「Pattern area」に関連した英語例文の一覧と使い方(31ページ目) - Weblio英語例文検索

When an embroidery pattern is compiled inside a sewing area frame of a compiling image by the PC 1, the server 5 generates the embroidery data for embroidery-sewing the embroidery pattern to send them to the PC 1.例文帳に追加

そして、ＰＣ１にて編集用画像の縫製エリア枠内で刺繍模様が編集されると、サーバ装置５ではその刺繍模様を刺繍縫製するための刺繍データが生成されて、ＰＣ１に刺繍データが送信される。 - 特許庁

A pattern matching means 6 receives a measuring command, and detects an adequate area where the image information included in the reference information is approximating to an image pattern from among images photographed by an image photographing means 3.例文帳に追加

パターンマッチング手段６は、測定指令を受け取ると、画像撮影手段３で撮影されている画像内から、基準情報に含まれている画像情報と画像パターンが近似している適合領域を検出する。 - 特許庁

A receiver 4 extracts reception frames from the respective transmission lines from the transmitter 3, inserts a fixed pattern in the undefined area instead and compensates the difference of the parity by insertion of the fixed pattern.例文帳に追加

受信装置４は、送信装置３からの各伝送路よりの受信フレームからテストパターンを抽出して代わりに未定義領域に固定パターンを挿入すると共に、固定パターンの挿入によるパリティの差分を補償する。 - 特許庁

To provide a high-frequency glass antenna for a vehicle which can eliminate a pattern interfering with forward visibility and coexist with other media by installing in a small area and causing the antenna pattern to have directivity intended by the designer.例文帳に追加

狭いエリアに設定でき、設計者の意図する指向性を持ったアンテナパターンとすることにより、前方視認性を阻害するパターンを無くし、他のメディアとの共存が容易な車両用高周波ガラスアンテナを提供する。 - 特許庁

The mask pattern 36 is removed and a mask pattern 37 is formed on the surface of the substrate 21 so that a substrate processing area including the concave 27 may be formed into a prescribed shape.例文帳に追加

その後に、上記凹部形成用マスクパターン３６を除去し、然る後に、凹部２７を含む基板加工領域を設定の形状に加工するための成形用マスクパターン３７を半導体基板２１の表面に形成する。 - 特許庁

To provide an image processing unit that can avoid errors in pattern matching caused by extraction and use of an improper matching area so as to composite images with high accuracy in the case of the pattern matching.例文帳に追加

パターンマッチングを行う際に、不適切なマッチング領域が抽出、使用されることに起因するパターンマッチングの誤りを回避し、高精度に画像の合成を行うことのできる画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a circuit board that can avoid damage, shortcircuiting and earth fault of a circuit pattern due to a memory card by a simplified structure even if a through hole is made in an attachment area to form the circuit pattern.例文帳に追加

簡略化された構成により、装着領域にスルーホールを設けて回路パターンを形成しても、メモリカードによる当該回路パターンの損傷並びに短絡及び地絡を回避することができる回路基板を提供する。 - 特許庁

The pattern display device of the game machine 10 has a pattern display 26 arranged in the game area 18 of a game board 24 for stopping and displaying patterns after variably displaying patterns corresponding to winning signals at least.例文帳に追加

遊技盤２４の遊技領域１８に配置されて少なくとも入賞信号に応じて図柄変動表示をした後に図柄停止表示をなす図柄表示器２６を備えた遊技機１０の図柄表示装置である。 - 特許庁

On the basis of the calculated intersection or various flags, a span calculating part 7 calculates the paint-out of a 2D pattern area by logical arithmetic so as to perform painting-out by adopting a paint-out pattern corresponding to the direction of the vector.例文帳に追加

計算された交点や各種フラグを基に、スパン計算部７では、ベクトルの向きに応じた塗りつぶしパターンを採用し塗りつぶしを行うように、２次元パターン領域の塗りつぶしを論理演算により計算する。 - 特許庁

A resist master disk RD is exposed using enlarging masks MK along a rugged pattern by an electron beam(EB) plotting method in which lump-sum exposure is performed for each predetermined area while reducing the pattern of the enlarging masks.例文帳に追加

