「PROCESS」に関連した英語例文の一覧と使い方(936ページ目) - Weblio英語例文検索

A method for manufacturing a semiconductor device includes: a process of supplying a nitrogen-containing gas into a reaction vessel having silicon or silicon carbide at least at a part of a surface to nitride at least a part of the surface; a process of conveying the substrate into the reaction vessel; and a process of heat-treating the substrate in the reaction vessel having the nitrided surface.例文帳に追加

少なくとも表面の一部にシリコン又は炭化珪素を有する反応容器内に、窒素含有ガスを供給して少なくとも前記表面の一部を窒化させる工程と、前記反応容器内に基板を搬入する工程と、窒化された前記表面を有する前記反応容器内で前記基板を熱処理する工程とを有する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for forced heat sterilization for doing heat sterilization process for a short time at a temperature suitable for the kind of food, decreasing energy consumption and labor cost each required for the process, improving the preservability of the food at low salinity without adding a preservative and capable of making a device to be used for the process small and inexpensive.例文帳に追加

食品の種類に適した温度で短時間の加熱殺菌処理を行い、処理に要するエネルギー消費量と人件費を減らし、低塩分濃度で保存料を添加せずに食品の保存性を向上させ、処理に使う装置を小さく低廉にできる強制加熱殺菌方法及び強制加熱殺菌装置を提供すること。 - 特許庁

In a producing method of a magnetic head by forming an element part having prescribed characteristics through a deposition process of depositing on the surface of the substrate 10 and an etching process of patterning the film formed by the deposition process, the circumference of a region, where each element part on the substrate 10 is formed, is surrounded by an electrically conductive film and worked.例文帳に追加

基板１０の表面に成膜する成膜工程と、成膜工程によって形成された膜をパターンニングするエッチング工程を経て所要の特性を有する素子部を形成する磁気ヘッドの製造方法において、前記基板１０上の各々の素子部が形成される領域の周囲を導体膜で包囲して加工する。 - 特許庁

This pattern forming method includes a process wherein an electron beam emission element 10 having at least one pyramid part 18 whose surface is made of diamond is prepared; a process wherein an electron beam 19 is emitted from the pyramid part 18 to expose an electron beam sensitive resist layer 22 by applying a voltage; and a process wherein a portion of the resist layer 22 is removed to execute patterning.例文帳に追加

表面がダイヤモンドからなる少なくとも一つの錐体部１８を有する電子線放出素子１０を用意する工程と、電圧を印加して錐体部１８から電子線１９を放出させて、電子線感応性のレジスト層２２を暴露する工程と、レジスト層２２の一部を除去してパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁

When a picture processing system is instructed to emergently stop due to a trouble of the system, a main process of the system instructs all controlled sub-processes and picture process-associated apparatus to stop processes under way to forcibly change to the initial states (states at the start (process generation time)) (forced state transition instruction in the drawing).例文帳に追加

画像処理システムの不調により画像処理システムの緊急停止が指示されると、画像処理システムのメインプロセスは管理している全てのサブプロセス及び画像処理関連機器に対し、処理途中の処理を停止して強制的に初期状態（起動時（プロセス生成時）の状態）へ遷移することを指示する（図の「強制状態遷移指示」）。 - 特許庁

The manufacturing method for the metal oxide thin metal comprises a raw material solution preparing process where metal oxides and ultra-fine particles are added into a solvent and mixed, a film forming process where the resultant raw material solution is applied to the surface of the substrate to form a film, and a baking process where the thin film dried is baked onto the substrate.例文帳に追加

本発明の金属酸化物薄膜の製造方法は、金属酸化物と超微粒子とを溶媒中に添加して混合する原料液調製工程と、この原料液を基材表面に塗布して成膜する成膜工程と、乾燥した薄膜を基材上に焼成する焼成工程と、からなることを特徴とする。 - 特許庁

The method comprises a process for selectively binding DNA to a solid phase by bringing a biological sample into contact with the solid phase under conditions which selectively bind DNA; a process for separating the solid phase with the bound DNA from an unbound portion of the biological sample; and a process for isolating the bound DNA from the solid phase.例文帳に追加

本発明の方法は、以下の工程を包含する：選択的にＤＮＡを結合する条件下での、生物学サンプルの固相との接触による、固相への選択的ＤＮＡ結合を行う工程；固相と結合ＤＮＡの、生物学サンプルの非結合部分からの分離を行う工程；および固相からの結合ＤＮＡの単離を行う工程。 - 特許庁

