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該当件数 : 14280



例文

The dicing sheet includes a single-layer or multilayer base and an adhesive layer formed on its one surface, and is characterized in that its total light-beam transmissivity of at least one layer of the base at 300 to 400 nm is40% and the product of the square of the thickness of the base and the Young's modulus of the base is 0.3 to 6.5 N.例文帳に追加

本発明のダイシングシートは、単層又は複層の基材と、その片面に形成された粘着剤層とからなり、該基材の少なくとも1層の300〜400nmにおける全光線透過率が40%以上であって、該基材の厚みの二乗と該基材のヤング率との積が0.3〜6.5Nであることを特徴とする。 - 特許庁

The wiring 512 has such a structure where the upper layer 511 extends in parallel with the surface of the board 500 from the lower layer 510 by 100 nm or above, by which a short circuit can be prevented between the wirings even if a hillock 513 is produced on the lower layer 510 in a lateral direction, and thus a wiring board 514 free from a short circuit can be obtained.例文帳に追加

配線が、上層511が下層510よりも基板表面と平行な方向に100nm以上張り出ている構造を有することにより、下層510に横方向のヒロック513が生じても配線間の短絡を防止することができ、短絡不良のない配線基板514を得ることができる。 - 特許庁

The nanowires are constituted so that Ga nanowires and ZnS nanowires are joined to each other by heating a mixture of ZnS powder, Ga_2O_3 powder and SiO powder in an inert gas flow in a temperature range of 1,400 to 1,500°C for 1 to 2 hours, wherein the obtained nanowires are coated with silica films of 4 to 8 nm thickness.例文帳に追加

ZnS粉末とGa_2 O_3 粉末とSiO粉末との混合物を不活性ガス気流中で、1400〜1500℃の温度範囲において、1〜2時間加熱することにより、GaナノワイヤーとZnSナノワイヤーとが接合してなるナノワイヤーであって、ナノワイヤーが、厚さが4〜8nmのシリカ膜で被覆されているナノワイヤーが得られる。 - 特許庁

The method for producing an optical cellulose ester film has steps of: extruding cellulose ester into a sheet-shaped product by melt flow casting; and extending the sheet-shaped product to 1.00-2.50 times in one direction and 1.01-3.00 times in a direction perpendicular to the former direction to regulate retardation Rt in a film thickness direction to be 500 nm or less.例文帳に追加

溶融流延によりセルロースエステルをシート状物に押し出しする工程、該シート状物を1方向およびそれと直交する方向にそれぞれ1.00〜2.50倍、1.01〜3.00倍に延伸し膜厚方向のレターデーションRtを500nm以下に調整する工程、を有することを特徴とする光学用セルロースエステルフィルムの製造方法。 - 特許庁

例文

The method for producing a red organic pigment for a color filter having an average primary particle diameter of 50 nm or less is one comprising kneading a red organic pigment and an inorganic salt in the presence of an organic solvent, wherein the kneading is performed under conditions in which the [inorganic salt/red organic pigment] weight ratio is 7 or higher, and the temperature is 62°C or higher.例文帳に追加

赤色有機顔料を無機塩と有機溶媒との存在下で混練する顔料の製造方法であって、〔無機塩/赤色有機顔料〕の重量比が7以上、温度が62℃以上の条件下で混練する、平均一次粒子径が50nm以下であるカラーフィルター用赤色有機顔料の製造方法である。 - 特許庁


例文

In this manufacturing method of the abrasive, after the globular fine silica powder having a specific surface area of 5-150 m^2/g surface-treated by tetraethoxysilane and a average primary grain diameter of 200 nm or less is heat-treated in an ammonia gas atmosphere at a temperatures of 150°C or less, the silica powder is dispersed in pure water, alcohol, or a mixture thereof.例文帳に追加

テトラエトキシシランで表面処理された比表面積5〜150m^2/g、平均一次粒子径200nm以下の球状シリカ微粉を、アンモニアガス雰囲気中、150℃以下の温度で加熱処理をしてから、純水、アルコール又は両者の混合液に分散させてなることを特徴とする研磨剤の製造方法。 - 特許庁

The resist pattern forming method includes exposing a photosensitive resin composition comprising a carboxyl group-containing polymer (A), an ethylenically unsaturated compound (B), a photopolymerization initiator (C) and at least one compound (D) selected from perylene, naphtho[2,3-a]pyrene, benzopyrene, dibenzo[b,def]chrysene and 9,10-diphenylanthracene with a laser exposer having an exposure wavelength of 390-420 nm.例文帳に追加