凹凸形状のパターンに沿った拡大マスクＭＫを用いて、当該拡大マスクのパターンを縮小しながら所定領域毎に一括露光する電子線（ＥＢ）描画法により、レジスト原盤ＲＤを露光する。 - 特許庁

Using an ink jet method, a masking layer 21 having an opening pattern 21a in a predetermined position of the lens area is pattern-formed on one main surface side of the lens base material 11 while controlling a printing position using the mark as a reference.例文帳に追加

インクジェット法により、レンズ基材１１の一主面側の上方に、マークを基準として印刷位置を制御しながらレンズ領域の所定位置に開口パターン２１ａを有するマスキング層２１をパターン形成する。 - 特許庁

An image processing part 6 sets a matching processing area on the image data from attribute information and object detection information obtained by the radar device 7, and performs pattern matching by a sampling pattern according to each the attribute.例文帳に追加

画像処理部６は、レーダ装置７で得られた物体検知情報と属性情報とから画像データ上でのマッチング処理領域を設定して、それぞれの属性に応じたサンプリングパターンでパターンマッチングを行う。 - 特許庁

This device is provided with a means which extracts the character rows from a document image, a means which selects a specific character pattern out of those extracted character rows and a means which paints out the image included in the selected character pattern area.例文帳に追加

文書画像から文字行を抽出する手段と、抽出した複数の文字行から特定の文字パターンを選択する手段と、当該選択した文字パターン領域の画像を塗り潰す手段とを具備する。 - 特許庁

Consequently, the thickness of the copper plate, etc., forming the copper plate pattern 2 is properly set, so circuit sectional area needed to secure current capacity can be secured by increasing the thickness of the copper plate pattern 2.例文帳に追加

これにより、銅板パターン２を形成する銅板等の厚みを適宜に設定できるので、電流容量を確保するために必要な回路断面積を、銅板パターン２の厚みを大きくすることで確保できる。 - 特許庁

To realize the printing of an examination pattern even in the case of the examination pattern being colored other than with a black color when a printing medium is not used only for examination, or a margin area such as for a frameless printing is not secured.例文帳に追加

検査のためだけに印刷媒体を使用することなく、また縁なし印刷など余白領域が確保できない場合、検査パターンが黒色以外のカラーの場合においても、検査パターンの印刷を実現する。 - 特許庁

In pattern fluctuation in the display device of this game machine, display retaining the pattern of at least one display area near a stop position without performing scroll fluctuation is made possible as it is.例文帳に追加

遊技機の表示装置２０における図柄変動において、少なくとも一つの表示領域の図柄を、前回の停止図柄のままスクロール変動させずに、停止位置近傍で停滞させる維持表示を可能とした。 - 特許庁

In a planar heater of this invention, a resistance heater of metal foil is arranged on an insulator sheet in a desired pattern, and the density per unit area in the center of the pattern is differentiated from that in the circumferential portion.例文帳に追加

本発明の面状ヒーターにおいては、絶縁体シートに金属箔の抵抗発熱体を所望のパターンに配列し、このパターンの中心部の単位面積当りの密度を外周部より異ならしめる。 - 特許庁

For a game machine such as a PACHINKO machine, all or part of a pattern group which is displayed after displaced to or stopped at a displacement area 6a is arranged on almost the same plane to form a planar pattern group.例文帳に追加

パチンコ機等の遊技機について、変動領域６ｂで変動または停止して表示する図柄群について、当該図柄群の全部または一部をほぼ同一面上に配置して面状図柄群を形成する。 - 特許庁

Based upon the layout of the object, a weighting pattern for the detected image area is determined (S206) and according to the weighting pattern, an image after first correction processing (S204) and an image after second image correction processing (S207) are put together (S208).例文帳に追加

そして、被写体のレイアウトに基づき、検出した画像領域に対する重み付けパターンを決定し(S206)、重み付けパターンに従い、第一の補正処理(S204)後の画像と、第二の補正処理(S207)後の画像を合成する(S208)。 - 特許庁

When it is judged that the input position is included in any area, the line pattern is automatically switched to a vertical image (S215), and in the other case, the line pattern is switched to a horizontal image and displayed (S213).例文帳に追加

