「First steps」に関連した英語例文の一覧と使い方(21ページ目) - Weblio英語例文検索

The pH of the raw material solution is controlled in two steps to 2.5 to 3.5 in the first step and to 4.5 to 5.5 in the second step, and sulfuric acid is added to the obtained iron precipitates, and stirring is performed to selectively elute and recover Ni and Co into sulfuric acid.例文帳に追加

原料溶液のｐＨを第１段階で２.５〜３.５、第２段階で４.５〜５．５に２段階調整し、得られた鉄沈殿物に硫酸を加えてｐＨ３.０〜４.０で攪拌することにより、ＮｉとＣｏを選択的に硫酸中に溶出回収する。 - 特許庁

Further, the load measuring device is provided with a lift switch 28 for detecting which stage first and second lift cylinders lifts a lift bracket; and steps 13, 14 for switching the parameters used in CPU 32 and step S15 based on a detection signal of the lift switch 28.例文帳に追加

また、荷重計測装置は、いずれの段の第１、２リフトシリンダがリフトブラケットを上昇させているかを検知する揚高スイッチ２８と、揚高スイッチ２８の検知信号に基づいてＣＰＵ３２及びステップＳ１５で用いるパラメータを切り替えるステップ１３、１４とを備えている。 - 特許庁

A method is described comprising the steps of a) providing a substrate 1, b) providing a first epitaxial semiconducting layer 3 on top of the substrate 1, and c) forming a one- or two-dimensional repetitive pattern, each part of the pattern having an aspect ratio in the range from 0.1 to 50.例文帳に追加

ａ）基板１を用意するステップと、ｂ）第１エピタキシャル半導体層３を基板１の上に設けるステップと、ｃ）１次元または２次元の繰り返しパターンを形成するステップと、を含み、パターンの各部分が、０．１〜５０の範囲のアスペクト比を有するようにした方法を開示する。 - 特許庁

The distance between the second projection 83 and the first projection 73 is formed shorter than the distance between the inclining part 82 and the trunk part 72, and the opening and closing operation of the discharge valve 70 is conducted in steps through the two projections 73 and 83.例文帳に追加

ここで、第２突出部８３と第１突出部７３との間の距離が傾斜部８２と胴体部７２との間の距離より短く形成され、２つの突出部７３、８３を通じて吐出バルブ７０の開閉が段階的に行われるようにする。 - 特許庁

The method includes the steps of forming a mask layer 2 having a plurality of openings, which are arranged one or two dimensionally, on a first-conductive-type or semi-insulating semiconductor substrate 1, and selectively growing a plurality of semiconductor layers 3a, 3b, and 3c including an absorption layer 3b in the openings.例文帳に追加

第１導電型または半絶縁性の半導体基板１上に、一次元または二次元に配列された複数の開口部を有するマスク層２を形成する工程と、前記開口部に受光層３ｂを含む複数の半導体層３ａ、３ｂ、３ｃを選択成長させる工程とを含む。 - 特許庁

The method further comprises the steps of then removing etching residue of a bottom Mo layer 51 by plasma etching under the same resist pattern 9, and removing a protrusion 54 of a top Mo layer 53 at an end face of the pattern of the three-layer metal film (first stage of second etching).例文帳に追加

次いで、同一のレジストパターン９下で、プラズマエッチングにより、ボトムＭｏ層５１のエッチング残りを除去するとともに、三層金属膜のパターンの端面におけるトップＭｏ層５３の突き出し部５４を除去する（第２のエッチングの第１段階）。 - 特許庁

Regarding the setting of a side registration adjustment value, prior to the execution of a printing job, a side registration sensor is moved to an HP, and in the case of printing, first, a default value is read for every paper, and the default value is set as the side registration adjustment value (steps 100 to 108).例文帳に追加

サイドレジ調整値の設定は、印刷ジョブの実行に先立ってサイドレジセンサをＨＰに移動し、印刷実行時には、先ず、用紙ごとにデフォルト値を読み込み、デフォルト値をサイドレジ調整値として設定する（ステップ１００〜１０８）。 - 特許庁

This method for polishing a substrate comprises the steps of first polishing a copper or a copper alloy having a polishing liquid having a pH of 3 or less and a concentration of an oxidizer of a conductor of 1.5 to 10 wt.%, and second polishing a barrier layer with the liquid of the concentration of the oxidizer regulated to 0.01 to 3 wt.%.例文帳に追加