カルボキシル基含有ポリマー(A)、エチレン性不飽和化合物(B)、光重合開始剤(C)及び、ペリレン、ナフト〔2,3−a〕ピレン、ベンゾピレン、ジベンゾ〔b,def〕クリセン、9,10−ジフェニルアントラセンから選ばれる少なくとも1種の化合物(D)を含有してなる感光性樹脂組成物に、露光波長が390〜420nmのレーザー露光機で露光を行うレジストパターン形成方法。 - 特許庁

The surface-coated flame-retardant particle comprises a flame-retardant particle, which is comprised of a hydrate of a metal selected from among Mg, Ca, Al, Fe, Zn, Ba, Cu and Ni and has a volume-average particle size within the range of 1-500 nm, and, formed on the surface thereof, a coating layer containing a polyamino acid or a polysilicone.例文帳に追加

Mg、Ca、Al、Fe、Zn、Ba、Cu及びNiのうちから選択される金属の水和物からなり体積平均粒子径が1〜500nmの範囲である難燃性粒子の表面に、ポリアミノ酸またはポリシリコーンを含む被覆層が形成されてなることを特徴とする表面被覆難燃性粒子である。 - 特許庁

A side-reinforced run flat tire 1 is provided, wherein side rubber 4A comprises a rubber composition containing carbon fibers having an average length of 0.5-50 μm and an average diameter of 0.5-500 nm, and the carbon fibers are contained in the rubber composition in an amount of 2-20 parts by mass based on 100 parts by mass of a rubber component.例文帳に追加

サイドゴム4Aが、0.5〜50μmの平均長さ及び0.5〜500nmの平均直径の炭素繊維を含有するゴム組成物からなり、前記ゴム組成物中に、100質量部のゴム成分に対して2〜20質量部の前記炭素繊維が含有されているサイド補強式ランフラットタイヤ1を提供する。 - 特許庁

例文

This ink composition which comprises an europium-containing pigment which is substantially invisible in the visible light region and is excited with UV light to emit light having a central emitted light wavelength of 615±20 nm, and a polyvinylic resin, and further contains94 wt.% of ethanol in a solvent, characterized by containing both (a) an antioxidant and (b) a hindered amine photostabilizer and/or a sulfur compound.例文帳に追加

可視光領域で実質的に不可視であつて、紫外線により励起されて615±20nmに発光中心波長を有するユウロピウムを含む色素と、ポリビニル系樹脂とを含有し、エタノ—ルを溶媒中94重量%以上含有するインク組成物において、(a)酸化防止剤と共に、(b)ヒンダードアミン光安定化剤及び/又は硫黄系化合物を併用する。 - 特許庁

例文

This film 1 is a transparent conductive film with a transparent conductive thin film 12 laminated on one face of a transparent plastic film 11, and the warpage quantity generated in a size 30 mm×30 mm is 2 mm or less, when the transparent conductive film 1 of 80 nm or more in the thickness of the transparent conductive thin film 12 is heated at 150°C for three hours.例文帳に追加

透明なプラスチックフィルム(11)の一方の面に透明導電性薄膜(12)が積層された透明導電性フィルム(1)であって、前記透明導電性導電性薄膜(12)の厚みが80nm以上である透明導電性フィルム(1)を150℃で3時間加熱した際の30mm×30mmのサイズにおける反り量が2mm以下であることを特徴とする透明導電性フィルム(1)。 - 特許庁

The uneven pattern forming device 2 is provided with a thermal head 17 for locally heating a heat-sensitive recording sheet 10, and a fixing device 22 which radiates a near-ultraviolet-ray blue light of 320 to 450 nm at the light emission peak absorbed in a diazonium salt compound contained in the yellow heat-sensitive color developing layer 31 of the heat-sensitive recording sheet 10.例文帳に追加

凹凸パターン形成装置2は、感熱記録紙10を局所的に加熱するサーマルヘッド17と、感熱記録紙10のイエロー感熱発色層31に含有されるジアゾニウム塩化合物が吸収する発光ピークが320〜450nmの近紫外の青色光を照射する定着器22とを備える。 - 特許庁

The method comprises starting with a prepared and purified fibrinogen solution, freezing the prepared and purified fibrinogen solution, thawing the same at 5-20°C temperature, subsequently separating insoluble fibrinogen-associated materials, adjusting the temperature and finally carrying out a nanofiltration of the solution by using a filter having <35 nm pore size.例文帳に追加