The method for manufacturing the metal oxide thermoelectric material by heat treatment is provided with a molded object forming process for forming a molded object of particulate of the metal oxide thermoelectric material at least in a magnetic field, and a baking process for baking the molded object of particulate of the metal oxide thermoelectric material obtained in the molded object forming process in the magnetic field.例文帳に追加

熱処理により金属酸化物熱電材料を製造する方法であって、少なくとも磁場中で金属酸化物熱電材料の微粒子の成型体を形成する成型体形成工程と、前記成型体形成工程で得られた金属酸化物熱電材料の微粒子の成型体を磁場中で焼成する焼成工程とを有する。 - 特許庁

Interfaces are provided in the example of this invention, i.e., a command user interface for exchanging information with a control process being performed on a network host and a device detection system user interface for exchanging information with the control process and at least one remote command process being performed on at least one network host.例文帳に追加

本発明の一実施例によれば、ネットワークホスト上で実行されている制御プロセスと情報をやりとりするコマンドユーザインターフェースと、コマンドユーザインターフェースに関連し、制御プロセスおよび少なくとも１つのネットワークホスト上で実行されている少なくとも１つのリモートコマンドプロセスと情報をやりとりする、デバイス検出システム用ユーザインターフェースが提供される。 - 特許庁

This method produces the wet masterbatch including carbon black through a process obtaining a solution by dissolving a rubber in a solvent, a process adding the carbon black to the solution and agitating, and a reprecipitation process adding a poor solvent such as methanol to the solution under agitation or throwing the solution into the poor solvent such as methanol under agitation.例文帳に追加

ゴムを溶媒に溶解させて溶液を得る工程、該溶液にカーボンブラックを添加して攪拌する工程、および、該溶液を撹拌しながらメタノールなどの貧溶媒に投入する方法、または、該溶液を攪拌しながらメタノールなどの貧溶媒を投入する方法により再沈させる工程により、カーボンブラックを含有するウェットマスターバッチを製造する。 - 特許庁

The method of manufacturing the SiC semiconductor device includes a process (a) of forming a mask 8 on the first principal surface of the SiC substrate 1, a process (b) of selectively forming the trench 4 on the SiC substrate 1 from the first principal surface using the mask 8, and a process (c) of selectively forming the CNTs 5 in the trench 4 using the mask 8.例文帳に追加

又、本発明に係るＳｉＣ半導体装置の製造方法は、（ａ）ＳｉＣ基板１の第１主面上にマスク８を形成する工程と、（ｂ）マスク８を用いて選択的に第１主面からＳｉＣ基板１にトレンチ４を形成する工程と、（ｃ）マスク８を用いて選択的にトレンチ４内にＣＮＴ５を形成する工程と、を備える。 - 特許庁

The generation method for the mask data comprises a process of resizing a wiring layer pattern 120 and forming a resized pattern 130 so as to make a resize amount positive (+), a process of eliminating the resized pattern having a mutually overlapping part among the resized patterns 130 and a process of forming a stress mitigation layer pattern having a prescribed width on the outer side of the resized pattern.例文帳に追加

マスクデータの生成方法は、リサイズ量がプラス（＋）となるように、配線層パターン１２０をリサイズしてリサイズパターン１３０を形成する工程と、前記リサイズパターン１３０のうち相互に重なる部分を有するリサイズパターンを削除する工程と、前記リサイズパターンの外側に、所定の幅を有する応力緩和層パターンを形成する工程と、を有する。 - 特許庁

Then, the cement hardened body is heat-treated stepwise in: a first heating process for heating to disperse crystal water in the cement hardened body; a second heating process for heating to increase the inside temperature of the cement hardened body to the surface temperature; and a third heating process for heating the cement hardened body at a temperature to modify the asbestos therein.例文帳に追加

そして、セメント硬化体中の結晶水を飛散させる加熱を行なう第１加熱工程と、セメント硬化体の内部の温度を表面の温度にまで高めるように加熱を行なう第２加熱工程と、セメント硬化体中のアスベストを変性させる温度で加熱を行なう第３加熱工程により、セメント硬化体を段階的に加熱処理する。 - 特許庁

