「PARTICLE DISPLACEMENT」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

A displacement difference, that is the absolute value of the displacement output value difference between minute length, is calculated successively from the change in a displacement output value and is averaged to calculated the average displacement difference, and the average particle diameter is calculated from the relationship between the average particle diameter and the average displacement difference of the particle that has been made in advance.例文帳に追加

演算処理装置Ｇにより、変位出力値の変化から微小長さ間の変位出力値差の絶対値である変位差を順次算出し、平均することにより平均変位差を算出し、予め作成しておいた粉粒体の平均粒径と平均変位差との関係式から平均粒径を演算する。 - 特許庁

In the method of manufacturing the glass fine particle deposition, the bulk density of the glass fine particle deposition is determined by surface displacement measured by irradiating the deposited glass fine particle with laser beam, detecting the displacement of the surface of the glass fine particle deposition vibrated by ultrasonic wave generated by the glass fine particle.例文帳に追加

堆積したガラス微粒子にレーザー光線を照射し、ガラス微粒子が発生する超音波により振動するガラス微粒子堆積体表面の変位を計測し、計測された表面変位からガラス微粒子堆積層の嵩密度を求めることを特徴とするガラス微粒子堆積体の製造方法。 - 特許庁

Next, the displacement quantity of the upper compression part 103 is measured by a displacement measuring part 105 and this measured value is set to the height (h) of the particle after deformation.例文帳に追加

次に、上部圧縮部１０３の変位量を変位計測部１０５により測定し、この測定値を変形後の粒子高さｈとする。 - 特許庁

To provide a particle displacement type display element, a particle displacement type display device, and a manufacturing method for the particle displacement type display element that can improve precision of positioning of a 1st electrode, a partition wall, and 2nd electrodes without requiring a large margin.例文帳に追加

マージンを大きく取ることなく第１電極と隔壁と第２電極との位置合わせ精度を向上させることのできる粒子移動型表示素子及び粒子移動型表示装置並びに粒子移動型表示素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

The deformation rate=(the displacement in compressing direction at the time of disintegration)/(the particle diameter before the compression)... (formula 1).例文帳に追加

変形率＝崩壊時点の圧縮方向の変位／圧縮前の粒子径（式１） - 特許庁

Also, such a porous silicon particle is produced by applying electroless plating, displacement plating, or carbon coating to a porous silicon particle.例文帳に追加

また、このような多孔質シリコン粒子は、多孔質シリコン粒子への無電解メッキ、置換メッキ、炭素コーティングにより作製される。 - 特許庁

As a result, the displacement of the irradiation position of the charged particle beam is eliminated, and the positional accuracy of the charged particle beam is improved inside the TFT element (pixel).例文帳に追加

これによって、荷電粒子ビームの照射位置の位置ずれが解消され、ＴＦＴ素子（ピクセル）内の荷電粒子ビームの位置精度を高める。 - 特許庁

To prevent displacement outbreak of a throttle material due to heat which has a role of removing unnecessary charged particle and shaping of charged particle beam or the like.例文帳に追加

不要な荷電粒子の除去や荷電粒子ビームの整形等の役割を担う絞りの熱による変位の発生を防止すること。 - 特許庁

To provide a charged particle beam drawing device for efficiently and accurately detecting and correcting displacement of a beam axis, and a method of correcting displacement of a beam axis of a charged particle beam.例文帳に追加

高効率且つ高精度にビーム軸の位置ずれを検出して補正する荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビームのビーム軸の位置ずれ補正方法を提供する。 - 特許庁

From the particle within the effective area, a force working on a target particle is found and its displacement is calculated, and then, the position information and the graph information in the particle storage part 106 is updated.例文帳に追加

有効範囲内のパーティクルから注目パーティクルに働く力を求め変位を計算し、パーティクル情報記憶部１０６の位置情報やグラフ情報を更新する。 - 特許庁

To provide a displacement detecting circuit capable of readily evaluating the stability of positions irradiated with electrically charged particle rays.例文帳に追加

荷電粒子線が照射される位置の安定性を容易に評価することができる変位検出回路を提供する。 - 特許庁

To provide a device for drawing a charged particle beam, which corrects displacement of an irradiation position due to the charge amount obtained by taking the deflection position dependency into consideration.例文帳に追加

偏向位置依存性を考慮した帯電量に起因した照射位置の位置ずれを補正する荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle beam lithographic system that not only achieves high accuracy detection of substrate displacement, but also obtains degree of degeneration that causes substrate displacement.例文帳に追加

高精度で基板ずれを検出し、基板ずれの原因となる装置の劣化の程度を把握することが可能な荷電粒子ビーム描画装置を提供することを課題とする。 - 特許庁

Using the average moisture output value and the average displacement difference, the water in the particle is calculated from the relation among the water in the particles, the average moisture output value, and the average displacement difference being created in advance.例文帳に追加