上記方法は調節した精製フィブリノゲン溶液から開始し、調節した精製フィブリノゲン溶液を凍結した後、5〜20℃の温度で解凍し、続いてフィブリノゲンに関連した非溶解物質を分離し、温度を調節し、得られた溶液を最終的に、35nmより小さい孔径のフィルターを用いたナノ濾過を行う。 - 特許庁

This manufacturing method includes mixing and kneading a raw material including solid lubricant and binder with aggregate including a carbon sliding member using a carbon material whose air transmission amount is 10 cc/cm2/min or less at air pressure 0.49 MPa and graphite powder whose interval between lattice planes C002 by means of X-ray diffraction is 0.671 to 0.673 nm, and forming and baking.例文帳に追加

空気圧力0.49MPaにおける空気透過量が10cc/cm^2/min以下であるカーボン材を用いてなるカーボン摺動材及びX線回折による格子面間隔C_002が0.671〜0.673nmの黒鉛粉を含む骨材に、固体潤滑材及び結合剤を含む原料を混合、捏和した後、成形、焼成することを特徴とするカーボン摺動材の製造法。 - 特許庁

The LED fish-luring lamp is such that a unit light source 14 is constituted of a combination of a green light-emitting diode G or blue-green light-emitting diode having the central wavelength in the vicinity of 510 nm with a white light-emitting diode W having the central wavelength different from the above and an electric rod is constructed by combining many of these unit light sources together.例文帳に追加

510nm付近に中心波長を有する緑色発光ダイオードGまたは青緑色発光ダイオードBGと、これらと異なる中心波長を有する白色発光ダイオードWとを組み合わせて単位光源14を構成し、この単位光源を多数個組み合わせて電気竿を構成する。 - 特許庁

In a radiation image conversion panel having at least a stimulable phosphor layer on a support body, at least one layer of the stimulable phosphor layer is formed by a vapor phase method (also referred to as vapor phase deposition method) so as to have film thickness of 50 μm or more and grain size of the stimulable phosphor body in the layer is 90 nm or more.例文帳に追加

支持体上に、少なくとも1層の輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、該輝尽性蛍光体層の少なくとも1層が、気相法(気相堆積法ともいう)により50μm以上の膜厚を有するように形成され、且つ、該層中の輝尽性蛍光体の結晶子サイズが90nm以上であることを特徴とする放射線画像変換パネル。 - 特許庁

To provide a fluorescent lamp with a high tube wall load which can achieve equal to or better atmosphere and impression of appearance than those of an incandescent lamp as well as can achieves high efficiency and a small light color change without using problematic phosphor having an emission peak in a wavelength range of 620-670 nm, or by reducing a ratio of the phosphor.例文帳に追加

問題のある620nm〜670nmに発光のピークある蛍光体を使用せず、あるいは比率を少なくすることで、高い効率と小さい光色変化を実現するとともに、白熱電球と同程度あるいは同程度以上の雰囲気、見え方の印象を実現できる管壁負荷が高い蛍光ランプを提供することを目的とする。 - 特許庁

The woody floor material has a woody base material (A), an undercoat layer (B), an intermediate coat layer (C) and an upper coat layer (D) wherein the intermediate coat layer (C) is formed of a cured film of ultraviolet-curable paint containing a polyfunctional acrylate-based monomer or an acrylate-based prepolymer, silica having a particle size of 1-50 nm and a photopolymerization initiator.例文帳に追加

木質基材(A)、下塗り層(B)、中塗り層(C)及び上塗り層(D)を有する木質床材であって、中塗り層(C)が、多官能アクリレート系モノマー又はアクリレート系プレポリマー、粒径1〜50nmのシリカ及び光重合開始剤を含有する紫外線硬化型塗料の硬化皮膜で形成されたことを特徴とする木質床材。 - 特許庁

The porous silica aggregate particles are one that are obtained by aggregating porous silica spherical primary particles which exhibit an X-ray diffraction pattern having one or more diffraction lines in a range of diffraction angle (2θ/°) corresponding to a lattice spacing (d) of at least 1 nm, wherein pores are formed in the porous silica spherical primary particles and void layers are formed in the gaps between these porous silica spherical primary particles.例文帳に追加

nm以上の格子面間隔(d)に対応する回折角(2θ/°)の範囲に1つ以上の回折線を有するX線回折パターンを示す多孔質シリカ球状一次粒子を集合してなる多孔質シリカ凝集粒子であり、多孔質シリカ球状一次粒子内に細孔を形成するとともに、これらの多孔質シリカ球状一次粒子間の間隙に空隙層を形成した。 - 特許庁

