「Lift Pin」に関連した英語例文の一覧と使い方(3ページ目) - Weblio英語例文検索

A lift amount adjusting mechanism 145 is constituted by a connection pin 13 for connecting a rocker arm 9 with a second link and an adjust bolt 22 and a lock bolt 23 pressing and fixing the connection pin 13.例文帳に追加

ロッカアーム９と第２リンクとを連結している連結ピン１３と、その連結ピン１３を圧締固定しているアジャストボルト２２およびロックボルト２３でリフト量調整機構１４５を構成している。 - 特許庁

To takeout a retort pouch placed on a tray out of the tray by means of an unloader of a pin lift type without causing position deflection or fall of a bag due to unstable support to the bag at a tip of a pin.例文帳に追加

トレイに載せたレトルトパウチを、ピンリフト式のアンローダによりトレイ外に取り出すとき、ピン先端での袋の支持が不安定となって袋が位置ずれを起こしたり、落下することを防止する。 - 特許庁

In a small or intermediate lift area of both valves of originally reducing hydraulic pressure impressed on a pin for switching one valve variable control and both valve variable control, the oil is made to flow in a clearance between a pin hole and the pin by increasing the hydraulic pressure to a predetermined value or more, and carbon soot existing in the clearance is removed (Step 106).例文帳に追加

片弁可変制御と両弁可変制御を切り換えるピンに印加する油圧が本来は低くされる両弁小又は中リフト領域において、油圧を所定値以上に高めることでピン穴とピンとの隙間にオイルを流し、該隙間に存在するカーボンスーツを除去する（ステップ１０６）。 - 特許庁

A maximum lift region and a minimum lift region are controlled by a rotation control mechanism, and the control shaft gear 3 is engaged with a driven gear 3 by a lock pin 29 when the DC servomotor is running or has trouble.例文帳に追加

一方、回転制御機構８によって最大リフト域と最小リフト域に制御すると共に、ＤＣサーボモータの作動中及び故障時にはロックピン２９によって制御シャフト２とドリブンギア３とを結合させるようにした。 - 特許庁

When the driving stage is shifted from a medium-lift driving stage to a low-lift driving stage, while hydraulic pressure is continually supplied to a first hydraulic pressure supply passage 12a, the hydraulic pressure is also supplied to a second hydraulic pressure supply passage 12a to push a second connecting pin 9b into the second rocker arm 6b.例文帳に追加

中リフトの駆動ステージから低リフトの駆動ステージに切り換える場合、第１油圧供給路１２ａへの油圧の供給を継続したまま、第２油圧供給路１２ａにも油圧を供給することにより、第２連結ピン９ｂを第２ロッカアーム６ｂ内に没入させる。 - 特許庁

The maximum lift amount changing mechanism 300 includes a passage switching mechanism which switches operating oil passages so as to fit a lock pin into a lock hole, if a control shaft 340 is at a nearer side on which the maximum lift amount is increased, than a reference position.例文帳に追加

最大リフト量変更機構３００には、コントロールシャフト３４０が基準位置よりも最大リフト量を増大させる方向側の位置にあるときにロックピンをロック穴に嵌合させるように作動油の通路を切り替える通路切替機構が設けられている。 - 特許庁

A positioning plate 19 and positioning pins 20, 21, 22 are provided on the base plate 17 as positioning means for abutting and positioning the adjacent two sides of the tray 18, and a lift preventing collar 23 for preventing the lift of the tray 18 is formed at the upper end portion of the positioning pin 20.例文帳に追加

ベースプレート１７には、トレイ１８の隣接する２辺に当接して位置決めする位置決め手段として、位置決めプレート１９と位置決めピン２０，２１，２２が設けられ、位置決めピン２０の上端部には、トレイ１８の浮き上がりを防止する浮き上がり防止鍔部２３が形成されている。 - 特許庁

The rotating position of the control shaft during low lift control is regulated by a regulating means 40 consisting of a stopper projection 42 and a stopper pin 41, and the amount of intake supplied is continuously controlled by the intake control mechanism during the low lift.例文帳に追加

低リフト制御時の制御軸の回転位置をストッパ突部４２と、ストッパストッパピン４１とからなる規制手段４０によって規制すると共に、該低リフト時には供給吸気量を吸気量制御機構によって連続的に制御した。 - 特許庁

