を決定することを可能にする情報を転送し、前記第１の時間期間に従って前記データを転送する。 - 特許庁

The method of measuring a three-dimensional position of illuminating lamps includes a first step S10 of detecting an illuminating lamp 11 to be measured, a second step S20 of measuring a three-dimensional position of the detected illuminating lamp, and a third step S30 of repeating the first and second steps for the other illuminating lamps until no illuminating lamp to be measured remains.例文帳に追加

本発明に係る照明灯の三次元位置測定方法は、測定対象となる照明灯１１を検出する第１ステップＳ１０と、検出した照明灯の三次元位置を測定する第２ステップとＳ２０、その他の複数の照明灯について、測定対象となる照明灯が存在しなくなるまで第１ステップと第２ステップを繰り返す第３ステップＳ３０とからなる方法である。 - 特許庁

The signalling method includes steps of: transmitting a control signal relating to a sleep mode from the base station either directly or indirectly to the mobile station in first transmission; and transmitting the control signal or a corresponding control signal from the base station to at least one of the relay stations in the first transmission or in separate second transmission so that the relay station is able to configure its operation in accordance with the control signal.例文帳に追加

該方法は、第１の送信において基地局から移動局に直接的または間接的にスリープモードに関する制御信号を送信する段階と、前記第１の送信または別の第２の送信において、中継局が前記制御信号に応じて動作できるように、基地局から少なくとも１つの中継局に前記制御信号または対応する制御信号を送信する段階とを有する。 - 特許庁

The method includes the steps of: applying to the surface of the substrate a first liquid comprising a curable composition and an activator for the second layer-forming chemical reaction; curing the curable composition, thereby forming a first solid layer adhered to the surface of the substrate, capable of increasing the degree of adhesion on the surface of the substrate; and activating the second layer-forming chemical reaction by bringing into contact with a second fluid.例文帳に追加

この方法は基板の表面と、硬化性組成物及び第二層形成の化学反応のための活性化剤を含む第一液を接触させ、そして硬化性組成物を硬化させて基板の表面へのその材料の付着度を増し、それにより基板の表面に第一固体層を形成して付着させ、第二流体(second fluid)と接触させた後に第二層の形成の化学反応を活性化させうることを含む。 - 特許庁

With respect to the array substrate for an in-plane switching mode liquid crystal display device, a structure which is manufactured through four mask steps and exposes semiconductor layers at both sides of a data line has a first feature that a first blocking pattern for blocking light is formed under the semiconductor layer, and a second feature that a second blocking pattern for blocking an influence of the semiconductor layer is formed over and in contact with the data line.例文帳に追加

本発明による横電界方式の液晶表示装置用アレイ基板は、４マスク工程によって製作されデータ配線の両側に半導体層が露出する構造において、第１特徴は、半導体層の下部に光を遮断する第１遮断パターンを構成して、第２特徴は、データ配線の上部に、これと接触しながら半導体層による影響を遮断する第２遮断パターンを構成する。 - 特許庁

The method of manufacturing a semiconductor device includes steps of: forming a first layer on a sidewall of a groove formed on a main surface of a semiconductor substrate; embedding the groove by a protective film; and etching back the protective film by a dry etching method to set the height of the surface of the protective film at a position lower than that of the opening of the groove, and etching and removing the first layer exposed by the etching back.例文帳に追加

半導体基板主表面に形成された溝の側壁に第１の層を形成する工程、溝を保護膜で埋設する工程、保護膜の表面の高さが溝の開口部よりも低い位置になるようにドライエッチング法でエッチバックし、該エッチバックにより露出した第１の層をエッチング除去する工程、とを含む半導体装置の製造方法。 - 特許庁

The method comprises the steps of: forming a gate electrode on a semiconductor wafer; controlling the center-of-gravity axis of ion beams irradiating first and second regions separated with a region just under the gate electrode in between on the semiconductor wafer vertically to the directions of gate length and gate width; and introducing impurities into the first and second regions by irradiating these regions with said ion beams.例文帳に追加