In the color liquid crystal shutter provided with at least two sheets of liquid crystal cells imparting in-plane retardation varying corresponding to signal voltage and at least four sheets of color polarizing plates, at least one out of the color polarizing plates arranged between the two sheets of the liquid crystal cells has the in-plane retardation value with ≤550 nm.例文帳に追加

信号電圧に応じて異なる面内リタデーションを与える少なくとも2枚の液晶セルと、少なくとも4枚のカラー偏光板とを備えたカラー液晶シャッターにおいて、2枚の液晶セルの間に配置されたカラー偏光板のうち、少なくとも一つの面内リタデーションを550nm以下の値とする。 - 特許庁

A powder layer of the toner comprising at least a resin and a pigment and having a circularity of ≥0.95 is evenly pressurized and compressed, and when a conical rotor is made to intrude under rotation into the powder layer of the toner, a torque value of the conical rotor generated by the rotational transfer of the conical rotor in the powder layer is ≥4.0×10^-3 Nm.例文帳に追加

少なくとも樹脂、顔料からなる円形度0.95以上であるトナーの粉体層を均等に加圧、圧縮した後に、トナーの粉体層中に円錐ロータを回転させながら侵入させ、前記円錐ロータが前記粉体層中を回転移動することにより発生する前記円錐ロータのトルク値が4.0*10^-3Nm以上であることを特徴とする。 - 特許庁

Further, in the method of manufacturing optical element, the optical element is manufactured by irradiating a thin film principally comprising at least carbon and hydrogen with light of wavelength less than 700 nm and, thereby, changing optical properties, wherein light irradiation also may be performed in a gas environment in which the sum of an oxygen partial pressure and a water partial pressure is less than 0.1% of the total pressure.例文帳に追加

光学素子の製造方法は、少なくとも炭素と水素を主要成分として含む薄膜へ波長700nm未満の光を照射して光学物性を変化させることによって光学素子を製造する方法であって、酸素分圧と水の分圧との和が全圧力の0.1%未満であるガス雰囲気下で薄膜へ光の照射を行なってもよい。 - 特許庁

A detecting probe 10 disposed at the front end of an elastic body 14 such as a leaf spring has a radius (r) of curvature of 15 nm≤r≤0.5 cm, and its surface is covered with an easy charge-transfer substance 32 consisting of metal, intermetallic compound, oxide semiconductor, organic compunds capable of becoming electron donor and acceptor, respectively, and the like.例文帳に追加

板バネ等の弾性体14の先端に配置される検出用探針10は曲率半径rが15nm≦r≦0.5cmの大きさを有し、かつ、その表面が金属及びその金属間化合物、酸化物半導体、電子供与体となりうる有機化合物、電子受容体となりうる有機化合物等からなる易電荷移動物質32により被覆されている。 - 特許庁

A surface treatment is carried out with the use of a dispersion system with conductive particles having an average particle diameter by the BET method of less than 1,000 nm and a rubber system binder dispersed in a dispersion medium made of an organic solvent, a conductive coating layer containing the conductive particles and the rubber system binder is formed on a surface of a metal separator base material for the solid polymer fuel cell.例文帳に追加

有機溶媒からなる分散媒に、BET法による平均粒径が1,000ナノメートル未満の導電性粒子とゴム系バインダーを分散させた分散系を用いて、表面処理をし、該導電性粒子とゴム系バインダーを含む導電性被覆層を固体高分子形燃料電池用金属セパレータ基材の表面に形成する。 - 特許庁

This photosensitive resin composition for forming color filter barrier plate contains: (A) fluorine contained resin having a monomer unit formed by a monomer expressed by the following general formula; and a photosensitive component reacting with ultraviolet rays (300 nm-450 nm), and the proportion of the fluorine contained resin (A) to 100 pts.wt. total solid in the composition is 0.5-10 pts.wt.例文帳に追加

下記一般式(1)で表される単量体から形成される単量体単位を有する含フッ素樹脂(A)と、紫外光(300nm〜450nm)に反応する感光性成分とを含むカラーフィルター隔壁形成用感光性樹脂組成物であって、組成物の全固形分100重量部に対する含フッ素樹脂(A)の割合が0.05〜10重量部であるカラーフィルター隔壁形成用感光性樹脂組成物である。 - 特許庁