In the vacuum processing apparatus having the substrate delivery chamber provided between two vacuum chambers, the substrate delivery chamber is equipped with a lift pin for supporting a substrate, a buffer arm where the substrate is temporarily placed, and a substrate stage on which the substrate is placed, and the lift pin is lifted and lowered in an oblique direction.例文帳に追加

２つの真空チャンバ間に設けられた基板受け渡しチャンバを有する真空処理装置において、前記基板受け渡しチャンバが、基板を支持するリフトピンと、基板を仮置きするバッファーアームと、基板を載置する基板ステージとを具備し、前記リフトピンが、斜め方向に昇降することを特徴とする。 - 特許庁

A substrate cleaning apparatus 10 includes: a holding plate 30 for holding a substrate W; a lift pin plate 20 arranged above the holding plate 30 and having a lift pin 22 for supporting the substrate W from the lower side; and a processing liquid supply unit 40 for supplying the processing liquid to the rear surface of the substrate W held by the holding plate 30.例文帳に追加

基板洗浄装置１０には、基板Ｗを保持する保持プレート３０と、保持プレート３０の上方に設けられ、基板Ｗを下方から支持するリフトピン２２を有するリフトピンプレート２０と、保持プレート３０により保持された基板Ｗの裏面に処理液を供給する処理液供給部４０とが設けられている。 - 特許庁

In the cooling method of glass substrate, the fall of a lift pin 23 is once stopped at a position where the glass substrate 60 approaches the cool plate 21, the fall of the lift pin 23 is resumed, when temperature of the glass substrate approaches the temperature of the cooling plate, the glass plate is placed on the cool plate and the close contact cooling performed by vacuum suction is continued.例文帳に追加

ガラス基板６０をクールプレート２１に接近させた位置でリフトピン２３の下降を一旦停止させ、ガラス基板の温度がクールプレートの温度に近づいた時点でリフトピンの下降を再開させ、ガラス基板をクールプレート上に載置し、真空吸着により密着させた冷却を継続して行う。 - 特許庁

A PEB unit (PEB) comprises a stage 31 for mounting a wafer on which a resist film is formed; a heater 35 for heating the stage 31 to a predetermined temperature; a lift pin 32 arranged through the stage 31; and a elevating device 33 for holding a tip position of the lift pin 32 for supporting the wafer W at an arbitrary height.例文帳に追加

ＰＥＢユニット（ＰＥＢ）は、レジスト膜が形成されたウエハＷを載置するステージ３１と、ステージ３１を所定温度に加熱するヒータ３５と、ステージ３１を貫通して配置されたリフトピン３２と、ウエハＷを支持するリフトピン３２の先端位置を任意の高さ位置で保持する昇降装置３３と、を具備する。 - 特許庁

A semiconductor processing apparatus comprises: a reactor; a susceptor arranged in the reactor for mounting a substrate, which has a through-hole in the axis line direction of the susceptor; a lift pin for lifting the substrate to the susceptor, which is arranged such that it slides in each through-hole; and means for reducing contact resistance between the lift pin and each through-hole.例文帳に追加

半導体処理装置は、反応チャンバと、基板を載置するための反応チャンバ内に配置されたサセプタであって、サセプタの軸線方向に貫通孔を有するところのサセプタと、サセプタに対して基板を持上げるための各貫通孔内でスライドするように配置されたリフトピンと、リフトピンと各貫通孔との間の接触抵抗を減少させるための手段とを含む。 - 特許庁

Furthermore, since the positioning hole 93A is formed in ellipse shape long in a lateral direction, the positioning pin 91A is easily inserted, thereby moderating the impact made when the positioning pin 91A is inserted, and also positioning to lift up the first supporting plate 70 to an upper side (Z(+) side) is performed.例文帳に追加

さらに、位置決め孔９３Ａを横方向に長い長円形状としたから、位置決めピン９１Ａを挿入し易くして挿入時の衝撃を緩和すると共に、第１支持板７０を上側（Ｚ（＋）側）に引き上げる位置決めを行う。 - 特許庁

A mounting section 285 to the bottom surface 212 of the pin arm 282 is mounted to space S_out outside space S_in held between the susceptor 217 and the bottom surface 212 of the lower vessel 211 so that the position of the lift pin 266 to the through hole 217a can be adjusted easily.例文帳に追加