平均水分出力値と平均変位差を用いて、予め作成しておいた粉粒体の水分と平均水分出力値及び平均変位差との関係式から粉粒体の水分を演算する。 - 特許庁

The wafer 6 is rotated through operation of the actuator 7 in this way and displacement in rotation is controlled within the range where displacement in rotation rotation can be compensated by a charged particle beam optical system.例文帳に追加

このようにして、アクチュエータ７の動作によりウェハ６を回転し、荷電粒子線光学系で回転のずれを補償できる範囲内に回転のずれを制御する。 - 特許庁

The displacement in the surface of a particle layer B1 whose surface is smoothed is measured at a high speed in the order of ms for each minute length to obtain a voltage signal by an optical displacement meter E.例文帳に追加

光学式変位計Ｅにより、表面を平滑にした粉粒体層Ｂ１の表面の変位を微小長さごとにｍｓオーダーの高速で測定して電圧信号として得る。 - 特許庁

To provide a method for producing a displacement plating precursor which can form a Cu monatomic layer on the surface of Pt particle or Pt alloy particle without using any external electric source.例文帳に追加

外部電源を用いることなく、Ｐｔ粒子又はＰｔ合金粒子の表面にＣｕ単原子層を形成することが可能な置換メッキ前駆体の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a charged particle beam lithography apparatus equipped with a stage capable of minimizing displacement of a mask from the direction of travel, and to provide a charged particle beam lithography method.例文帳に追加

マスクの進行方向からの位置ずれを抑制することのできるステージを備えた荷電粒子ビーム描画装置および荷電粒子ビーム描画方法を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle ray aligner which can reduce the displacement of a charged particle ray flux (beam) or deviation in focus, etc., due to temperature change of a thermal medium and perform more stable exposure.例文帳に追加

熱媒体の温度変動による荷電粒子線束（ビーム）の位置ずれやフォーカスずれ等を低減でき、より安定した露光を行うことができる荷電粒子線露光装置を提供する。 - 特許庁

To provide a charged particle device which can suppress the relative displacement between a charged particle generation part and a sample stage by preventing the impact of vibration without narrowing a movable range of the sample stage.例文帳に追加

試料ステージの可動範囲を狭めることなく振動の影響を防止し荷電粒子発生部と試料ステージとの相対変位を抑制可能な荷電粒子装置を実現する。 - 特許庁

When integrated displacement quantity of 1/4 cells or more is generated in any of particles configuring a contact candidate particle pair, the possibility of the generation of the contact state of the contact candidate particle pair which have not been brought into contact with each other in a previous step among the contact candidate particle pairs is made high.例文帳に追加

接触候補粒子ペアを構成する粒子のいずれかにおいて、１／４セル以上の積算変位量が発生すると、接触候補粒子ペアの中で前のステップでは接触していなかった接触候補粒子ペアにおいて接触状態が発生する可能性が高くなる。 - 特許庁

To provide an optical apparatus capable of three-dimensionally acquiring the position of a particle existing in a three-dimensional microscopic space by a simple optical system, further, simultaneously acquiring the displacement in a direction parallel to the optical axis and a displacement in a direction orthogonal to the optical axis by the simple optical system.例文帳に追加

簡便な光学系にて、三次元顕微空間に存在する粒子の位置を三次元的に取得することのでき、さらに、上記の簡便な光学系にて、光軸に平行な方向の変位と光軸に直行する方向の変位を同時に取得する光学装置を提供する。 - 特許庁

A free working distance control system is arranged to increase the spacing between the lens array and the substrate in response to detection of a particle by the detector such that the lens array is moved away from the substrate as relative displacement causes the detected particle to pass the lens array.例文帳に追加

自由作動間隔制御システムは、相対的変位により検出した粒子がレンズ・アレイを通過する場合に、レンズ・アレイを基板から遠ざけるように、検出装置の粒子の検出に応じてレンズ・アレイと基板との間の間隔を広くするように配置されている。 - 特許庁

To provide a mask for charged particle beam exposure eliminating thermal deflection and displacement of a membrane due to heat storage during exposure without blocking formation of a fine mask pattern, and to provide a method of manufacturing the mask for charged particle beam exposure.例文帳に追加

微細なマスクパターンの形成を阻害することなく、露光時の蓄熱に起因したメンブレンの熱たわみ及び位置ずれを解消することを可能とする荷電粒子線露光用マスク及び荷電粒子線露光用マスクの製造方法を提供すること。 - 特許庁

A particle detector is positioned to detect particles on the substrate which are approaching the lens array as a result of relative displacement between the lens array and the substrate.例文帳に追加