半導体基板にゲート電極を形成する工程と、前記半導体基板の前記ゲート電極直下領域を挟んで分離された第１及び第２の領域に照射されるイオンビームの重心軸を、ゲート長方向及びゲート幅方向に対して垂直に制御する工程と、前記イオンビームを照射して、前記第１及び第２の領域に不純物を導入する工程を備える。 - 特許庁

The correction method for measurement values of a laser interferometer comprises the steps of (a) determining the moved distance by moving a moving table only a first distance and therewith measuring the starting position and the ending position for the movement of the moving table, and (b) obtaining correction information for correcting the laser interferometer, based on the movement distance determined with the laser interferometer and the first distance.例文帳に追加

レーザ干渉計の計測値の補正方法は、（ａ）可動テーブルを、第１の方向に関して第１の距離だけ移動させるとともに、該可動テーブルの移動開始位置及び移動終了位置をレーザ干渉計で計測して移動距離を求める工程と、（ｂ）前記レーザ干渉計を用いて求められた移動距離と、前記第１の距離とに基づいて、該レーザ干渉計を補正するための補正情報を得る工程とを有する。 - 特許庁

The manufacturing method of a semiconductor substrate includes the steps of: forming a first SiGe layer with a thickness of 10 to 200nm; applying anneal processing to the substrate at a temperature of 900°C; and forming a second SiGe layer with a thickness of 10 to 300nm on the first SiGe layer.例文帳に追加

シリコン基板上に、第１のＳｉＧｅ層を厚さ１０〜２００ｎｍで形成する工程と、前記基板を９００℃以上でアニール処理する工程と、前記第１のＳｉＧｅ層上に、第２のＳｉＧｅ層を厚さ１０〜３００ｎｍで形成する工程とを備えていることを特徴とする半導体基板の製造方法を用いる。 - 特許庁

This method includes the steps of: determining a first required fuel pressure on the upstream side with respect to a fuel nozzle; determining the minimum allowable pressure requirement on the upstream side of a gas control valve based on the first required fuel pressure; and determining a fuel pressure reference for controlling a pressure control valve based on the minimum allowable pressure requirement.例文帳に追加

本方法は、前記燃料ノズルに対する上流側の第１の必要燃料圧力を決定する段階と、前記第１の必要燃料圧力に基づいて前記ガス制御バルブの上流側の最低許容圧力要件を決定する段階と、前記最低許容圧力要件に基づいて前記圧力制御バルブの制御のための燃料圧力基準を決定する段階と、を含む。 - 特許庁

The dielectric device manufacturing method comprises the steps of: forming a dielectric layer 3 made of an oxide on a first electrode layer 2 made of a metal; forming an etching mask 4 on the dielectric layer 3; and etching the dielectric layer 3 through the etching mask 4 by means of plasma of CHF_3-containing etching gas to expose the first electrode layer 2.例文帳に追加

金属からなる第１の電極層２の上に酸化物からなる誘電体層３を形成し、誘電体層３の上にエッチングマスク４を形成し、ＣＨＦ_３を含むエッチングガスのプラズマによってエッチングマスク４を介して誘電体層３をエッチングすることで、前記第１の電極層２を露出させる。 - 特許庁

The method of manufacturing the wiring board includes the steps of laser machining a board 10 having a wiring pattern 12, cutting the part of the wiring pattern 12, and, then, performing second laser machining to the board 10 using the same laser oscillator 30 as the first laser machining, and removing the residue adhered to the board 10 by the first laser machining.例文帳に追加

配線基板の製造方法は、配線パターン１２を有する基板１０に第１のレーザー加工を行って、配線パターン１２の一部を切断すること、及び、その後、第１のレーザー加工と同じレーザー発振器３０を利用して基板１０に第２のレーザー加工を行い、第１のレーザー加工によって基板１０に付着した残渣を除去することを含む。 - 特許庁

The method for marking the semiconductor wafer 302 includes the steps of providing a reticle 300, including liquid crystal pixels; positioning the semiconductor wafer in proximity to the reticle 300; directing radiation through a first plurality of the pixels onto a first location on the wafer; changing the relative positions of the semiconductor wafer and the reticle; and directing radiation via a second plurality of the pixels onto a second location on the wafer.例文帳に追加