The process is gentle with the environment, generates finely separated calcium carbonate suitable for industrial application from a calcium carbonate enriched by-product 1 in a nitrophosphate fertilizer plant, and comprises processes for heat treatment purification S_1, S_2, and S_3, a grinding process P, and a process T for coating with an emulsion of a fatty acid or its derivative.例文帳に追加

ニトロリン酸塩肥料プラントの炭酸カルシウム富化副生成物１から、産業適用に適切な細かく分離された炭酸カルシウムを生成するための環境にやさしいプロセスであり、熱処理の精製プロセスＳ_１、Ｓ_２、Ｓ_３、粉砕Ｐおよび脂肪酸またはその誘導体のエマルジョンを使用するコーティングを行うプロセスＴからなる。 - 特許庁

The method for using the low grade iron scraps as the resources comprises; a high grade iron scrap manufacturing process for manufacturing the high grade iron scraps used as iron making raw material in a blast furnace iron making method from the low grade iron scraps; and a residue separating process for separating the residue in the high grade iron scrap manufacturing process into shape which can be used as the resource.例文帳に追加

低品位鉄スクラップから高炉製鉄法の製鉄原料として利用可能な高品位鉄スクラップを製造する高品位鉄スクラップ製造工程と、その高品位鉄スクラップ製造工程での残渣を資源化可能な形態に分離する残渣分離工程とを備えていることを特徴とする低品位鉄スクラップの資源化方法。 - 特許庁

The method for producing the biochip 1 is provided with a fine hole forming process for forming a fine hole 40 in a substrate 10; an immobilizing material bound process for bonding an immobilizing material 50 for immobilizing a target material 60 is to the fine hole 40; and an immobilization process for immobilizing the target material 60 on the immobilizing material 50.例文帳に追加

本発明に係るバイオチップ１の作製方法は、基盤１０に、微細穴４０を形成する微細穴形成工程と、この微細穴４０に、ターゲット物質６０を固定化するための固定化物質５０を結合する固定化物質結合工程と、この固定化物質５０にターゲット物質６０を固定化する固定化工程と、を含んでいることを特徴とする。 - 特許庁

The thick film conductor or the thick film resistor are formed by a coating process for applying the conductor paste or the resistor paste on the inside of the recess 4 and on the surface of the ceramic substrate by a screen printing method, a drying process for drying the applied conductor paste and resistor paste, and a baking process for baking the dried conductor paste or resistor paste.例文帳に追加

厚膜導体や厚膜抵抗体は、スクリーン印刷法により導体ペーストや抵抗体ペーストを凹部４の内部およびセラミック基板表面上に塗布する塗布工程と、塗布した導体ペーストや抵抗体ペーストを乾燥する乾燥工程と、乾燥した導体ペーストや抵抗体ペーストを焼成する焼成工程とから形成される。 - 特許庁

The method for producing the sweetened bean-jelly comprises a seasoning process of adding one by one to sweetened bean-jelly dough before solidification common salt and broth, or besides them, soy sauce, ginger and green laver and a filling process of pouring the sweetened bean-jelly dough obtained by finishing the seasoning process into the balloon container and blocking the opening part of the balloon container after pouring.例文帳に追加

その製造方法は、固化前の羊かん生地に、食塩およびだし、または、これらのほかに、しょう油、生姜および青のりを順次添加してなる味付け工程と、風船容器に上記味付け工程を終了してなる羊かん生地を注入し、該注入後に風船容器の開口部を閉塞してなる充填工程とを有する。 - 特許庁

To provide a method for obtaining a component with a large expansion rate in one process without applying a drawing process of a tube end and process annealing, in hydroforming equipment and a hydroforming method by which a tube is processed into a predetermined shape while pushing a tube end portion into a tube axis direction by holding the tube in a die and applying internal pressure in the tube.例文帳に追加

管を金型内に収容し，管内に内圧をかけて管端部を管軸方向に押し込みつつ所定の形状に加工するハイドロフォ−ム加工装置及び加工方法において，管端の絞り工程や中間焼きなまし処理を必要とせずに，大きな拡管率を有する部品を１工程で得られるハイドロフォ−ム加工方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the speaker diaphragm comprises a forming process which forms the first formed object and the second formed object with the textile fabrics that are knitted with warps and wefts, and a stacking process which stacks the first formed object and the second formed object formed in the forming process while keeping an angle between both knitting directions to a predetermined one.例文帳に追加