このリフトピン２６６の貫通孔２１７ａに対する位置調整を容易に行えるように、ピンアーム２８２の底面２１２への取付部２８５を、サセプタ２１７と下側容器２１１の底面２１２との間に挟まれる空間Ｓ_inの外側の空間Ｓ_outに取り付ける。 - 特許庁

The tray also comprises through holes 106 each to be inserted from below with a lift pin 152 for lifting the plate placed on the placing surface and formed thereon, and covers 108 each mounted on the hole to close the hole and raised by the pin.例文帳に追加

また、載置面に載置された基板を上昇させるためのリフトピン１５２が下方から挿入される貫通孔１０６が形成されており、この貫通孔を閉じるべく該貫通孔に取り付けられると共に、リフトピンにより持ち上げられるカバー１０８を備えることを特徴とする。 - 特許庁

Thereby, any positioning pin or the like for holding the belt conveyer 16 at the running position and the working position is allowed not to be necessary, without performing the removal and insertion operation such as the positioning pin or the like, the belt conveyer 16 can be easily held at the running position and the working position only by expanding and contracting the lift cylinder 31.例文帳に追加

これにより、ベルトコンベヤ１６を走行位置、作業位置に保持するための位置決めピン等を不要にすることができ、位置決めピン等の抜差し作業を行なうことなく、昇降シリンダ３１を伸縮させるだけで、ベルトコンベヤ１６を走行位置と作業位置とに容易に保持することができる。 - 特許庁

This locking device 16 is constituted to work by engaging and disengaging a hook 161 mounted on a sub frame 4 of a car body and a lock pin 162 mounted on a damp arm 5 with and from each other and engaging and disengaging the lock pin 62 with and from a dog 168 provided on a lift arm 6.例文帳に追加

車体のサブフレーム４に取り付けたフック１６１と、ダンプアーム５に取り付けたロックピン１６２とを互いに係脱させるとともに、ロックピン１６２はリフトアーム６に設けたドグ１６８との係脱によっても動作するロック装置１６を構成する。 - 特許庁

When the lock pin 230 is lifted, a lift oil pressure is also supplied via the oil-pressure passages 237, 239 to the lock hole 231 at the time when the vane body passes through the middle position, whereby the lock pin 230 is prevented from engaging with the lock hole 231 due to malfunction.例文帳に追加

ロックピンがリフトしているときには、ベーン体が中間位置通過時に油圧通路２３７、２３９を介してリフト油圧がロック孔にも供給されるため、ロックピンが誤作動によりロック孔と係合することが防止される。 - 特許庁

In the locator pin 10, a taper surface part 17 is formed to lift and move the base part 12 of the locator pin 10 engaged in the fixing hole 21 as a bolt shaft tip of the fixing bolt 30 engaged with the screw holes 22-25 slides to get in contact with it.例文帳に追加

また、ロケートピン１０には、ねじ孔２２〜２５に螺合させた固定用ボルト３０のボルト軸先端が摺接することによって、固定孔２１に嵌め込まれたロケートピン１０の基部１２をせり上げ移動させるテーパ面部１７を形成する。 - 特許庁

As a result, even when fuel having low lubricity is used and increase of the fuel injection pressure causes a lift amount of the plunger to increase, abrasion of the pin receiving part 64 is suppressed and occurrence of the seizure of the roller pin 60 and the roller ring 8 is prevented.例文帳に追加

この結果、低潤滑性の燃料を使用し、且つ燃料噴射圧の高圧化のためにプランジャのリフト量が増加された場合であっても、ピン受け部６４の摩耗が抑えられるとともに、ローラピン６０とローラリング８の焼付の発生を防ぐことができる。 - 特許庁

The semiconductor device substrate 1 is elevated by the lift pin 5, and destaticizing is conducted efficiently by exposing the surface and rear of the semiconductor device substrate 1 to the helium gas 6.例文帳に追加

半導体装置基板１をリフトピン５にて上昇させ、半導体装置基板１の表面と裏面とをヘリウムガス６にさらすことによって、効率的に除電する。 - 特許庁

The semiconductor device substrate 1 is lifted from a stage 3 once by a lift pin 5 in the semiconductor device substrate 1 in destaticizing treatment, and a helium gas 6 as an inert gas is made to flow for several seconds while being exhausted.例文帳に追加

除電処理にて、半導体装置基板１を、リフトピン５にて、一旦、半導体装置基板１をステージ３から上昇させ、そこに不活性ガスであるヘリウムガス６を排気しながら数秒流す。 - 特許庁