半導体ウエハ３０２をマーキングするための方法であって、液晶画素を含むレチクル３００を提供する工程、半導体ウエハをレチクルに近接して配置する工程、第１の複数の画素を介してウエハの第１の領域に放射を向ける工程、半導体ウエハとレチクルの相対的な位置を変更する工程、および第２の複数の画素を介してウエハの第２の領域に放射を向ける工程を含む。 - 特許庁

The method comprises the steps, executed by the first telecommunication device through a wireless network, of: determining the propagation gains between the antennas of the first and second telecommunication devices; determining, from the propagation gains, a linear transform of dimension of m0*Mk with m0<Mk; transferring information representative of the linear transform to the second telecommunication device.例文帳に追加

無線ネットワークを通じて、第１の電気通信デバイスによって実行される、第１の電気通信デバイスのアンテナと第２の電気通信デバイスのアンテナとの間の伝搬利得を求めるステップと、伝搬利得から、ｍ０＜Ｍｋであるｍ０＊Ｍｋの次元の線形変換を求めるステップと、線形変換を表す情報を第２の電気通信デバイスへ転送するステップとを含む。 - 特許庁

The method for continuously producing such a high-strength and high-rigidity stranded material that stranded reinforcing fiber bundles are supplied with a matrix is provided, comprising the first step of mitigating the twists of stranded reinforcing fiber bundles and the second step of applying twists to the resultant fiber bundles again, wherein a fluidized matrix is imparted to the reinforcing fiber bundles over the first and the second steps.例文帳に追加

本発明は、撚りを有する強化繊維束へマトリックスを付与した撚り線材の連続製造方法であって、撚りを有する強化繊維束の撚りを緩和する第１の工程と、該強化繊維束に再び撚りを付与する第２の工程を有し、第１と第２の工程にまたがって該強化繊維束に流動化したマトリックスを付与することを特徴とする撚り線材の製造方法である。 - 特許庁

A method includes steps of: preparing a laminated body which sandwiches a product part consisting of at least one product between first metal plates; forming a laminated construction in which second metal plates and cushion materials having a hole on at least one part thereof are arranged outside of the first metal plates; and heating and pressurizing the laminated construction.例文帳に追加

少なくとも１枚の製品からなる製品部分の上下を第１の金属板で挟持した積層物を準備する工程と、前記上下の第１の金属板の外側に第２の金属板と少なくとも一部に穴を設けたクッション材を配置した積層構成物を作成する工程と、それを加熱加圧する工程とを備える。 - 特許庁

This method includes the steps of laser-forming a blind, inwardly-tapering transition opening into a first side surface of the workpiece, and EDM-forming a generally cylindrical through-hole to a second, opposing side surface of the workpiece communicating with the inwardly-tapering transition opening to form a through cooling hole 14 communicating with the first and second side surfaces of the workpiece.例文帳に追加

本方法は、加工物の第１の側面内にブラインド内向きテーパ移行開口部をレーザ形成する段階と、内向きテーパ移行開口部と連通したほぼ円筒形貫通孔を加工物の第２の対向する側面にＥＤＭ形成して、該加工物の第１及び第２の側面と連通した貫通冷却孔１４を形成する段階とを含む。 - 特許庁

This method of matching the brightness of a plurality of lamps driven by an A.C. drive current comprises the steps of: selecting a first one of the lamps having a lowest brightness; and reducing the A.C. drive current carried to a second lamp periodically so as to reduce the brightness of the second lamp to match that of the first lamp.例文帳に追加

ＡＣ駆動電流によって駆動される複数のランプの輝度を整合する方法は、前記ランプの中から最も低い輝度を有する第１のランプを選択するステップと、第２のランプに流れるＡＣ駆動電流を周期的に減少させ、それによって、第２のランプの輝度を減少させ、第１のランプの輝度に整合させるステップとを備える。 - 特許庁

The hologram recording method comprises at least a first step of producing a latent image upon holographic exposure, and a second step of forming an interference fringe by amplifying the latent image, wherein the first and second steps are dry processing; particularly, the second step is a step of causing the the refractive index modulation by amplifying the latent image to form an interference fringe.例文帳に追加