上記いずれかの領域に含まれる場合には、ライン模様を自動的に縦方向の画像に切替え（Ｓ２１５）、上記いずれの領域にも含まれない場合には横方向の画像に切替えて表示する（Ｓ２１３）。 - 特許庁

This device detects the recessed/projecting information made by the punched pattern on the surface of the coin and grasps the characteristic of the punched pattern made by the recessed/projecting information as a histogram representing the distribution of the recessed/projecting information in the entire area of the coin surface.例文帳に追加

コイン表面における打抜模様がなす凹凸情報を検出し、この凹凸情報がなす打抜模様の特徴を、コイン表面の全域における凹凸情報の分布を表すヒストグラムとして捉える。 - 特許庁

The pattern controller displays a preparation image for which the specification number "CROL2SK" of the specification A is written in an "yellow" background area 62a on the display screen of the pattern controller in activation processing after the power is supplied.例文帳に追加

図柄制御装置は、電源投入後の起動処理時に、「黄色」の背景領域６２ａにスペックＡのスペック番号「ＣＲＯＬ２ＳＫ」が表記された準備画像を図柄制御装置の表示画面に表示させる。 - 特許庁

The position of a dark line 120 which occurs at a boundary K1 of each area differed in surface roughness of the gradation blast pattern 100 is matched to the position of a boundary K2 with higher contrast on the pattern 110.例文帳に追加

そして、グラデーションブラストパターン１００の表面粗さが互いに異なる各領域の境界Ｋ１に発生する暗線１２０と、図柄１１０上のより高いコントラストの境界Ｋ２との位置を合わせる。 - 特許庁

To provide metal nanoparticles and a photosensitive composition containing the particles with which a large-area film or a pattern can be easily formed, and to provide a method for forming a conductive pattern using the above photosensitive composition.例文帳に追加

大面積のフィルムまたはパターンを容易に形成することが可能な金属ナノ粒子およびこれを含む感光性組成物、ならびにその感光性組成物を用いる導電性パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In producing a flexible multilayer circuit board where a required conductor pattern is formed in a plurality of layers through required insulation layers, the size or area of the conductor pattern is limited to a given value or below.例文帳に追加

所要の絶縁層を介して複数層に所要の導体パタ−ンを形成した可撓性多層回路基板を製作する場合、その導体パタ−ンの大きさ又は面積を所定値以下に制限するように構成する。 - 特許庁

After the unwanted plating base film deposited on the resist pattern is released together with the resist pattern, the area of the feeding film 12 exposed from the plating wiring 17 at least is selectively removed by wet etching.例文帳に追加

レジストパターン上に堆積した不要なメッキ下地膜をレジストパターンと共に剥離させた後、ウエットエッチングにより給電膜１２のうち少なくともメッキ配線１７から露出している領域を選択的に除去する。 - 特許庁

A image slippage position is retrieved by using an electronic watermark pattern having a slippage by each small area with respect to an embedded electronic watermark pattern to attain efficient retrieval of the image shift position and electronic watermark detection processing.例文帳に追加

埋め込んだ電子透かしパターンに対して小領域毎にずれを持たせた電子透かしパターンを用いて画像ずれ位置を探索することで、画像ずれ位置の効率的な探索、電子透かし検出処理が可能となる。 - 特許庁

To prevent removed toner once removed by a cleaning means from again developing residual charge appearing on an area corresponding to a pattern image, by securely cleaning the pattern image used for controlling a record image.例文帳に追加

記録画像を制御するためのパターン画像を確実にクリーニングし、該パターン画像に対応する部分に現れる残留電荷がクリーニング手段により一旦除去された除去トナーにより再び現像されないようにする。 - 特許庁

To provide a pattern formation method for easily manufacturing a micro phase separation structure film with aligned orientation directions by a large area, and forming a pattern of nanometer scale using the micro phase separation structure film.例文帳に追加

配向方向のそろったミクロ相分離構造膜を容易に、大面積で製造することができ、このミクロ相分離構造膜を用いてナノメートルスケールのパターンを形成することができるパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Especially, when a Hilbert curve is used, the circuit pattern can be easily constituted and when the gap of facing electrodes is made into Hilbert curve pattern, the total extension of the facing electrodes within a unit area is prolonged.例文帳に追加