To prevent resin from flowing, when a substrate coated with resin containing volatile solvent is prebaked with a heat plate having a lift pin.例文帳に追加

揮発性溶媒を含有する樹脂が塗布された基板をリフトピン付きの加熱プレートにてプリベークするにあたって、プリベーク時における樹脂の流動を防止する。 - 特許庁

The wafer W is lifted up above the stage 31 with the lift pin 32 so that the wafer W mounted on the stage 31 and heat processed is cooled approximately evenly all over.例文帳に追加

ステージ３１に載置されて加熱処理されたウエハＷがウエハ全体で略均一に冷却されるように、ウエハＷをリフトピン３２によってステージ３１の上方に持ち上げる。 - 特許庁

Accordingly, after the removal of electrostatic attraction, the electrostatic attraction due to the residual charges causing the substrate 30 to slip off from lift pins 9 and 10 or to be displaced on the pin 9 and 10 is prevented.例文帳に追加

従って、静電吸着解除後、残留電荷による静電吸着力により、基板３０がリフトピン９、１０から滑落したり、リフトピン９、１０上で位置ズレしないようにすることができる。 - 特許庁

To provide a durable high-quality fuel injection nozzle that includes a detector capable of generating concrete detection signals on nozzle needle lift motion without magnetizing a pressure pin.例文帳に追加

プレッシャピンを磁化することなくノズルニードルのリフトについての明確な検出信号を発生できる検出装置を備えるとともに、耐久性にも優れる高品質な燃料噴射ノズルを得ることにある。 - 特許庁

After the head 22 of the lift 20 has worn out, the pin 1 is exposed instead to form the grounding face of the heel to prevent the heel body 10 and a heel cover surrounding it from being damaged.例文帳に追加

足つきリフト２０の頭部２２がすり減り消失した後には、それに代わりサンドピン１が露出して、ヒールの接地面を形成することにより、ヒール本体１０や、その周囲を被うヒール巻きが損傷することを防止することができる。 - 特許庁

When the lift guide 15 for interlocking the shade is moved backward as a movable panel 3 is tilted up, the tilt interlocking pin 19 is also moved backward.例文帳に追加

可動パネル３のチルトアップに伴いシェード連動作動用リフトガイド１５が後方に移動すると、チルト連動ピン１９も後方に移動する。 - 特許庁

To detect sticking of a substrate in a reaction chamber for processing the substrate placed on a surface of a holding body for processing which includes a lift pin for elevating the substrate from the surface of the holding body for processing.例文帳に追加

処理用支持体であって、該処理用支持体の表面から基板を昇降させるためのリフトピンを含む処理用支持体の表面上に置かれた基板を加工する反応チャンバにおいて、基板の貼り付きの発生を検出する。 - 特許庁

The lift pin plate 20 has inclined surfaces 25a and 25b, and a tip of the inert gas supply unit 10 is disposed above the tip of the cleaning liquid supply unit 11.例文帳に追加

リフトピンプレート２０は傾斜面２５ａ，２５ｂを有し、不活性ガス供給部１０の先端が、洗浄液供給部１１の先端よりも高い位置に位置している。 - 特許庁

To provide a liquid processing device which can prevent the processing liquid from being left on a lift pin after drying a substrate, and can process the lower surface of the substrate efficiently.例文帳に追加

基板の乾燥後にリフトピンに処理液が残ることを防止することができ、かつ、基板の下面を効率良く処理することができる液処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate support in which particles generated through the mechanical contact of a lift pin and a clamp ring can be prevented from adhering onto a semiconductor wafer.例文帳に追加

リフトピンとクランプリングとの機械的接触により生ずるパーティクルが半導体ウェハ上に付着する事態を防止できる基板支持装置手段を提供すること。 - 特許庁

A substrate conveyance unit 10 has a conveyance stage 11 and a lift pin 14 for carrying up a glass substrate 31 to be conveyed by the conveyance stage 11.例文帳に追加

基板搬送ユニット１０は、搬送ステージ１１と、搬送ステージ１１により搬送されるガラス基板３１を上方に持ち上げるリフトピン１４とを有している。 - 特許庁

Since a tip of the engaging pin 132a axially moves a slider 128, rotation phase difference between an input part 122 and an oscillation cams 124, 126 is changed to adjust a valve lift amount of an intake valve.例文帳に追加