少なくともホログラム露光により潜像を形成する第１の工程と、その潜像の増幅により干渉縞を形成する第２の工程を有し、それらを乾式処理にて行うことを特徴とするホログラム記録方法、特に、第２の工程が、その潜像を増幅して屈折率変調を行うことにより干渉縞を形成するホログラム記録方法。 - 特許庁

The method for observing effect of a mammals' treatment composition includes the steps of (i) measuring the first PAK phosphorylation level of first biopsy obtained from the mammals before the administration of a treatment composition to the mammals and (ii) measuring the second PAK phosphorylation level of the next biopsy obtained from the mammals after the administration of a treatment composition.例文帳に追加

哺乳類の治療組成物の効果を観察する方法は、（ｉ）治療組成物の哺乳類への投与前にその哺乳類から得た第１の生検の第１のＰＡＫリン酸化レベルを測定することと、（ｉｉ）その治療組成物の投与後にその哺乳類から得た次の生検の第２のＰＡＫリン酸化レベルを測定することを含む。 - 特許庁

The method includes steps selecting a communication protocol among the plurality of communication protocols; retrieving, from a first memory, information for accessing the device using the selected communication protocol; and accessing the device using the selected communication protocol and the information retrieved from the first memory.例文帳に追加

その方法は、複数の通信プロトコルの中から通信プロトコルを選択する段階と、選択された通信プロトコルを用いて前記装置にアクセスするための情報を第１メモリから検索する段階と、前記第１メモリから検索された前記情報と前記の選択された通信プロトコルとを用いて前記装置にアクセスする段階とから構成される。 - 特許庁

The crystal is prepared by a liquid-liquid interface deposition method including steps of: (1) allowing a solution containing a first solvent having the fullerene dissolved therein to meet with a second solvent having lower solubility for fullerene than that of the first solvent; (2) forming a liquid-liquid interface between the solution and the second solvent; and (3) depositing carbon fine wires on the liquid-liquid interface.例文帳に追加

（１）フラーレンを溶解している第１溶媒を含む溶液と、前記第１溶媒よりもフラーレンの溶解能が小さな第２溶媒とを合わせる工程、（２）前記溶液と前記第２溶媒との間に液−液界面を形成する工程、及び（３）前記液−液界面にて炭素細線を析出させる工程を含む液−液界面析出法によって製造する。 - 特許庁

The computer network follows the steps of a method comprising: transmitting down-stream from the SCS a control signal having synchronization information on the first frequency band; receiving the control signal at the client stations; transmitting up-stream from the client stations to the SCS on the second frequency band; and acknowledging on the first frequency band a successful receipt by the SCS of the up-stream transmission.例文帳に追加

コンピュータ・ネットワークは、第1周波数帯の同期情報を有する制御信号をSCSからダウンストリーム送信し、制御信号をクライアント・ステーションで受信し、第2周波数帯でクライアント・ステーションからSCSにアップストリーム送信し、及びアップストリーム送信のSCSによる第1周波数帯での受信に肯定応答するような方法で制御される。 - 特許庁

A method of manufacturing an extra fine polyamide fiber having a continuous fiber length comprises the steps of: spinning and drawing a composite fiber comprising a first resin component that is removable with a prescribed solution and a polyamide resin component that is hardly removable with the solution; shrinking the drawn composite fiber so that a fiber length of the composite fiber shrinks by 8% or more; and removing the first resin component with the solution.例文帳に追加

所定の溶液によって除去可能な第１の樹脂成分、及び該溶液によって除去が困難なポリアミド系樹脂成分を含む、複合繊維を紡糸、延伸し、該延伸した複合繊維の繊維長が8％以上収縮するように、収縮させ、ついで第１の樹脂成分を該溶液によって除去する工程を設ける、連続した繊維長を有する極細ポリアミド系繊維を製造する方法。 - 特許庁