研磨液のｐＨが３以下であり、導体の酸化剤の濃度を第１工程の銅または銅合金の研磨では１．５〜１０重量％、第２工程のバリア層の研磨では０．０１〜３重量％に調整する基板の研磨方法を用いる。 - 特許庁

First and second detachable connecting means 13 and 17 for connecting the combustor to an oil feeding route B and an oil return route C when the oil feeding tank 12 is mounted on the burning appliance body are integrally formed at the oil feeding tank side and at the combustor side, respectively, to make the burning appliance compact and reduce the assembling or working steps.例文帳に追加

給油タンク１２を本体に装着したときに、燃焼部が送油経路Ｂ及び戻り油経路Ｃに接続する分離可能な第１の接続手段１３と第２の接続手段１７を給油タンク側及び燃焼部側で夫々一体化し、コンパクトで組立や加工数を少なくする。 - 特許庁

The aligning process includes steps of (a) irradiating first and second substrates 10 and 20 with light and measuring the luminance of the reflecting light of the luminance measurement area 100, and (b) moving the second substrate 20 in parallel with an X axis and specifying a position where luminance becomes smallest.例文帳に追加

位置合わせ工程は、（ａ）第１及び第２の基板１０，２０に光を照射して、輝度測定エリア１００の反射光の輝度を測定すること、及び、（ｂ）第２の基板２０をＸ軸と平行に移動させて、輝度が最も小さくなる位置を特定することを含む。 - 特許庁

The adhesion method comprises the steps of: coating each surface of a foamed body first with a primer for adhesion containing a polyisocyanate compound and then with an adhesive containing polychloroprene latex as a main component; and successively bringing one of the coated surfaces come into contact with the other surface to be adhered.例文帳に追加

ポリイソシアネート化合物からなる化合物を含有する接着用プライマーを発泡体表面に塗布後、ポリクロロプレンラテックスを主成分とする接着剤を塗布し、次いで相対する被着体を接面し接着する。 - 特許庁

The method of driving the organic EL display device includes the steps of: switching the video of a pixel part that includes pixels to a black video; and sequentially dropping the voltage of a first power supply at least two times so as to be able to display the black image when the image is switched to the black video.例文帳に追加

本発明の有機電界発光表示装置の駆動方法は、画素を含む画素部の映像がブラック映像に切替えられるステップと、ブラック映像に切替えられたとき、第１電源の電圧を、ブラック映像が表示できるように、少なくとも２回順次下降させるステップとを含む。 - 特許庁

The evaluation values are calculated as to all the generated input series to select the lowest evaluation value of input series (steps S9-S11), and the first input value in the selected input series is output to the control object (step S12).例文帳に追加

そして、生成したすべての入力系列について評価値を計算することにより、最も評価値が低い入力系列を選択し（ステップＳ９〜Ｓ１１）、選択した入力系列の最初の入力値を制御対象に出力する（ステップＳ１２）。 - 特許庁

When no network printer at the usable state is found, the terminal simultaneously retrieves whether or not a network printer at the usable state exists to all the network printers including the network printer to which the print request is made first steps S101-S109.例文帳に追加

使用可能状態にあるネットワークプリンタが見つからないと、端末は最初にプリント要求を行ったネットワークプリンタを含めて全てのネットワークプリンタに対して、同時に使用可能状態にあるネットワークプリンタがあるか検索を行う（ステップＳ１０１〜Ｓ１０９）。 - 特許庁

Both carrying devices 1 and 2 form steps for transferring printed products 3 and 4 like a flow of waterfalls, so that the first and the second product flows S1 and S2 are combined to be the third product flow S3 that is common on the second carrying device 2.例文帳に追加

両方の搬送装置（１，２）が印刷製品（３，４）を滝流状に移送する段差を形成し、これによって第１および第２の製品流（Ｓ１，Ｓ２）が第２の搬送装置（２）上において共通の第３の製品流（Ｓ３）に統合される。 - 特許庁

The number of nodes in plural precise delay routes forming a propagation path of the signals (each of them being connected to mutually difference one of plural coarse delay steps, in the first coarse delay route) is recorded, for the arrival points of time of the successively entering signals at intervals longer than the cycle period of the reference clock signal.例文帳に追加