粒子検出装置は、レンズ・アレイと基板との間の相対的変位により、レンズ・アレイに近づく基板上の粒子を検出するために位置する。 - 特許庁

When the fin (20) is thermally deformed, the displacement of the zeolite particles (28) is absorbed by the gaps in the first particle layer (21) to relax stress acting on the zeolite particles (28).例文帳に追加

吸着フィン（20）が熱変形した際には、ゼオライト粒子（28）の変位が第１粒子層（21）の隙間によって吸収され、ゼオライト粒子（28）に作用する応力が緩和される。 - 特許庁

To provide a charged particle beam device with its throughput substantially improved through the elimination of displacement of an observing object by preventing a change in expansion/contraction of a sample which is the observing object.例文帳に追加

本発明は、観察対象である試料の伸縮の変化を抑えることにより、観察対象の位置ずれを解消し、大幅なスループット向上を図った荷電粒子線装置を提供する。 - 特許庁

The displacement in the surface of the particle layer B1, whose surface has been smoothed is measured speedily in ms order for each minute length for obtaining as a voltage signal.例文帳に追加

光学式変位計Ｆにより、表面を平滑にした粉粒体層Ｂ１の表面の変位を微小長さごとにｍｓオーダーの高速で測定して電圧信号として得る。 - 特許庁

To provide a particle beam irradiation apparatus configured to enlarge angle of visibility in the depth direction and enlarge angle of visibility in the lateral direction, reducing an irradiation error due to displacement of an irradiation target.例文帳に追加

深さ方向の視野角拡大と、横方向の視野角拡大を行なう粒子線照射装置において、照射目標の変位に伴なう照射誤差を小さくする。 - 特許庁

To provide a fine particle detection apparatus for eliminating deformation of slits when handled, hardly influenced by a temperature of a sample fluid flowing in a flow cell and hardly generating shape changes and displacement of the slits although external force is applied.例文帳に追加

取扱い時にスリットを変形させることがなく、フローセルを流れる試料流体の温度の影響を受け難く、外力を受けてもスリットの形状変化や位置ずれが生じ難い微粒子検出装置を提供する。 - 特許庁

The toner is specified in such a manner that when a load is applied at a given speed to single particles of the toner, a value obtained by dividing an integrated value of the displacement amount of the particles per unit time by a volume average particle diameter of the toner is in a specified range.例文帳に追加

一定の速度で、トナーの単一粒子に加えた荷重に対する、単位時間ごとの変位量の積算値をトナーの体積平均粒子径で除した値を特定の範囲に規定するトナーとすることで、上記課題を解決する。 - 特許庁

A part of corner sections in an electrode pattern, which is connected to a pattern wiring or a device formed by injecting a fine particle-containing solution on a substrate with the action force of mechanical displacement, is chamfered.例文帳に追加

基板上において、機械的変位による作用力で微粒子含有溶液を噴射させて形成されるパターン配線あるいはデバイスに接続される電極パターンのコーナー部を面取り形状とする。 - 特許庁

In the method, scanning positions of charged particle beams are deflected on a plurality of objects within a deflectable region of the scanning positions in a deflectable region of scanning positions of the charged particle beams, and a deflection volume of the scanning positions is corrected based on displacement of the objects at scanning positions after each deflection, and the device for achieving the correction is provided.例文帳に追加

荷電粒子ビームの走査位置の偏向可能領域において、走査位置の偏向可能領域内の複数の対象物に、荷電粒子ビームの走査位置を偏向し、各偏向後の走査位置における対象物のずれに基づいて、前記走査位置の偏向量を補正する方法、及び当該補正を実現するための装置を提案する。 - 特許庁

In this way, by confirming the target position of irradiation and the position of arrival of the actually applied charged particle beam inside the irradiation chamber 103, the displacement of the position of arrival of the actually applied charged particle beam from the target position of irradiation is corrected and the object 51 to be irradiated can be positioned at an appropriate location.例文帳に追加

これにより、照射室１０３内において、照射目標位置、及び実際に照射された荷電粒子線の到達位置を確認することで、照射目標位置と実際に照射された荷電粒子線の到達位置との位置ずれを修正し、適切な位置に被照射体５１を位置決めすることができる。 - 特許庁

To provide a mask for charged particle beam exposure, the mask preventing a region of a membrane in a minute hole from being impeded by a beam, and suppressing or eliminating the occurrence of thermal flexure, displacement or the like of the membrane caused by heat storage during exposure, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加

メンブレンの微小なホールの領域が梁によって阻害されない、また露光時の蓄熱に起因したメンブレンの熱たわみや位置ずれ等の発生を抑止あるいは解消することのできる荷電粒子線露光用マスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The abrasive contains carrier particles and abrasive grains wherein mechanical strength is 1-50 MPa, a recovery rate is 0.1-10%, a number- average molecular weight is 5,000-500,000 and a glass transition point is not higher than 120°C at the time of 10% displacement measured at the carrier particle compression rate of 0.27 g/sec.例文帳に追加