スピーカ振動板の製造方法は、縦糸と横糸とで編み込まれた織布から第１の成型体および第２の成型体を成型する成型工程と、成型工程にて成型された第１の成型体および第２の成型体を、編み込み方向が所定の角度傾くようにして重ね合わせる重ね合わせ工程とを有する。 - 特許庁

This hydrogenation treatment method of a polycrystalline silicon film is provided with a process for cleaning the inside of a chamber 20 of a plasma CVD system, a process for depositing a seasoning film 22 on the inner wall of the chamber 20, and a process for introducing a substrate W on which a polycrystalline silicon film is formed into the chamber 20 to give a hydrogen plasma treatment to the substrate W.例文帳に追加

本発明の多結晶シリコン膜の水素化処理方法は、プラズマＣＶＤ装置のチャンバー２０内をクリーニングする工程と、同チャンバー２０の内壁にシーズニング膜２２を堆積させる工程と、チャンバー２０内に多結晶シリコン膜が形成された基板Ｗを導入し、基板Ｗに水素プラズマ処理を施す工程とを有する。 - 特許庁

When the water treatment of polyester chips by feeding the polyester chips and process water into a processing vessel, the method of this invention is to return at least a portion of the process water discharged from the vessel to the vessel itself so as to be repeatedly used while maintaining the quantity of fine resinous grains in the discharged process water so as to become ≤1,000 ppm.例文帳に追加

ポリエステルチップ及び処理水を処理槽に供給してポリエステルチップを水処理するポリエステルの製造方法において、処理槽からポリエステルチップと共に排出する処理水のファイン量を１０００ｐｐｍ以下に維持しながら処理槽から排出された処理水の少なくとも一部を処理槽に戻して繰り返し使用することを特徴とする。 - 特許庁

In the data-combining processing method including a combining process for combining data, a pre-combining process for conducting processing using a pre-combining data size as a processing unit, and a post-combining process for conducting processing using a post-combining data size as a processing unit, pre-combining data are processed for a plurality of channels in a sequence following the order of outputs.例文帳に追加

データを結合する結合工程と、結合前のデータサイズを処理単位とした処理を行う結合前処理工程と、結合後のデータサイズを処理単位とした処理を行う結合後処理工程とを含むデータ結合処理方法において、複数チャネルの結合前データを、出力順序に合わせた順序で処理する。 - 特許庁

This wiring board manufacturing method comprises a first process of providing through-holes 1c to a sintered board 1 and wiring pattern grooves 1a and 1b to both the surfaces of the sintered board 1, a second process of filling the through-holes 1c and the wiring pattern grooves 1a and 1b with conductive paste M, and a third process of curing the conductive paste M.例文帳に追加

焼結した基板１にスルーホール１ｃと、前記基板１の両面に配線パターン用の溝１ａ、１ｂを形成する工程と、前記スルーホール１ｃと配線パターン用の溝１ｂ、１ｃに導電ペーストＭを充填する工程と、前記導電ペーストＭを硬化させる工程とを有する配線基板の製造方法、によって解決される - 特許庁

The method is provided with (a) a grinding process wherein a cylindrical sintered magnet is subjected to outer peripheral grinding with a coreless grinding machine, (b) an internal machining process forming a hole of arbitrary shape inside the rare earth sintered magnet subjected to the outer peripheral grinding by using wire electrical discharge machining, and (c) a cutting process slicing the cylindrical sintered magnet subjected to internal machining.例文帳に追加

本発明方法は、（ａ）円筒状の焼結磁石を芯なし研削盤により外周研削する研削工程、（ｂ）外周研削した希土類焼結磁石の内部にワイヤ放電加工により任意形状の穴を形成する内面加工工程、（ｃ）内面加工した円筒状の焼結磁石をスライスする切断工程、を具備している。 - 特許庁

The process for acquiring the backside layout data includes a process for detecting the light-emitting position of emission light 6 by a detector 7, which is generated by passing a forward current into a light-emitting device 5 that has a pn junction provided in the semiconductor chip, and a process for superposing the light-emitting position and the surface side layout data of the semiconductor chip.例文帳に追加

また、裏面側レイアウトデータを得る工程は、半導体チップ内に設けられたｐｎ接合を有する発光素子５に順方向電流を流すことによって生じる発光光６の発光位置を検出器７によって検出する工程と、発光位置と半導体チップの表面側レイアウトデータとを重ね合わせる工程とを有する。 - 特許庁