特に、ヒルベルト曲線を使用すると、容易に回路パターンを構成することが可能であり、対向電極のギャップをヒルベルト曲線パターンにすると単位面積中の対向電極の総延長が長くなる。 - 特許庁

The memory cell includes a resistive memory element pattern between two electrodes, and one of the two electrodes shows a plug configuration which decreases contact area with the resistive memory element pattern.例文帳に追加

本発明の抵抗メモリセルは二つの電極の間にある抵抗メモリ要素パターンを含み、前記二つの電極のうちいずれか一つはプラグ形態を示して前記抵抗メモリ要素パターンとの接触面積が減少する。 - 特許庁

An image recognizing device for detecting a particular pattern included in an image binarizes image data, and decides the size of the particular pattern to be a detection target by referring to a particular area among pieces of binarized image data.例文帳に追加

画像に含まれる特定パターンを検出する画像認識装置において、画像データを２値化し、２値化された画像データのうち特定領域を参照して検出対象とする特定パターンのサイズを決定する。 - 特許庁

In order to form a machining pattern (electric conductive part 10a) corresponding to a shape of the dynamic pressure groove 11b on a surface of an electrode tool 1, a recessed part 10b having a depth D of 0.1 mm or higher is formed at an area other than the machining pattern.例文帳に追加

電極工具１表面に、動圧溝１１ｂ形状に対応した加工パターン（導電部１０ａ）を形成するため、加工パターン以外の領域に深さＤが０．１ｍｍ以上の凹部１０ｂを形成する。 - 特許庁

Then the 1st film of the base body 10 is irradiated with an electromagnetic wave in the desired pattern shape in an electromagnetic wave irradiating device to remove the 1st film and form a removal area 12 in the desired pattern shape.例文帳に追加

次いで、電磁波照射装置内において、基体１０の第１膜に対して所望パターン形状に電磁波を照射することにより、第１膜を除去して所望パターン形状の除去領域１２を形成する。 - 特許庁

A similar time point extracting means 9 searches and extracts a plurality of time points in the past having a pattern similar to a traffic flow data distribution in a road section within an area including the start and end points, by pattern matching.例文帳に追加

類似時点抽出手段９は、起終点を含む領域内の道路区間の交通流データ分布パターンと類似するパターンを所有する過去の複数時点をパターンマッチングにより探索し抽出する。 - 特許庁

In the semiconductor device having copper wiring 26b buried into an insulating film 16 and a dummy pattern 26c for CMP buried into the insulating film 16 near the copper wiring 26b, a unit pattern for composing the dummy pattern 26c is formed with a density of 10-25% per unit area.例文帳に追加

絶縁膜１６に埋め込まれた銅配線２６ｂと、銅配線２６ｂの近傍の絶縁膜１６に埋め込まれたＣＭＰ用のダミーパターン２６ｃとを有する半導体装置において、ダミーパターン２６ｃを構成する単位パターンを、単位面積あたり１０〜２５％の密度で形成する。 - 特許庁

By constituting this semiconductor device by a circuit pattern 23 provided with a plurality of mounting areas, circuit elements (memory chips 27) respectively fixed to the front and back surfaces of the circuit pattern 23 and insulating resin 30 for sealing the circuit pattern 23 and the memory chips 27, a mounting area is reduced.例文帳に追加

複数の実装領域を有する回路パターン２３と、当該回路パターン２３の表裏面にそれぞれ固着された回路素子（メモリチップ２７）と、前記回路パターン２３及び前記メモリチップ２７を封止する絶縁性樹脂３０とで半導体装置を構成することで、実装面積を低減化する。 - 特許庁

In the leftmost display areas 3a1, 3b1 3c1, in the second variation of a vertical scroll, as the a vertical scroll is made upward from below, on the basis of the 'girl' pattern in the leftmost lower display area 3c1, the second variation of the vertical scroll is made by using the 'girl' pattern (the same pattern) alone.例文帳に追加