After high-density grafting by spontaneous formation of a covalent bond of the complexed polymer using a hydrophilic functional group introduced on a surface of the dielectric substrate as a reaction point, metal nanoparticles with a size of 50 to 200 nm are formed in a three dimensions by cleaning and removing the complexed polymer unreacted, and by decomposing and reducing a precursor of the metal by a plasma reduction treatment.例文帳に追加

誘電体基材表面に導入した親水性官能基を反応点として、錯化高分子を自発的に共有結合させて高密度にグラフト化させた後、未反応の錯化高分子を洗浄除去すること、及び金属の前駆体をプラズマ還元処理により、分解、還元して50〜200nmのサイズの金属ナノ粒子を三次元的に成長させた。 - 特許庁

The electrode comprises a first current-carrying part 4 having a first metal oxide on a substrate 2, and a second current-carrying part 6 having a second metal oxide different from the first metal oxide on the first conductive 4, wherein the thickness of the second current-carrying part is not larger than 30 nm, or the second current carrying part has a plurality of island-like parts.例文帳に追加

本発明は、基板2上に、第1金属酸化物を含む第1導電部4と、前記第1導電部4の上の、第1金属酸化物と異なる第2金属酸化物を含む第2導電部6と、前記第2導電部の厚さが30nm以下であるという構成、または、前記第2導電部が複数の島状部からなるという構成であることを特徴とする電極である。 - 特許庁

This porcelain enamelled material has a glaze layer containing the grains of a photocatalyst in both of the inner part and the surface part, formed thereon from slurry containing the grains of the photocatalyst, which are the aggregates of the primary particles having particle sizes of 50 nm or smaller, and have grain sizes of 0.5 μm or larger but smaller than the film thickness of a finally obtained glaze layer.例文帳に追加

粒子径50nm以下の一次粒子の凝集体であって、0.5μm以上でかつ最終的に得られる釉薬層の膜厚よりも小さい凝集体粒子径をもつ光触媒粒子を、釉薬層を形成するためのスラリー中に含ませ、釉薬層の内部および表面の両方に光触媒粒子が存在する釉薬層を形成する。 - 特許庁

To provide an abrasive composition that can reduce the erosion, caused when a wiring concentrating area is polished excessively as compared with a non-wiring area to30 nm in an area having a narrow wiring width, during the course of a CMP process performed on a semiconductor device, having a copper film, a barrier layer composed of a tantalum compound, and an SiO_2 insulating layer.例文帳に追加

銅膜、タンタル化合物のバリア層、SiO_2の絶縁層を有する半導体デバイスのCMP加工プロセスにおいて、配線幅が細い領域において、配線密集領域が無配線領域比べて過剰に研磨され起こるエロージョンを30nm以下にすることのできる研磨用組成物を提供する。 - 特許庁

Thereafter, the carrier gas is switched from a hydrogen gas to an argon gas that is one of noble gases and a semiconductor layer 14 made of InGaN with a film thickness of 100 nm is formed on the upper surface of the underlying layer 13 by providing the TMG and TMI for one hour with the TMI/TMG gas phase ratio of 0.9 and V/III compound supplying mole ratio of 10,000.例文帳に追加

その後、キャリアガスを水素ガスから希ガスであるアルゴンガスに切り替え、TMGとTMIとをTMIのTMGに対する気相比が0.9で、V族/III 族供給モル比が10000として1時間供給することにより、下地層13の上面にInGaNからなり、膜厚が100nmの半導体層14を成長させる。 - 特許庁

The electrostatic charge image developer includes a toner which includes toner particles including a crystalline resin having a melting temperature of 50-80°C and an external additive, and a carrier in which a resin coating layer is formed on a core material surface, wherein the external additive includes positive charge type silica having a volume average primary particle diameter of 80-200 nm, and the resin coating layer includes particles of a nitrogen-containing resin.例文帳に追加

融解温度が50℃以上80℃以上の結晶性樹脂を含有するトナー粒子及び外添剤を含むトナーと、芯材表面に樹脂被覆層が形成されたキャリアと、を有し、前記外添剤が体積平均1次粒径が80nm以上200nm以下の正帯電性シリカを含み、前記樹脂被覆層が窒素含有樹脂の粒子を含む静電荷像現像剤である。 - 特許庁

In a three or more-layered laminate constituted of glass- thermoplastic resin film-glass, the thermoplastic resin film contains a vibration absorbing material being, for example, a compd. containing a benzothiazole group or a compd. containing a benzotriazole group and the parallel light transmissivity of the laminate is 85% or more and, for example, the domain diameter of the vibration absorbing material is 150 nm or less.例文帳に追加