基準クロック信号の繰返し周期よりも長い間隔で逐次的に入来する信号の到達時点を、それら信号の伝搬路を形成する（第１の粗遅延経路の中の複数の粗遅延段の互いに異なる一つに各々が接続されている）複数の精遅延経路内のノードの数を記録する。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device includes steps of forming an interlayer dielectric film 37 having an opening (contact holde 36), forming a conductor film 39 on the interlayer dielectric film 37 and in the opening, and applying and forming a first photosensitive organic film 1 on the conductor film 39.例文帳に追加

半導体装置の製造方法は、開口（コンタクトホール３６）を有する層間絶縁膜３７を形成する工程と、層間絶縁膜３７上及び開口内に導体膜３９を形成する工程と、導体膜３９上に第１感光性有機膜１を塗布形成する工程を有する。 - 特許庁

The method for manufacturing the photovoltaic device comprises the steps of sequentially laminating a first transparent conductive film 2a, a metal thin film 2b and a second transparent conductive film 2c on an insulating substrate 1 having a transparency to form a rear surface electrode 2, and further laminating a semiconductor layer 3 on the rear surface electrode 2.例文帳に追加

透光性を有する絶縁性基板１に第１透光性導電膜２ａ、金属薄膜２ｂ、第２透光性導電膜２ｃを順次積層して裏面電極２を形成し、さらに裏面電極２上に半導体層３を積層する。 - 特許庁

The method further comprises the steps of solidly coating the character part of the image data by its peripheral color, based on a character region information and the binarized image data as a layout analyzed result in a character solid coating part 105, and thereby to form a first electronic form.例文帳に追加

文字塗りつぶし部１０５でにおいて、該レイアウト解析結果としての文字領域情報及び前記二値画像データに基づき、原画像データにおける文字部をその周囲色で塗りつぶすことによって、第１の電子フォームを作成する。 - 特許庁

The system for detecting the undesired electronic mail, includes the steps of: receiving the electronic mail (302); extracting a keyword from text of the electronic mail (304); and constructing a first retrieval inquiry based on at least one keyword extracted from the text of the electronic mail (306).例文帳に追加

動作中、システムは電子メールを受信し（３０２）、電子メール本文からキーワードの組を抽出し（３０４）、電子メール本文から抽出された少なくとも１つのキーワードに基づいて、第１の検索クエリを構築する（３０６）。 - 特許庁

According to one aspect, a method for utilizing a memory system that has a nonvolatile memory with at least one reserved memory area includes steps of: providing a power to the memory system; initializing the nonvolatile memory; and writing a first signature into the reserved memory area.例文帳に追加

本発明のある局面によると、少なくとも１つの保留メモリ領域を含む不揮発性メモリを有するメモリシステムを利用する方法は、電力をメモリシステムに提供する工程と、不揮発性メモリを初期化する工程と、第１の署名を保留メモリ領域に書き込む工程とを含む。 - 特許庁

The method comprises the steps of first heating the printed base by a heat drying unit 20 to dry the solvent in the ink, and thereafter passing the printed base by the unit 30 and to further drying it.例文帳に追加

或いは、まず印刷した基材を熱乾燥ユニット２０で加熱することによってインキ中の溶剤を乾燥せしめ、しかる後に該印刷した基材を真空乾燥ユニット３０で真空中を通すことによって、さらに乾燥せしめるようにしてもよい。 - 特許庁

The method further comprises the steps of ejecting an air flow or a combustion flame from a first mixing burner 26 to the flame of the burner 24 to form a mixture flow, introducing the mixture flow to a second combustion chamber 20 via a throttle unit 16, ejecting a flame from a second mixing burner 28, and bringing about a mixture secondary combustion.例文帳に追加

このメインバーナー２４の火炎に対し、第１混合バーナー２６から空気流又は燃焼火炎を噴出して混合流を形成し、絞り部１６を経て第２燃焼室２０に導き、ここで第２混合バーナー２８から火炎を噴出して、混合２次燃焼を生起する。 - 特許庁

The manipulator actually works at a second step by visualizing a working shaft, a working direction and working coordinate by a display furnished on the working shaft of the manipulator at a first step of the shaft operation key by furnishing the shaft operation key of a teaching device with operating positions of the two steps.例文帳に追加

教示装置の軸操作キーを２段階の操作ポジションを備えることにより、軸操作キーの１段階目にて、マニピュレータの動作軸に備えられた、表示器により、動作軸、動作方向、動作座標を可視化させ、軸操作キーの２段階目で実際にマニピュレータが動作する。 - 特許庁