キャリア粒子と砥粒とを含む研磨剤であって、該キャリア粒子の圧縮速度０．２７ｇ／ｓｅｃで測定した１０％変位時の機械的強度が１〜５０ＭＰａ、回復率が０．１〜１０％、数平均分子量が５，０００〜５００，０００かつガラス転移温度が１２０℃以下である研磨剤である。 - 特許庁

To provide a charged particle beam device in which displacement of the observed image is not caused within the observation field even when moving the sample for a predetermined distance using a moving mechanism of a sample stage and then returning it to the original position during observation of an image of the sample.例文帳に追加

試料画像を観察中に、試料ステージの移動機構を用いて試料の位置を所定の距離だけ移動させた後、再びもとの位置に戻しても、観察画像が観察視野内で位置ずれを起こさないような荷電粒子線装置を提供する。 - 特許庁

The filler 50 which has the particle size equal to the width of the clearance S and comes into contact with the both of the image pickup device unit side face 20S and the surface 32S of a retaining member insertion hole in the adhesive layer 42, can surely prevent the displacement of the image pickup device unit 20 mounted on a prescribed position.例文帳に追加

このように、粒径が隙間Ｓの幅と等しく、接着剤層４２中で、撮像素子ユニット側面２０Ｓと、保持部材挿入孔の表面３２Ｓとのいずれにも接触するフィラー５０により、所定の位置に取り付けられた撮像素子ユニット２０の位置ずれが確実に防止される。 - 特許庁

Relative displacement hardly occurs between the charged particle generation part and a sample even when an ambient noise is applied to the column 2 or the sample chamber 3 because the column 2 and the sample stage 5 are both fixed to the sample chamber upper portion 3a and vibrate in an integrated manner.例文帳に追加

環境音がカラム２や試料室３に加わってもカラム２と試料ステージ５が共に試料室上部３ａに固定され、互いに一体となって振動するので、荷電粒子発生部と試料との間に相対変位が生じにくい。 - 特許庁

The porous catalytic body for decomposing hydrocarbon comprises: a porous compound oxide including at least magnesium and/or calcium and aluminum; and metal nickel having a particle size of 1 to 25 nm, wherein the average collapse strength of the porous catalytic body is 5 kgf or more and the displacement length when being compressed at the load of 5 kgf is 0.05 mm or more.例文帳に追加

少なくともマグネシウム及び/又はカルシウムとアルミニウムとを含む多孔性複合酸化物と粒子径が１〜２５ｎｍの金属ニッケルとからなる多孔質触媒体であって、該多孔質触媒体の平均圧壊強度が５ｋｇｆ以上であって、荷重５ｋｇｆで圧縮したときの変位長が０．０５ｍｍ以上であることを特徴とする炭化水素を分解する多孔質触媒体。 - 特許庁

This sample fixing table is equipped for this charged particle beam device; markings are formed on the sample fixing table; and, when an image of the sample fixing table imaged by an external imaging device is displaced from a normal position, a change of a shape (visibility in the image) according to the displacement is generated in the image of the markings.例文帳に追加

本発明による試料固定台は、荷電粒子線装置に備え付けられる試料固定台であって、試料固定台上にマーキングが設けられ、外部イメージング装置によって撮像された試料固定台の画像が正常位置から位置ずれしている場合に、マーキングの画像に位置ずれに応じた形状（画像における見え方に）変化が生じる。 - 特許庁

Provided is the charged particle beam lithographic system where stage acceleration conditions are decided to draw a mark for a test substrate on a scan or the test substrate, and decision as to whether the substrate displacement has occurred is carried out, if the cumulative frequency data of the difference between the scanned result and reference coordinate or the drawing reproducibility is worse than the prestored cumulative frequency data or the reproducibility index data.例文帳に追加

ステージの加速条件を設定し、テスト用基板のマークをスキャンまたはテスト用基板に描画し、スキャン結果と基準となる座標の差分の累積度数データまたは描画の再現性が、予め記憶されている累積度数データまたは再現性の指標データよりも悪ければ、基板ずれが生じている判断することが可能な荷電粒子ビーム描画装置を提供する。 - 特許庁

To provide a device and a method of inspecting a failure of the charged particle beam capable of performing the focused clear observation and the accurate failure inspection even in the case of using a charged up sample by automatically correcting a displacement of the focal point position due to the charge up generated in the sample as an object of observation.例文帳に追加

観察対象の試料に生ずるチャージアップに起因する焦点位置のずれを操作者の手を煩わすことなく補正することができ、その結果として試料がチャージアップしている場合であっても焦点のあった鮮明な観察及び高精度の欠陥検査を行うことができる荷電粒子ビーム欠陥検査装置及び方法を提供する。 - 特許庁