In conducting a film-forming process on a wafer W by introducing a film-forming gas containing SiH4 gas, O2 gas and Ar gas into a process chamber 2 while plasma is generated in the process chamber 2, SiH4 gas is fed only from a top nozzle 20, and O2 gas and Ar gas are fed from the top nozzle 20 and from a side nozzle 24.例文帳に追加

処理チャンバ２内にプラズマを発生させた状態で、ＳｉＨ_4ガスとＯ_2ガスとＡｒガスとを含む成膜ガスを処理チャンバ２内に導入し、ウェハＷの成膜処理を行う場合、まず、ＳｉＨ_4ガスをトップノズル２０のみから供給すると共に、Ｏ_2ガス及びＡｒガスをトップノズル２０及びサイドノズル２４から供給する。 - 特許庁

This method of manufacturing a thin-film electronic component is provided with a process of providing a dielectric layer 16 on a base material 10; a process of providing a first conductive layer 31 covering at least one part of the dielectric layer and having a first opening 50; and a process of forming a first through hole 52 piercing the base material and communicating with the first opening.例文帳に追加

本発明に係る薄膜電子部品の製造方法は、基材１０上に誘電体層１６を設ける工程と、誘電体層の少なくとも一部を覆い、第１の開口５０を有する第１の導電層３１を設ける工程と、基材を貫通して第１の開口に連通する第１の貫通孔５２を形成する工程とを備えている。 - 特許庁

This manufacturing method of a glass layer includes at least (I) a process for heat-treating a glass substrate having a copper electrode, (II) a process for forming a mixture layer containing (a) glass particles and (b) an organic resin binder on the heat-treated glass substrate having the copper electrode, and (III) a process for forming a glass layer by baking the mixture layer.例文帳に追加

（I）銅電極を有するガラス基板を加熱処理する工程、（II）加熱処理した銅電極を有するガラス基板上に（ａ）ガラス粒子、及び、（ｂ）有機樹脂バインダを含有する混合物層を形成する工程、並びに、（III）前記混合物層を焼成してガラス層を形成する工程、とを少なくとも含むガラス層の製造方法。 - 特許庁

A driving method of the liquid crystal display device comprises: a process of calculating a difference value between a number of gate lines and a number of the gate channels; a process of generating a gate shift clock signal including at least one dummy shift clock, based on the difference value; and a process of supplying gate pulses to the gate lines in accordance with the gate clock signal.例文帳に追加

また、本発明の１つの実施の形態に係る液晶表示装置の駆動方法は、ゲートラインの本数とゲートチャンネルの個数の差分を演算するステップと、差分に基づいて少なくとも１つのダミーシフトクロックを含むゲートシフトクロック信号を生成するステップと、ゲートシフトクロック信号に従ってゲートラインへゲートパルスを供給するステップとを含む。 - 特許庁

A method (60) for weighting projection data comprises: a process (62) of selecting a region (70) that includes a plurality of projection data samples; a process (64) of dividing the region into a plurality of equally sized sub-regions (74); and a process (66) of weighting the equally sized sub-regions using a location dependent z-smoothing weighting function.例文帳に追加

投影データに加重する方法（６０）が、複数の投影データ・サンプルを含んでいる領域（７０）を選択する工程（６２）と、この領域を複数の等寸法の小領域（７４）に分割する工程（６４）と、これら等寸法の小領域に、位置依存型ｚ平滑化加重関数を用いて加重する工程（６６）とを含んでいる。 - 特許庁

This method of manufacturing the semiconductor device includes: an application process of applying a liquid body used as a material of a metal terminal film 4 on a mounting substrate 2; a loading process of loading a semiconductor member on the mounting substrate 2 so that a connection terminal 5 of the semiconductor member contacts the liquid body applied on the mounting substrate 2; and a solidification process of solidifying the liquid body.例文帳に追加

金属端子膜４の材料となる液状体を実装基板２上に塗布する塗布工程と、前記実装基板２上に塗布された前記液状体に半導体部材の接続端子５が接触するように、前記実装基板２の上に前記半導体部材を載置する載置工程と、前記液状体を固化する固化工程と、を含む。 - 特許庁

