| 意味 | 例文 |
Vertical Processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 447件
To provide a press die which can bend a metal plate stock to a hat-shaped cross section without an ironing process, and further imparts downward compressive force to the vertical wall portions of the metal plate stock just after bending is finished.例文帳に追加
しごき加工をすることなく金属板素材をハット形断面に曲げ加工でき、さらに、曲げ加工が完了した直後に金属板素材の縦壁部に下向きの圧縮力を付与するようにしたプレス型を提供する。 - 特許庁
To provide an existing building exterior-wall repair base in which members, a manufacturing process of which is simplified and manufacturing cost of which is reduced and which have excellent strength as a structural material, are used as each of a rail member and/or vertical furring strips.例文帳に追加
製造工程が簡略化されて製造コストが低くまた構造材としての強度に優れた部材を、レール部材及び/又は縦胴縁の各々として用いた既存建築物外壁改修下地の提供を課題とする。 - 特許庁
A method of producing a vertical sidewall on a silicon substrate (110) for an Si/SiGe photodetector comprises a process of preparing a silicon layer (110) in which a silicon surface (110) lies in parallel with an underlying silicon wafer surface.例文帳に追加
Si/SiGe光検知器用のシリコン(110)基板上の垂直側壁の製造方法には、下層のシリコンウェハー表面に対してシリコン(110)面が平行であるシリコン(110)層を準備する工程を含んでいる。 - 特許庁
To provide a vertical type insulated gate field effect transistor reduced in the number of manufacturing process compared with that of a conventional field effect transistor, without increasing the rate of an area occupied by the chip of a bidirectional Zener diode formed in the same chip by the shape of a diffusion layer as the protective diode of a power MOSFET.例文帳に追加
パワーMOSFETの保護用ダイオードとして同一チップに拡散層で形成される双方向ツェナーダイオードのチップに占める面積割合を増加させずに従来より製造工程数を低減させる。 - 特許庁
In the segment fixing process, the segment to be fixed is disposed between the respective support rings, and after elevating the segment to be fixed to a height corresponding to the specific fixing portion along the vertical direction, it is fixed to the support rings.例文帳に追加
ここで、前記セグメント固定工程では、固定対象のセグメントを、前記サポートリングそれぞれの間に配置し、鉛直方向に沿って特定固定箇所に対応する高さまで上昇させてから、当該サポートリングに固定している。 - 特許庁
Then, a film 50 made of a synthetic resin is formed over the entire surface of the ice-making substrate 14 in which the steam generating tube 22 is arranged in the coating process and each of a horizontal plate and a vertical plate in the partition board 16.例文帳に追加
次いでコーティング工程で蒸発管22が配設された製氷基板14と、仕切板16における横板および縦板との夫々について、その表面全体に亘って合成樹脂を材質とする被膜50を形成する。 - 特許庁
When the set value of a delayed line number register 113 and the value of the counter 109 are equal each other, the process is transferred to the printing of a following page by an interruption control circuit 117, and a synchronizing signal to be input next is sensed as a vertical synchronizing signal.例文帳に追加
割込制御回路117は遅延ライン数レジスタ113の設定値とカウンタ109の値が等しくなると次のページのプリント処理に移行し、次に入力される同期信号を垂直同期信号として検出する。 - 特許庁
To provide a method for fabricating a vertical channel transistor, which has reduced resistance of a word line and minimized nitride film loss in a process of etching an insulating film between active pillars, and to provide a semiconductor device having the transistor.例文帳に追加
ワードラインの抵抗が減少され、活性ピラー間の絶縁膜のエッチング過程における窒化膜損失が最小化される垂直チャネルトランジスタの形成方法及びそのトランジスタを備えた半導体素子を提供すること。 - 特許庁
To provide the side etching of a silicon oxide film base which is generated in a washing process after dry etching for forming a transfer elec trode, and to prevent the transfer failure of the signal charge of a vertical registor to improve the image pickup of an incidence image.例文帳に追加
転送電極を形成するドライエッチング後の洗浄工程で生じる下地の酸化シリコン膜のサイドエッチングを防止して、垂直レジスタの信号電荷の転送不良を防いで入射画像の撮像を良好にする。 - 特許庁
To provide a developer carrier capable of preventing the occurrence of uneven shading in groove pitch and uneven shading in sleeve pitch and preventing the occurrence of pitch-like horizontal black line and pitch-like vertical black line even during its use for ages, and to provide a developing device, a process cartridge, and an image forming apparatus with this developer carrier.例文帳に追加