A regulator 111, upon being supplied with a control power source voltage VCC, steps down the voltage down to a first predetermined voltage, and supplies the voltage to a high voltage side power source terminal (hereinafter, high voltage side power source is referred to as high side power source) of an amplification circuit 113 and an amplification circuit 114.例文帳に追加

レギュレータ１１１は、制御電源電圧ＶＣＣが供給されるとこの電圧を第１の所定電圧まで降圧して増幅回路１１３、増幅回路１１４の高圧側電源端子（以下、高圧側電源をハイサイド電源という）に供給する。 - 特許庁

This hard mask is constituted by overlapping a first hard mask 32 formed in a direction parallel to an element formation region 17 with a second hard mask 34 formed in a direction intersecting the element formation region 17, these hard masks being manufactured at the other lithography steps, respectively.例文帳に追加

このハードマスクはそれぞれ別のフォトリソグラフィ工程により作製され、素子形成領域１７と平行な方向に形成された第１のハードマスク３２と、素子形成領域１７と交差する方向に形成された第２のハードマスク３４との重ね合わせで構成されている。 - 特許庁

The method for manufacturing the semiconductor element includes steps of forming a substrate protective film 212 on a quartz substrate 211, forming the semiconductor film 213, forming a first insulating film 214 by thermally oxidizing the semiconductor film 213, melting for crystallizing the semiconductor film 213 by irradiating with light 215, and thereafter depositing a second insulating film by a CVD method.例文帳に追加

石英基板２１１上に下地保護膜２１２を形成し、半導体膜２１３を形成し、半導体膜２１３を熱酸化して第１絶縁膜２１４を形成し、光２１５を照射して半導体膜２１３を溶融結晶化し、その後ＣＶＤ法によって第２絶縁膜を堆積する。 - 特許庁

The method comprises the steps (Fig.A) of fabricating the first shaping die (3) made of a metal from a master substrate by electroforming, fabricating the second shaping die (4) made of an acrylic urethane resin from the above 1st shaping die, and fabricating the third shaping die (6) made of a metal from the above second shaping die (4).例文帳に追加

原盤から電鋳法により、金属製の第１成形型（３）を製造する工程、前記第１成形型からアクリルウレタン樹脂製の第２成形型（４）を製造する工程、前記第２成形型（４）から金属製の第３成形型（６）を製造する工程とからなる（図３のＡ）。 - 特許庁

In addition, the controller prohibits the power generation by the MG when the output voltage Vc of the converter is higher than the second determination value B which is between the rated voltage of the low voltage battery and the first determination value A after the charging prohibition state is continued for the predetermined time T (Steps 150-170).例文帳に追加

また、コントローラは、充電禁止状態が所定時間Ｔ継続した後にコンバータの出力電圧Ｖｃが、低電圧バッテリの定格電圧値と第１判定値Ａとの中間の第２判定値Ｂよりも高い場合、ＭＧによる発電を禁止する（ステップ１５０〜１７０）。 - 特許庁

The method for coating the substrate comprises the steps of: disposing a coating exhibiting a first strain tolerance on the substrate; and treating the coating to enhance the strain tolerance of the coating to a second strain tolerance.例文帳に追加

基材の被覆方法は、第一の耐ひずみ性を示すコーティングを基材上に設ける段階、及びコーティングを処理してコーティングの耐ひずみ性を、第一の耐ひずみ性よりも大きなひずみに耐える第二の耐ひずみ性に高める段階を含む。 - 特許庁

The drying machines 1, 2, 3, 4 at each step from the first step to a step before the final step are set to start relay feeding of dried grain when respective drying machines at rear steps become empty, and the drying machine 5 at the final step is set to start carrying-out when drying grain reaches a drying stop water content value (the finished water content value).例文帳に追加

最前段から最終一段前までの各段乾燥機１、２、３、４は、それぞれの後段乾燥機が空になった場合に被乾燥穀物の継送を開始し、最終段乾燥機５は、被乾燥穀物が乾燥停止水分値（仕上がり水分値）に達した場合に搬出を開始するように設定してある。 - 特許庁

The method of shielding the drive circuit board of an optical fiber gyro along with a shielding structure comprises steps of installing first and second metal plates (20, 21) on both side of the drive circuit board (13), and conductively connecting each metal plate (20, 21) to the ground GND of the drive circuit board (13) through a ground wire (15) for providing magnetic shielding.例文帳に追加