The resources 4a to 4c comprise a termination procedure unit 5 in which the state of update process of each of the plurality of the resources 4a to 4c is collected by the termination procedure unit 5 and the termination procedure is performed after deciding commit or abort of the own update process from the state of the collected update process without depending on indication from the coordinator 3.例文帳に追加

また、リソース４ａ〜ｃは、終了手続き部５を備え、この終了手続き５によって、複数のリソース４ａ〜ｃそれぞれの更新処理の状態を収集し、コーディネータ３からの指示によらずに、この収集した更新処理の状態から自身の更新処理のコミットまたはアボートを決定して終了手続きを行う。 - 特許庁

There are provided a process where an island-like semiconductor film 3 is formed on a substrate 1, a process where the semiconductor film is covered with an isolation film 4 and the side surface of the semiconductor film is enclosed with a heat insulation film 5 via the isolation film, and a process where the semiconductor film is irradiated with energy beam from above for crystallization to form an operation semiconductor film 11.例文帳に追加

基板１上に島状の半導体膜３を形成する工程と、半導体膜を分離膜４で覆い、半導体膜の側面を分離膜を介して保温膜５で囲む工程と、半導体膜に対して上面からエネルギービームを照射して半導体膜を結晶化し、動作半導体膜１１を形成する工程とを有している。 - 特許庁

To provide a processing facility with process chambers wherein the delivery of a processed object or a processing object is performed with the outside of the processing facility and arranged along a physical distribution passage, and with a passage for workers through which the workers enter and leave from the process chambers provided adjacent, on a side face side opposite to the physical distribution passage in the process chambers.例文帳に追加

処理設備の外部との間において被処理物や処理物の受け渡しを行う工程室を物流通路に沿って配置すると共に、当該工程室に作業者が出入りする作業者用通路をこの工程室における前記物流通路とは反対側の側面側に隣接して設けることのできる処理設備を提供する。 - 特許庁

By carrying out a ticketing and ticket collecting process of canceling a settlement process of former detrainment when an occupant entrains again based upon certain conditions in railway tickets using an IC card and an on-vehicle non-contact automatic ticketing and ticket collecting machine mounted on a train, an accurate ticketing and ticket collecting process is provided and the users waiting for the train is provided with proper information.例文帳に追加

ＩＣカードによる乗車券類と、列車に搭載される車載用非接触型自動改札機で再乗車時に前回降車時の精算処理を一定条件の元、キャンセルする出改札処理を行うことにより、正確な出改札処理を提供し、その際のデータから列車を待つ利用者に適切な情報を提供する。 - 特許庁

The method of treating shredder dust is comprised of the process of classifying dust content including plastics, rubber and fibers as main components from the shredder dust, the process of heating and pressing the dust content and forming several kinds of solidified material groups, each having different means specific surface area or mean density and the process of feeding the solidified material groups in the mixed state in to a metal melting furnace.例文帳に追加

シュレッダーダストからプラスチック類、ゴム類および繊維類を主体としたダスト分を選別する工程と、当該ダスト分を加熱圧縮して、比表面積ないし密度の平均値が異なる複数種の固化物群を成形する工程と、当該固化物群を混在させて金属溶解炉に投入する工程とを有している。 - 特許庁

An image processing apparatus executes a region-dividing process to color image data divided into blocks of predetermined size (S1), and selects a three-color mode, when priority is given to gradation or selects a four-color mode, when priority is given to resolution as a color mode of a region averaging process which is a compressing process on the block, for each block (S2).例文帳に追加

画像処理装置は、所定サイズのブロックに分割されたカラー画像データに対して領域分割処理を実行し（Ｓ１）、ブロックごとに、当該ブロックに対する圧縮処理である領域平均化処理の色モードとして、階調を優先する場合には３色モード、または解像度を優先する場合には４色モードを選択する（Ｓ２）。 - 特許庁

The method for preparing the photocatalyst comprises a first process wherein a photocatalyst coat is formed by coating a photocatalyst coating liquid on the substrate and a second process wherein a photocatalyst film is formed by forcing the undried photocatalyst coat prepared in the first process to dry and calcining it by blowing hot air thereon.例文帳に追加

また、光触媒体の製造方法は、基体の表面に光触媒塗布液を塗布して光触媒塗布膜を形成する第１の工程と、第１の工程により形成された未乾燥状態の光触媒塗布膜に熱風を吹き付けて強制乾燥を行うとともに焼成して光触媒膜を形成する第２の工程とを具備している。 - 特許庁