溝ピッチ濃淡ムラやスリーブピッチ濃淡ムラの発生を抑制するとともに、前記のピッチ状横黒スジやピッチ状縦黒スジの発生を経年使用においても抑制できる現像剤担持体を提供する。 - 特許庁
To provide a high breakdown voltage vertical MOS transistor in which a trench region extended to a semiconductor substrate layer is filled with a gate layer without adopting a photo lithographic process and a constitution where a deep groove is formed by the side of a gate electrode layer.例文帳に追加
ホトリソグラフィ工程およびゲート電極層脇に深い溝を形成する構成を採用せずに、半導体基板層にまで延長されたトレンチ領域をゲート層で充填する高耐圧縦型MOSトランジスタを提供する。 - 特許庁
Because discharge interference between adjacent picture elements is suppressed and at the same time gas flow paths are formed in vertical, horizontal and oblique directions through spaces between the pedestals 4a by the grid-shaped partition wall 9, exhaust/filling process time can be shortened.例文帳に追加
このグリッド状隔壁9によって、隣接画素間の放電干渉が抑制され、同時に台座4aの間を通して縦、横、斜め方向にもガス流のパスが形成されるため、排気・封入工程時間を短縮できる。 - 特許庁
The above problem is solved by a method for refiring and graphitizing of a carbon body impregnated with pitch in one process within an encapsulated Kastner type vertical graphitization furnace, and a furnace shell composed of element modules for implementing this method.例文帳に追加
この課題は、カプセル化されたカストナ型縦黒鉛化炉内で一工程での、ピッチ含浸された炭素体の再焼成及び黒鉛化方法並びにこの方法を実施するための要素モジュールから構成された炉シェルにより解決される。 - 特許庁
A silicon premelting furnace chamber controlled under different standard provides a continuous supply source of molten silicon to the growth crucible while advantageously eliminating necessity of vertical movement and crucible pull-up system during crystal pull-up process.例文帳に追加
異なる基準で制御されたシリコンプレ溶融炉チャンバは、結晶引上処理中の垂直移動及び坩堝引上システムの必要性を有利に除去した、成長坩堝への溶融シリコンの連続的な供給源を提供する。 - 特許庁
Remote input/output devices 3, 6 having a horizontal plane and a vertical plane installed on the desk top and having continuous mutual input/output information process and save electronic documents, have a PCI picture plane 1 displayed partly thereupon, and perform PC input.例文帳に追加
机上に設置されたお互いの入出力情報が連続となる水平面及び垂直面の遠隔入出力装置3,6により電子書類の加工、保存をし、一部にPC画面1を表示させ、PC入力もする。 - 特許庁
In addition, concerning vertical direction of "Production Process", namely production sectors affected from "Ripple Effect", we can see that declines of sectors with the numbers of smaller that 18th of "Miscellaneous Manufacturing Products" are larger than sectors with the numbers of 19th of "Construction" or sectors of subsequent numbers.例文帳に追加
また、「生産工程」では縦方向、つまり「波及効果」を受ける生産部門の、18番の「その他の製造工業製品」よりも番号が上の部門の減少が、19 番の「建設」以下の番号の部門に比べて大きいことが分かる。 - 経済産業省
In a drying apparatus 38, immediately after a film 12 passes through a cleaning process or a rinsing process, the film 12 is conveyed in a vertical direction on an upward trend via a roll 88 immersed in a liquid tank 62, by which a liquid 64 on the surface of the liquid tank 62 is raised together with the film 12 and a liquid film 90 is formed on the film 12.例文帳に追加
本発明の乾燥装置38は、フィルム12が洗浄工程又はリンス工程を経た直後、液体槽62に浸漬しているロール88を介して、フィルム12を鉛直方向上向き搬送することで、液体槽62の表面の液体64がフィルム12とともに上昇し、液膜90がフィルム12に形成される。 - 特許庁
The quartz process tube built in into a vertical heating furnace for processing a semiconductor wafer comprises the body of a process tube, constituted of a cylindrical quartz glass tube provided with a top plate in the upper end part, and a quartz reinforcing member provided on the upper surface of the top plate via a plurality of quartz columns and has a central part bent upward.例文帳に追加
半導体ウェーハを処理するための縦型加熱炉に内蔵される石英プロセスチューブであって、上端部に天板を設けた円筒形石英ガラス管で構成されるプロセスチューブ本体と、該天板の上面に複数本の石英支柱を介して設けられかつ中央部を上方に湾曲させた石英補強部材とを有するようにした。 - 特許庁
The manufacturing method of the substrate 4 for the electrode having both a process A in which a conductive film 2 is installed on the non-flexible substrate 1 and a process B in which the porous membrane 3 containing the titanium oxide nanotube 5 on the conductive film 2 is installed so that the longitudinal direction of the titanium oxide nanotube 5 is approximately vertical to the film-formed face of the conductive film 2 titanium oxide nanotube 5.例文帳に追加