この左端の表示領域３ａ１，３ｂ１，３ｃ１では、縦スクロールの第２変動において、下から上方向に縦スクロールするので、左端下段の表示領域３ｃ１の「女の子」の図柄を基準として、その「女の子」の図柄のみ（同一図柄）で、縦スクロールの第２変動を行う。 - 特許庁

In this process, a subordinate CPU 206 selects a specific presentation pattern corresponding to the order of operation of stop control buttons 84a-84c from an operation order corresponding pattern selection table, and executes a process of setting the selected specific presentation pattern in a prescribed area of a work RAM 210.例文帳に追加

この処理において、サブＣＰＵ２０６は、操作順序対応パターン選択テーブルから、停止操作ボタン８４ａ〜８４ｃの操作順序に対応する特定演出パターンを選択し、選択された特定演出パターンをワークＲＡＭ２１０の所定領域にセットする処理を行う。 - 特許庁

Based on lapse of variation time identified by a variation pattern command, variation display of a performance pattern is stopped in a performance display device 9, and control is performed to stop variation display of a fourth symbol in a fourth symbol display area based on a pattern decision designation command.例文帳に追加

また、変動パターンコマンドで特定される変動時間が経過したことにもとづいて、演出表示装置９において演出図柄の変動表示を停止させ、図柄確定指定コマンドにもとづいて、第４図柄表示領域において第４図柄の変動表示を停止させる制御を行う。 - 特許庁

The repair method for the paste pattern is implemented by the dot coating system which drips a paste droplet on the repair section, thereby obtaining the effect that the internal area of the paste pattern into which an accurate amount of liquid crystal is injected can be secured by keeping the line width of the paste pattern constant.例文帳に追加

本発明に係るペーストパターンのリペア方法は、リペア区間にペースト液滴を滴下する点形塗布方式により行われるので、ペーストパターンの線幅を一定に維持して正確な量の液晶が注入されるペーストパターンの内部面積を確保することができるという効果がある。 - 特許庁

An opening 22 for a land is in a perfect circle shape and is smaller than the area of a copper pattern 16 for the land, a part of the edge of the copper pattern 16 for the land and a part of the edge of the opening 22 for the land are formed at the same position, and a copper pattern 18 for wiring is formed next to them.例文帳に追加

ランド用開口部２２が真円形状であり、ランド用銅パターン１６の面積よりも小さく、ランド用銅パターン１６の縁部の一部分とランド用開口部２２の縁部の一部分とが同じ位置に形成され、その横に配線用銅パターン１８が形成されている。 - 特許庁

When a ready-to-win condition where under a condition where a scroll displaying is practiced in the central displaying area, the same pattern is displayed in the left and right displaying areas is realized, a rotational changing display which shows that a pattern changes to the other patterns while the pattern is rotated is started in the left and right displaying areas.例文帳に追加

中央の表示エリアでスクロール表示が実行されている状態下で左右の表示エリアに同じ図柄が表示されるリーチ状態が成立したとき、左右の表示エリアにおいて、図柄が回転しながら他の図柄に変化する様子を示す回転変動表示を開始する。 - 特許庁

After image data to be output by a solid-state image sensor is fetched (step S1) and reduced image data is generated (step S2), pattern matching processing between a face pattern and the reduced image data is performed to extract a face area candidate having correlation of a prescribed value or larger with the face pattern (step S3).例文帳に追加

固体撮像素子から出力される画像データを取り込み（ステップＳ１）、縮小画像データを生成（ステップＳ２）した後、顔パターンと縮小画像データとのパターンマッチング処理を実行し、顔パターンと所定値以上の相関を有する顔領域候補を抽出する（ステップＳ３）。 - 特許庁

The film pattern consists of an opening-restricting film pattern for restricting the opening for laser beams of two wavelengths in accordance with the difference in the transmissivities and a rim strength correcting film pattern for reducing a transmitted light quantity, in an area including an ellipse major axis with respect to a laser beam of three wavelengths constituting the elliptic shape in the cross-sectional shape.例文帳に追加

膜パターンは、２波長のレーザビームを透過率の違いで開口制限する開口制限用膜パターンと、断面形状が楕円形を成す３波長のレーザビームに対してその楕円長軸を含む領域での透過光量を低下させるリム強度補正用膜パターンと、から成る。 - 特許庁