ガラスー熱可塑性樹脂フィルムーガラスで構成される3層以上の積層体であって、前記熱可塑性樹脂フイルムに、例えば, ベンゾチアジル基を含む化合物やベンゾトリアゾール基を含む化合物である、振動吸収材料を含有し、かつ積層体の平行光線透過率が85%以上であり、例えば振動吸収材料等のドメイン直径が150nm以下である自動車ガラス用積層体。 - 特許庁

The antireflection film includes at least a hard coat layer and a low refractive index layer, successively layered on a transparent film substrate, wherein the surface of the low refractive index layer has recesses in the form of suction cups having a diameter of 0.5 to 15 μm and a depth of 2 to 50 nm by 10,000 to 100,000/mm^2 in number.例文帳に追加

透明フィルム基材上に、少なくともハードコート層、低屈折率層をこの順に積層している反射防止フィルムにおいて、該低屈折率層表面が直径0.5〜15μmかつ深さ2〜50nmの吸盤状凹みを、10,000〜100,000個/mm^2有することを特徴とする反射防止フィルム。 - 特許庁

Wavelength-variable laser having sufficient spectrum intensity or light emitted from a wide-band light source is guided to a waveguide section, such as an optical fiber probe, for irradiating the skin of a human body with light in a near-infrared region having a wavelength of approximately 1,500-1,800 nm, and light being subjected to diffusion reflection is dispersed before a PLS analysis is made.例文帳に追加

波長1,500〜1,800nm程度の近赤外領域に十分なスペクトル強度を有する波長可変レーザ或いは広帯域光源から射出した光を光ファイバプローブ等の導波部へ導き人体の皮膚に照射し、拡散反射を受けた光を分光した後にPLS解析を施す。 - 特許庁

A fixed magnetic field of the fixed magnetization layer is increased three times or more of the fixed magnetic field of the standard AP fixed GMR sensor and TMR sensor using a ruthenium spacer of a thickness 0.8 nm which is heat-treated in the magnetic field which is relatively low or about 1.3 T, whereby the anti-parallel coupling strength of the fixed magnetization layer 43 can be increased.例文帳に追加

固定磁化層の固定磁場を、約1.3テスラの比較的低い磁場中で熱処理される厚さ0.8nmのルテニウムスペーサを用いる標準的なAP固定GMRセンサおよびTMRセンサの固定磁場の3倍よりも大きくすることで、固定磁化層43の反平行結合強度を増大させることができる。 - 特許庁

Mono-dispersed oxide silicon particles whose mean primary particle diameters range from 30 to 200 nm are made of colloidal solutions whose concentration ranges from 1 to 25 wt.%, and the colloidal solution is modified as a buffer solution having buffer action in the range of pH 8.7 to 10.5, and a fluorine ion or anion coordinated with fluorine is contained in one of components for composing a composition for polishing.例文帳に追加

平均一次粒子径が30〜200nmの単分散である酸化珪素粒子が、その濃度が1〜25重量%であるコロイド溶液からなり、該コロイド溶液が、pH8.7〜10.5の間で緩衝作用を有する緩衝溶液として調整されたものであり、成分の一つにフッ素イオンもしくはフッ素が配位した陰イオンを含有することを特徴とする研磨用組成物。 - 特許庁

The method for forming the conductive path or the electrode includes steps of ablating a metal fin particle containing layer containing metal fine particles each having a mean particle size of 50 nm or less and in a state that fine particles are isolated by an organic material on a support, patterning the metal fine particle containing layer in a target shape, and then heating to heat and fusion-bond the metal fine particles.例文帳に追加

支持体上に、平均粒径が50nm以下の金属微粒子を含有し、微粒子間が有機物により隔離された状態である金属微粒子含有層をアブレーションさせることで目的形状様にパターニングした後、加熱することにより金属微粒子を熱融着させることを特徴とする導電路又は電極の形成方法。 - 特許庁

A cluster of Fe or Co of a diameter of around 10 nm small and uniform in size as compared with a light wavelength is made dispersed in a tin-doped indium oxide (abbreviated as Indium-Tin-Oxide: ITO) showing a degree of transparency of 90% to visible light and an electric conductivity of an order of 10^-4 Ωcm to constitute the transparent, electrically conductive, ferromagnetic complex membrane.例文帳に追加