本発明による光ファイバジャイロの駆動回路基板シールド方法及びシールド構造は、駆動回路基板(13)の両面に第１、第２金属板(20,21)を配設すると共に、前記各金属板(20,21)をアース線(15)によって駆動回路基板(13)のグランド部(GND)に導通接続して磁気シールドする構成である。 - 特許庁

The method of manufacturing the semiconductor comprises the steps of the forming an n+ type epitaxial layer 2a first on a substrate, forming a SiO_2 film on the substrate and opening a capacitor dielectric film region and an upper electrode contact region by means of photo lithography and etching.例文帳に追加

このキャパシタの製法は、まずＳｉ基板１上にｎ型エピタキシァル層２ａを形成し、次に基板１の表面にＳｉＯ_２膜を形成し、フォトリソ工程とエツチ工程により、キャパシタ誘電体膜領域と上側電極コンタクト領域を開口する。 - 特許庁

The second base station receives the sent second message and initializes a connection handoff with the subscriber station requiring less steps than set forth in a wireless communication protocol associated with a wireless network including the subscriber station and first and second base stations.例文帳に追加

第２の基地局は、送信された第２のメッセージを受信し、加入者局、第1の基地局、および第２の基地局を含む無線ネットワークに関連する無線通信プロトコルにおいて規定された工程より少ない工程しか要さずに、加入者局に対する接続ハンドオフを初期設定する。 - 特許庁

Most of the countries in the world, including Japan, are well aware of the pressing need for action towards the global challenge of climate change. Negotiations on steps to be taken after the first commitment period of the Kyoto Protocol are now underway at the United Nations and other international forums.例文帳に追加

我が国を始め 世界の大半の国が「地球的課題」として気候変動問題への対応の必要性を認めており、国連の枠組みの中等において京都議定書の第一約束期間が終了した後の対応について検討が行われているところである。 - 経済産業省

It could be said that the experience of this company shows that even for SMEs working in fields that at first glance seem far-removed from patents and intellectual property, the strategic protection and utilization of intellectual property holds the potential to help them take giant steps forward.例文帳に追加

同社は、一見、特許等の知的財産と縁が遠いと思われる事業を行う中小企業にとっても、知的財産の戦略的な保護・活用が大きな飛躍をもたらす可能性を秘めていることを示す事例であるといえよう。 - 経済産業省

The method includes steps for: interferometrically profiling a first surface of the test object with respect to a first datum surface; interferometrically profiling a second surface of the test object with respect to a second datum surface different from the first datum surface; providing a spatial relationship between the first and second datum surfaces; and calculating the geometric property based on the interferometrically profiled surfaces and the spatial relationship between the first and second datum surfaces.例文帳に追加

この方法は、第１基準面に対して、試験対象物の第１表面を干渉法によってプロファイルする工程と、第１基準面とは異なる第２基準面に対して、試験対象物の第２表面を干渉法によってプロファイルする工程と、第１基準面と第２基準面との間の空間的関係を提供する工程と、干渉法によってプロファイルした表面、並びに第１基準面と第２基準面との間の空間的関係に基づいて、試験対象物の幾何学的特性を計算する工程とを含む。 - 特許庁

The method for reducing the crosstalk between the channels includes steps for: generating a set of code words corresponding to a first channel for acknowledging transmission based on a first matrix that is a binary quadrature matrix; forming the first matrix where the first matrix is a permuted H12 matrix interleaved with a base vector of the fast Fourier transform of a specific length; and using a second matrix smaller than the first matrix to perform spreading using a spreading function.例文帳に追加

二値直交行列である第１の行列に基づいて、伝送に確認応答するための第１のチャネルに対応する１組の符号語を生成することと、第１の行列を形成することと、なお、前記第１の行列が、特定の長さの高速フーリエ変換の基底ベクトルでインターリーブされた置換されたＨ１２行列である、前記第１の行列より小さい第２の行列を使用して、拡散関数を使用して拡散することとを含む。 - 特許庁

In the method for adding processing intelligence to the content payload in a dynamic content delivery architecture having at least a first processing element and a second processing element, the method comprises the steps of: creating a first envelope including content payload and second processing element metadata adapted to be run on the second processing element; and forming a second envelope containing the first envelope and first processing element metadata adapted to be run on the first processing element.例文帳に追加