Concretely, the method includes a material supply step where the first material gas and the second material gas are supplied at a specified flow ratio r, and a material accumulation step where the supply of the first material gas is stopped while the only second material gas is supplied and the material supplied in the material supply step is deposited on a substrate, and the steps are alternately repeated to deposit a high-quality thin film.例文帳に追加

具体的には、特定の流量比ｒで第１原料気体および第２原料気体を供給する原料供給工程と、上記の第１原料気体の供給を停止して第２原料気体のみを供給し、原料供給工程において供給された原料を基板上に成膜させる原料堆積工程とを含み、これらの工程を交互に繰り返すことによって高品質のものに成膜する。 - 特許庁

The method of fabricating the duplexer utilizing an air-gap type FBAR includes the steps of: fabricating a first substrate part in which a plurality of layered resonance parts are formed; fabricating a second substrate part in which a plurality of air gaps and an isolation part formed therebetween are produced; and bonding the first substrate part and the second substrate part.例文帳に追加

このエアギャップ型ＦＢＡＲを利用したデュプレクサの製造方法は、積層共振部が複数製作された第１基板部の製造段階、複数のエアギャップおよびその間に形成されたアイソレーション部が製作された第２基板部の製造段階および第１基板部と第２基板部を接合させる段階を含む。 - 特許庁

In an embodiment, the data management method includes the steps of: testing for the presence/absence of the controller module 340 through a first data port using the processor 330; and testing for the presence/absence of the controller module 340 through a second port if the controller module 340 is not found through the first port.例文帳に追加

一実施形態において、データ管理方法は、プロセッサ３３０を用いて、第１のデータ・ポートを通じてコントローラ・モジュール３４０の有無をテストするステップと、第１のデータ・ポートを通じて、コントローラ・モジュール３４０が見つけられない場合には、第２のデータ・ポートを通じて、コントローラ・モジュール３４０の有無をテストするステップと、を含む。 - 特許庁

This method comprises steps of retrieving and displaying a first message for an unauthorized user A; authenticating an authorized user B; determining whether the user B belongs to an authorized group or not; retrieving, when the user B belongs to the authorized group, a second message for the user B; and synthesizing and displaying the first and second messages.例文帳に追加

権限のないユーザＡ用の第一のメッセージを検索し、表示するステップと、権限のあるユーザＢを認証するステップと、ユーザＢが権限のあるグループに属するかどうか判断するステップと、属しているならば、ユーザＢ用の第二のメッセージを検索するステップと、第一と第二のメッセージを合成し、表示するステップを有するように構成することを特徴とする。 - 特許庁

A method for making an interconnect structure includes the steps of: applying a first metal layer 24 to an electronic device 18, wherein the electronic device 18 comprises at least one I/O contact 23 and the first metal layer 24 is located on a surface of the I/O contact 23; and applying a removable layer 26 to the electronic device 18.例文帳に追加

電子デバイス１８に第１の金属層２４を適用する段階であって、電子デバイス１８は１以上のＩ／Ｏコンタクト２３を含み、第１の金属層２４はＩ／Ｏコンタクト２３の表面上に配置される段階と、電子デバイス１８に取外し可能な層２６を適用する段階とを含んでいる。 - 特許庁

A method of manufacturing solder bumps comprises steps of: forming a first protrusion 311 extending upwardly from a contact pad 102 of a semiconductor chip 101; forming a second protrusion 312 extending upwardly from a ball pad of a mounting substrate 109; and forming the first protrusion 311 and second protrusion 312 within the solder material.例文帳に追加

ソルダバンプ製造方法において、半導体チップ１０１の接続パッド１０２から上向きに延びる第１突起部３１１を形成する段階と、実装基板１０９のボールパッドから上向きに延びる第２突起部３１２を形成する段階と、第１突起部３１１及び第２突起部３１２をソルダ物質内に形成する段階を有する。 - 特許庁

The disclosed method includes the steps of judging that a connection related to the terminal is to be at least partially canceled in one of the first and the second communication network layers, and transferring the judgement from one communication network layer wherein that judgement is made, through an interface between the first and the second communication network layers to the other communication network layer.例文帳に追加