光の波長に比べて十分小さくサイズの揃った直径約10nmのFeあるいはCoクラスターを、可視光に対して90%以上の透明度を示し、電気伝導度が10^−4Ωcmオーダーを示す錫ドープインジウム酸化物(Indium−Tin−Oxide:ITOと略称する)中に分散させて、透明電気伝導性強磁性複合膜を構成させる。 - 特許庁

In a fluorescent diagnostic mode, the fluorescence emitted from an observation part 1 irradiated with the exciting light Le1 of 410 nm is picked up by a CCD imaging device 308 to obtain a fluorescent yield arithmetic value (Le1) to display a fluorescent diagnostic image in which color information is generated based on the fluorescent yield arithmetic value (Le1) on a monitor 70.例文帳に追加

蛍光診断モードにおいては、410nmの励起光Le1が照射された観察部1から発せられた蛍光をCCD撮像素子308 により撮像し、蛍光収率演算値(Le1)を求め、該蛍光収率演算値(Le1)に基づいて色情報を作成した蛍光診断画像をモニタ70上に表示する。 - 特許庁

The packaging circuit board has a polyester film (A) laminated on one side of a metal layer having a thickness of 200-2000 μm, where the total light relative reflectance of the polyester film (A) is 75-100% at 550 nm, and heat conductivity of the polyester film (A) in the thickness direction is 0.2 W/(m.K) or higher.例文帳に追加

200μm以上2000μm以下の厚みの金属層の片面にポリエステルフィルム(A)が積層された実装用回路基板であり、該ポリエステルフィルム(A)の550nmにおける全光線相対反射率が75%以上100%以下であり、かつ該ポリエステルフィルム(A)の厚み方向の熱伝導率が0.2W/(m・K)以上である実装用回路基板によって得られる。 - 特許庁

A display substrate in this invention, which is formed by a down-draw process, has its thickness of 0.1 mm or more, and ▵T_400 which is the difference between transmissivities of the display substrate with 30 μm of its both surfaces removed, at the wavelength of 400 nm and the display substrate before the removal is in the range of 0.5-5.0%.例文帳に追加

本発明のディスプレイ基板は、肉厚0.1mm以上のディスプレイ基板であって、波長400nmにおいて、基板の両表面をそれぞれ30μm除去したときの透過率と、除去前の透過率との差△T_400が、0.5〜5.0%の範囲にあり、ダウンドロー法で成形されてなることを特徴とする。 - 特許庁

This latex for enabling cellulose fibers to be dyed with disperse dye is obtained by the emulsion polymerization of a monomer mixture comprising an α,β-unsaturated monocarboxylate, an unsaturated carboxylic acid, a crosslinking monomer having any aromatic ring along with at least one of ester bonds and/or ether bonds, an amino group-including monomer and other comonomer in the presence of a reactive emulsifier, and has 5-100 nm particle diameter.例文帳に追加

α、β−不飽和モノカルボン酸エステル、不飽和カルボン酸、芳香環を有しかつエステル結合及び/又はエーテル結合を少なくとも一つ有する架橋性モノマー、アミド基含有モノマー、その他モノマーからなるモノマー混合物を乳化重合して得られ、乳化重合時に反応性乳化剤を用い、粒径が5〜100nmである分散染料可染用ラテックス。 - 特許庁

The method for producing the Fe/Pd composite nanoparticles having a Pd phase as a core and an Fe phase as a shell includes the steps of: mixing nanoparticles of Pd having particle sizes of 1 to 100 nm with a detergent, a salt of Fe, and a reducing agent; and reducing Fe ions composing the salt of Fe by heating the mixture to deposit the particles on the nanoparticles of Pd.例文帳に追加

粒径1〜100nmのPdナノ粒子を、界面活性剤、Feの塩、及び還元剤と混合し、この混合物を加熱してFeの塩を構成するFeイオンを還元してPdナノ粒子上で析出させることを含む、Pd相をコアとし、Fe相をシェルとするFe/Pd複合ナノ粒子の製造方法。 - 特許庁

There are provided a UV irradiation unit which has a UV lamp 2 and a filter 4 for removing the visible light of the wavelength 380 to 2,000 nm and the IR light component and irradiates the top of a cylindrical base body (photoreceptor drum) 5 with the light transmitted through the filter 4 out of the radiation light from the UV lamp 2, and a filter cooling unit which cools the filter 4.例文帳に追加

UVランプ2と、波長380nm〜2000nmの可視光及びIR光成分を除去するフィルタ4とを有し、UVランプ2からの放射光のうち、フィルタ4を透過した光を円筒基体(感光体ドラム)5上に照射する紫外線照射ユニットと、フィルタ4を冷却するフィルタ冷却ユニットを備える。 - 特許庁