This extraction method of S-adenosylmethionine contained in sake lees includes: a process for preparing a composition containing sake lees and vinegars derived from brewing by mixing sake lees with vinegars derived from brewing; and a process for obtaining extract containing S-adenosylmethionine by removing solid matter in the composition obtained in the above process.例文帳に追加

清酒粕に含まれるS-アデノシルメチオニンの抽出方法であって、清酒粕と醸造に由来する酢類とを混合して清酒粕と醸造に由来する酢類とを含む組成物を調製する工程、及び上記工程により得られた組成物中の固形分を除去してS-アデノシルメチオニンを含む抽出物を得る工程を含む方法。 - 特許庁

The method for producing polyethylene terephthalate resin fine particles comprises a process for preparing a polyethylene terephthalate resin solution by using polyethylene terephthalate resin and trifluoroacetic acid, a process for obtaining fine particles in a liquid medium by mixing the polyethylene terephthalate resin solution and alcohol, and a process for collecting the fine particles.例文帳に追加

本発明によるポリエチレンテレフタレート樹脂微粒子の製造方法は、ポリエチレンテレフタレート樹脂とトリフルオロ酢酸とを用い、ポリエチレンテレフタレート樹脂溶液を調製する工程と、前記ポリエチレンテレフタレート樹脂溶液と、アルコールとを混合して、液体媒質中に微粒子を得る工程と、前記微粒子を回収する工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for producing bis(fluorosulfonyl)imide salt comprises: a process of dissolving a liquid mixture containing bis(fluorosulfonyl)imide and fluorosulfuric acid into water to prepare an aqueous solution; a process of neutralizing the aqueous solution with alkali to prepare a neutralized liquid; and a process of isolating the bis(fluorosulfonyl)imide salt from the neutralized liquid.例文帳に追加

ビス（フルオロスルホニル）イミドとフルオロ硫酸とを含む混合液を水に溶解させて水溶液を調製する工程と、前記水溶液をアルカリで中和して中和液を調製する工程と、前記中和液からビス（フルオロスルホニル）イミド塩を単離する工程と、を備えることを特徴とするビス（フルオロスルホニル）イミド塩の製造方法を採用する。 - 特許庁

The method for production of a polyglycerol fatty acid ester comprises a process of producing purified polyglycerol by processing crude polyglycerol, which is obtained by addition polymerization of glycidol, with an ion exchange resin, and a process of reacting a fatty acid to the purified polyglycerol, wherein the method is characterized by including the process at least with a strongly basic anion exchange resin.例文帳に追加

グリシドールを付加重合させて得られた粗ポリグリセリンをイオン交換樹脂で処理して精製ポリグリセリンとし、該精製ポリグリセリンに脂肪酸を反応させるポリグリセリン脂肪酸エステルの製造方法であって、該処理が少なくとも強塩基性陰イオン交換樹脂によることを特徴とするポリグリセリン脂肪酸エステルの製造方法。 - 特許庁

The method for desulfurizing the hydrocarbon includes an oxidation process for oxidizing benzothiophene compounds and/or dibenzothiophene compounds in the hydrocarbon and a contact process for contacting the hydrocarbon treated in the oxidation process with a desulfurizing agent prepared by supporting a rare earth element compound and/or a copper compound on a porous inorganic compound.例文帳に追加

上記課題は、炭化水素中のベンゾチオフェン類及び／又はジベンゾチオフェン類を酸化する酸化工程と、当該酸化工程で処理された炭化水素を、多孔性無機化合物に希土類元素の化合物及び／又は銅の化合物を担持した脱硫剤に接触させる接触工程とを備える、本発明の炭化水素の脱硫方法により解決される。 - 特許庁

The method for manufacturing polyimide metal laminated body includes: a pressure-bonding process for thermally pressure-bonding a multilayer polyimide film 11 provided with a thermoplastic polyimide layer and a metal foil 12 under pressure; and a press process for pressing a pressure-bonded body obtained by the pressure-bonding process under a heating condition.例文帳に追加

本発明のポリイミド金属積層体の製造方法は、非熱可塑性ポリイミドフィルムの少なくとも一方の面に熱可塑性ポリイミド層を備えた多層ポリイミドフィルム１１及び金属箔１２を加圧下で熱圧着する圧着工程と、圧着工程で得られた圧着体を加熱条件下でプレスするプレス工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