少なくとも第一の処理エレメントおよび第二の処理エレメントを有する動的コンテンツ配信アーキテクチャにおいて、コンテンツペイロードに処理知能を追加する方法であって、コンテンツペイロードを備える第一のエンベロープと、該第二の処理エレメント上でランされるように適合した第二の処理エレメントメタデータとを生成するステップと、該第一のエンベロープを含む第二のエンベロープと、該第一の処理エレメント上でランされるように適合した第一の処理エレメントメタデータとを形成するステップとを包含する、方法。 - 特許庁

An external calibration method includes the steps of: transmitting a first reference signal from a reference transmitter; receiving the first reference signal at first and second receiver systems; determining a first error value by comparing a measured TDOA (or FDOA) value with a theoretical TDOA (or FDOA) value; and utilizing the first error value to correct subsequent TDOA (or FDOA) measurements associated with a mobile transmitter to be located.例文帳に追加

外部的な校正の方法は、基準送信器から第１の基準信号を送信するステップ、第１および第２の受信器システムにおいて第１の基準信号を受信するステップ、測定TDOA（又はFDOA）値を理論上のTDOA（又はFDOA）値と比較することにより第１の誤差値を決定するステップ、および位置検出の対象である移動送信器に関するその後のTDOA（またはFDOA）測定値を補正するよう第１の誤差値を利用するステップを含む。 - 特許庁

The method for automatically determining memory size includes a step for imparting a fixed bit string and performing writing; a step for imparting first and second fixed bit strings and performing first and second reading processes; and first and second determining steps for extracting first and second criterion data from the data obtained through the first and second reading processes and determining the corresponding memory size.例文帳に追加

メモリサイズを自動的に判別する方法であって、定型ビット列を与え書き込みを行う処理ステップと、第１、２定型ビット列を与え第１、第２読み出し処理を行う処理ステップと、前記第１、第２の読み出し処理で得たデータから第１、第２の判定データを抽出し該当するメモリサイズを判別する第１、第２の判定処理ステップとを備えたことを特徴とするシリアルメモリの自動判別方法。 - 特許庁

The method comprises the steps of obtaining a signed firmware image that includes a first code module signed by a first code owner and a second code module signed by a second code owner, verifying that an updated first code module is signed by the first code owner, and updating the signed firmware image with the updated first code module.例文帳に追加

第１のコードのオーナによって署名されている第１のコード・モジュールと、第２のコードのオーナによって署名されている第２のコード・モジュールを含む署名付きファームウェア・イメージを取得し、アップデートされた第１のコード・モジュールが第１のコードのオーナによって署名されていることを検証して、アップデートされた第１のコード・モジュールにより、署名付きファームウェア・イメージをアップデートする。 - 特許庁

The First and the Second Daigokuden of the Heijo-kyu Palace were significantly different in structure; the Hanyuan Hall of the Daming Palace in Chang'an at the time of the Tang Dynasty in China had a strong influence on the First Daigokuden, which had a large front garden and was built elevated one step from the garden, and this was in turn a prototype of the Ryubidan (stone steps of the Heiangu Palace to the south of Daigokuden). 例文帳に追加

平城宮大極殿は第一次と第二次とで大きく構造が異なり、第一次では唐長安大明宮含元殿の影響を受け、大極殿院が広い前庭を持ち、また大極殿は前庭から1段高い位置に建設されており、平安宮の龍尾壇（竜尾壇りゅうびだん）の原型といえる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

A deblocking filtering method includes at least one or more macroblocks for each and comprises steps of: setting a first to n-th macroblock groups which are adjacent to one another in a column direction; and sequentially performing deblocking filtering on the first through n-th macroblock groups.例文帳に追加

それぞれ少なくとも一つ以上のマクロブロックを備え、カラム方向に隣接して位置する第１ないし第ｎマクロブロックグループを設定するステップと、第１ないし第ｎマクロブロックグループを順次にデブロッキングフィルタリングするステップと、を含むことを特徴とするデブロッキングフィルタリング方法。 - 特許庁

This color photoresist removal method includes steps for: removing the color photoresist on a substrate formed with given elements in the first plasma etching process; conducting wet cleaning after the first plasma etching process; and completely removing residual color photoresist in the second plasma etching process after the wet cleaning.例文帳に追加

本発明のカラー・フォトレジストの除去方法は所定の素子が形成された基板の上のカラー・フォトレジストを第１プラズマエシング工程でとり除く段階と；前記第１プラズマエシング工程の後、湿式クリーニングを行う段階と；及び前記湿式クリーニング後第２プラズマエシング工程で残留カラー・フォトレジストを完全にとり除く段階を含んで成り立つに技術的特徴がある。 - 特許庁