第１及び第２通信ネットワーク層の一方においてターミナルに関連した接続の少なくとも一部分を解除すべきであると判断し、そして判断を、その判断がなされた一方の通信ネットワーク層から、第１及び第２の通信ネットワーク層間のインターフェイスを経て、他方の通信ネットワーク層へ転送するという段階を備える。 - 特許庁

A display control method of a communication device disclosed herein includes the steps of: displaying a real-time image captured by an imaging apparatus on a first display unit; storing the real-time image according to a user command; and displaying the real-time image on the first display unit and the stored image on a second display unit.例文帳に追加

本発明に係る通信端末機は、撮像装置が捉えているリアルタイム画像を第１表示部に表示する段階と、ユーザの撮像命令に従い前記リアルタイム画像を保存する段階と、前記第１表示部に前記リアルタイム画像を、第２表示部に前記保存画像を表示する段階と、を含む。 - 特許庁

The method comprises a step of acquiring picture data, a first processing step of forming copy-forbidden objects from the picture data, a second processing step of forming prints from the picture data, and a step of determining which of the first and second processing steps is executed according to mode designating information.例文帳に追加

本発明では、画像データを獲得する獲得工程、前記画像データから複写禁止対象物を形成する第１の処理工程、前記画像データから印刷物を形成する第２の処理工程、モード指定情報に応じて、前記第１の処理工程、第２の処理工程のいずれで処理を行うか判定する判定工程とを有することを特徴とする。 - 特許庁

The semiconductor manufacturing method comprises the steps of forming a first high-melting metal film 5 on a semiconductor substrate, forming a second high-melting metal film 6A having a reactant 7 of a high-melting metal nitride on the first high-melting metal film, and forming a silicon nitride film 8 on the second high-melting metal film.例文帳に追加

半導体基板上に第一の高融点金属膜５を形成する工程と、前記第一の高融点金属膜上に高融点金属窒化物の反応物７を持つ第二の高融点金属膜６Ａを形成する工程と、前記第二の高融点金属膜上にシリコン窒化膜８を形成する工程とからなる。 - 特許庁

The method for manufacturing of the dye-sensitized solar cell includes the steps of: forming a frame-shaped sealing part on a flexible first electrode; forming a charge transfer layer inside the sealing part, oppositely sticking the first electrode and a separately formed flexible second electrode together under a reduced pressure; and transporting them under an atmospheric pressure to cure the sealing part.例文帳に追加

フレキシブルな第１電極の上に枠状の封止部を形成する工程と、封止部の内側に電荷移動層を形成する工程と、前記第１電極と別途形成したフレキシブルな第２電極とを、減圧下で対向させ貼り合わせる工程と、大気圧下に搬送して封止部を硬化する工程を有することを特徴とする色素増感型太陽電池の製造方法。 - 特許庁

In a sequence where processes from a first through a fourth are performed retaining a semiconductor substrate 3 in the chamber 5, the magnitude of the RF power is selected from P1-P4 according to each process treatment and the process treatments from the first to the fourth processes are performed in consecutive steps of 21A-21D.例文帳に追加

開示される半導体装置の製造方法は、半導体基板３をプロセスチャンバ５内に保持したままで第１〜第４のプロセス処理を施す場合、それぞれのプロセス処理に応じてその都度高周波電力Ｐ１〜Ｐ４の大きさを切り替えて、第１〜第４のプロセス処理を連続した第１〜第４のステップ２１Ａ〜２１Ｄのステップで行う。 - 特許庁

The method further comprises steps of removing a part included in the region 52 of the first insulating film 13A, and forming a second gate insulating film 15B made of an acid nitride film having a thickness smaller than that of the first film 13A on the region 52 by heat-treating the substrate 11 in an acid nitride atmosphere.例文帳に追加

次に、第１のゲート絶縁膜１３Ａの第２の素子形成領域５２に含まれる部分を除去し、半導体基板１１に対して酸窒化性雰囲気で熱処理を行なうことにより、第２の素子形成領域５２上に膜厚が第１のゲート絶縁膜１３Ａよりも小さい酸窒化膜からなる第２のゲート絶縁膜１５Ｂを形成する。 - 特許庁