This transparent conductive film formed on the screen of the display device is formed by applying and drying a paint containing at least platinum group metal fine particles having an average particle diameter of 50 nm or less and thereafter burning it at a burning temperature of 300-1,000°C, and has a transparent conductive layer formed by converting at least a part of the platinum metal into a platinum group metal oxide.例文帳に追加

表示装置の表示面に形成される透明導電膜が、平均粒径が50nm以下の少なくとも白金族金属微粒子を含む塗料を塗布、乾燥した後、300℃〜1000℃の範囲内の焼成温度で焼付けて形成され、前記白金族金属の少なくとも一部が白金族金属酸化物に転化してなる透明導電層を有している。 - 特許庁

The liquid crystal display panel includes an array substrate overlaid with an alignment layer by covering a polymer layer and a transparent electrode formed on the polymer, and 5 nm or more of surface roughness Ra by roughening the polymer layer overlaying the array substrate and the surface of the alignment layer in the IPS (In-Plane Switching) liquid crystal display panel sealing a liquid crystal layer between the array substrate and a color filter substrate.例文帳に追加

本発明の液晶表示パネルは、ポリマー層及び該ポリマー層上に形成した透明電極を覆って配向膜を積層したアレイ基板と、該アレイ基板とカラーフィルタ基板との間に液晶層を封止したIPS(In−Plane Switching)液晶表示パネルであって、前記アレイ基板上に積層したポリマー層や配向膜の表面を荒らして表面粗さRaを5nm以上とした。 - 特許庁

In a reflective mask blank for EUV lithography where a layer 12 reflecting EUV light, a layer 14 for absorbing EUV light, and a low reflection layer 15 for the inspection light (wavelength 190-260 nm) of a mask pattern are formed on a substrate 11 in this order, the low reflection layer 15 contains hafnium Hf, nitrogen N and oxygen O at content in total of 80 at% or more.例文帳に追加

基板11上に、EUV光を反射する反射層12と、EUV光を吸収する吸収体層14と、マスクパターンの検査光(波長190〜260nm)に対する低反射層15が、この順に形成されたEUVリソグラフィ用反射型マスクブランクであって、前記低反射層が、ハフニウム(Hf)、窒素(N)および酸素(O)を合計含有率で80at%以上含有する。 - 特許庁

(1) In the coating agent 8 constituted of refractory oxide, binder, organic base paste agent and dispersion medium, the ultra fine granular refractory oxide having 10-200 nm grain diameter is contained by 50-80 wt.% as a blending ratio excluding the organic base paste agent and the dispersion medium, and MgO in the ultra fine grain is contained by 40-80 wt.%.例文帳に追加

(1)耐火性の酸化物、バインダ、有機系糊剤および分散媒から構成されたコーティング剤において、粒子径10〜200nmの超微粒子の耐火性の酸化物を有機系糊剤および分散を除く配合量で50〜80重量%含有し、該超微粒子中のMgOを配合量で40〜80重量%含有する。 - 特許庁

In the semiconductor device including a first silicon nitride film, having a thickness of 200 to 500 nm formed on a glass substrate; a second silicon nitride film formed on the first silicon nitride film; and an amorphous semiconductor film which is formed on the second silicon nitride film and includes a region which serves as a channel formation region, the configuration includes boron at the interface between the first insulating film and the second insulating film.例文帳に追加

上記目的を解決するため、ガラス基板上に200nm〜500nmの膜厚の第1の窒化珪素膜と、前記第1の窒化珪素膜上に第2の窒化珪素膜と、前記第2の窒化珪素膜上にチャネル形成領域となる領域を含む非晶質半導体膜と、を有する構成において、前記第1の絶縁膜と前記第2の絶縁膜との界面において、ボロンを有する。 - 特許庁

例文

A porous nanocomposite thin film characterized in that it is a porous material having an average pore diameter of 10 nm or less is obtained by forming a thin film from a composition comprising (A) a precursor of silica, (B) a heat resistant organic polymer, (C) a component that can be removed after the thin film having been formed, and a solvent, and thereafter removing the component (C).例文帳に追加

シリカ(A)の前駆体、耐熱性有機ポリマー(B)、薄膜形成後に除去可能な成分(C)及び溶剤を含有する組成物から薄膜を形成し、その後前記成分(C)を除去することにより、平均孔径が10nm以下の多孔質であることを特徴とする多孔質ナノコンポジット薄膜を得る。 - 特許庁

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