更に係合ピン１３２ａの先端がスライダ１２８を軸方向に移動させるので入力部１２２と揺動カム１２４，１２６との間の回転位相差が変更されて吸気バルブのバルブリフト量を調節することができる。 - 特許庁

After plasma processing on the wafer is completed, application of opposite-polarity voltages, demagnetizing plasma processing, and application of a demagnetizing voltage are carried out in order, and then a lift pin is placed in operation to separate the wafer from the electrostatic chuck 20.例文帳に追加

ウエハに対しプラズマ処理が終了した後、逆極性電圧の印加、除電プラズマ処理、除電電圧の印加を順次行い、その後リフトピンを作動させてウエハを静電チャック２０から脱離する。 - 特許庁

To provide a liquid processing apparatus and a liquid processing method that can prevent a processing liquid from being left on a lift pin after drying a substrate, and thereby can prevent the processing liquid from being attached to the rear surface of the substrate after the liquid processing.例文帳に追加

基板の乾燥後にリフトピンに処理液が残ることを防止し、このことにより液処理後の基板の裏面に処理液が付着することを防止することができる液処理装置および液処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus that prevents a lift pin from breaking even when a substrate elevation member is moved to an upper position with a top plate lowered in a state wherein elevation operation of the substrate elevation member is not restricted.例文帳に追加

基板昇降部材の昇降動作が規制されていないときに、トッププレートが下降した状態で基板昇降部材を上方の位置に上昇させても、リフトピンが破損することを防止できる基板処理装置を提供する。 - 特許庁

The process chambers 10 are provided with a mounting table 11 and are enabled to hand over a substrate W to the carrier robot 30 by transferring the substrate W from the mounting table 11 to a lift pin 12.例文帳に追加

プロセスチャンバ１０は、載置台１１を備え、載置台１１からリフトピン１２に基板Ｗを移載することで搬送ロボット３０への基板Ｗの受け渡しが可能になっている。 - 特許庁

The shielding plate 100 includes a round opening 100a, which allows the lift pin 62 to penetrate for raising/lowering, and a square opening 100b for avoiding the internal roller transport path 38B from interfering with a roller 42B.例文帳に追加

この遮蔽板１００は、リフトピン６２を昇降可能に貫通させるための円形の開口１００ａと、内部コロ搬送路３８Ｂのコロ４２Ｂとの干渉を避けるための矩形の開口１００ｂとを有している。 - 特許庁

When it is changed to the small-lift region of one valve, that is, when a switching pin is inserted, it is judged whether a combustion state of the engine is normal or not based on the concentration of NOx (step 106).例文帳に追加

片弁小リフト領域に変化した場合に、つまり、切換ピンの挿入が実行された場合に、ＮＯｘ濃度に基づいて機関の燃焼状態が正常であるか否かを判別する（ステップ１０６）。 - 特許庁

To provide a substrate processing device and a substrate processing method in which the occurrence of particles is suppressed as much as possible while the support member of a lift pin, etc., can be prevented from transferring to the product area of a substrate.例文帳に追加

パーティクルの発生を極力抑えつつ基板の製品領域へのリフトピン等の支持部材の転写を防止することができる基板処理装置及び基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

The elastic piece 66 is pressed by a coil spring 70 arranged between it and a pressing piece 68 so as to press the lift pin 29a against the other cam wall surface 65c_2 of the higher position part 65c.例文帳に追加

この弾性片６６は、押圧片６８との間に配置したコイルバネ７０で押圧され、昇降ピン２９ａを高位部６５ｃの他方のカム壁面６５ｃ_２に押し付ける。 - 特許庁

During the reduced pressure drying treatment, a number of lift pins 128 carry the substrate G upward from the roller conveyer path 104b while keeping its horizontal attitude and support it on their extremely thin pin tips.例文帳に追加

減圧乾燥処理中は、多数本のリフトピン１２８が基板Ｇを水平姿勢のままコロ搬送路１０４ｂから上方に持ち上げて極細のピン先部で支える。 - 特許庁

To provide a method of cleaning a manufacturing apparatus of an electro-optic device surely removing deposits adhered to a lift pin and the inside of a through-hole after film-deposition and deposits generated during cleaning after film-deposition.例文帳に追加

成膜処理後、確実にリフトピン及び貫通孔内に付着した成膜処理後の堆積物やクリーニングの際に発生する堆積物等を除去することができる電気光学装置の製造装置のクリーニング方法を提供する。 - 特許庁