非可撓性基材1上に導電膜2を設ける工程Aと、導電膜2上に酸化チタンナノチューブ5を含有する多孔質膜3を、酸化チタンナノチューブ5の長手方向が導電膜2の被成膜面に対して略垂直となるように設ける工程Bとを有する電極用基材4の製造方法を提供する。 - 特許庁
The manufacturing method of the substrate 4 for the electrode having both a process A in which a conductive film 2 is installed on the flexible substrate 1 and a process B in which the porous membrane 3 containing the titanium oxide nanotube 5 on the conductive film 2 is installed so that the longitudinal direction of the titanium oxide nanotube 5 is approximately vertical to the film-formed face of the conductive film 2 titanium oxide nanotube 5.例文帳に追加
可撓性基材1上に導電膜2を設ける工程Aと、導電膜2上に酸化チタンナノチューブ5を含有する多孔質膜3を、酸化チタンナノチューブ5の長手方向が導電膜2の被成膜面に対して略垂直となるように設ける工程Bとを有する電極用基材4の製造方法を提供する。 - 特許庁
Typical configuration of the method for manufacturing the vertical magnetic recording disk includes a writing process which applies an alternating current with a frequency less than a predetermined value or a direct current while rotating the magnetic disk, and a signal quality testing process after writing.例文帳に追加
上記課題を解決するために、本発明に係る垂直磁気記録方式の磁気ディスクの製造方法の代表的な構成は、磁気ディスクを回転させつつ、所定の周波数以下の交流信号または直流信号を印加して書き込みを行う工程と、書き込みを行った後に信号品質テストを行う工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁
In a pre working process, a straight part 5 inclined at an inclined angle α is formed in the section transferring from a shoulder part 3 to a barrel part 4, in a next grooving process, while abutting a tool 8 on the straight part 5 and regulating, the vertical straight part 5 is formed, further a groove part 7 is formed at the lower end of the straight part.例文帳に追加
前加工工程で、肩部3から胴部4へ移行する部位に、傾斜角αで傾斜した直線部5を形成し、次の溝加工工程で、ツール8を直線部5に当接し規制しながら、垂直な直線部5を形成すると共に、この直線部5の下端に溝部7を形成することを特徴とするスロットショルダータイプのエアゾール缶の製造方法。 - 特許庁
An electronic component W having completed a preceding process of an electric test unit E is positioned on a vertical axis of a contact C constituting the electric test unit E and stopped there, and the electronic component W held by a suction nozzle V1 is positioned right above the contact C.例文帳に追加
電気テストユニットEの前工程を終えた電子部品Wが、電気テストユニットEを構成するコンタクトCの垂直軸上に位置し停止し、吸着ノズルV1に保持された電子部品WがコンタクトCの直上に位置する。 - 特許庁
A switch instruction issuing part 14 issues a frame buffer switch instruction for designating a frame buffer to be scanned out next, not immediately after the execution of an image conversion process by the image conversion part 35, but in synchronization with the vertical synchronous frequency of the display.例文帳に追加
切替命令発行部14は、次にスキャンアウトされるべきフレームバッファを指定するためのフレームバッファ切替命令を、画像変換部35による画像変換処理の実行直後ではなく、ディスプレイの垂直同期タイミングに合わせて発行する。 - 特許庁
To provide a stretch woven fabric for bottom that shows excellent process stability, when being woven, retain clear silhouette resisting to the occurrence of vertical wrinkles with reduced pressure sensation and tiredness, even after wearing it for a long time and has excellent wear resistance.例文帳に追加
製織時の工程安定性に優れ、衣料に加工した際は、長時間着用しても緯シワが入りにくく、きれいなシルエットを長く保ち、圧迫感が少なく、疲れにくく、耐摩耗性に優れたボトム用ストレッチ織物を提供すること。 - 特許庁
To provide a press forming device suitable for a countersink work by punching and burring in one process at a vertical wall surface such as a hat-shaped cross section whose inside space is narrow in the forward moving direction of a punch.例文帳に追加
ポンチの進行方向前方の縦壁部の内側の間隔が小さい、ハット形断面のような部材の縦壁面に穴抜きとバーリング加工とを同時に行わせて皿穴加工を施す場合に好適なプレス成形装置を提供すること。 - 特許庁
To provide a method for certainly protecting a mold in a molding machine, wherein a process for closing a mold in different states is present, like a slide machine or rotary machine of a two-material and two-color molding machine or vertical injection molding machine having a mold rotating function.例文帳に追加
金型回転機能を有する2材、2色成形機や竪型射出成形機のスライド機やロータリ機のように、金型が異なった状態で型閉する工程が存在する成形機において金型を確実に保護する方法を提供する。 - 特許庁
To control excessive etching process within a reactor during dry cleaning while controlling the accumulated film thickness in the down-stream side of a processing region for the purpose of forming a film within the reactor of a double structure including a vertical internal pipe and an external pipe.例文帳に追加
縦型の内管及び外管を含む二重構造の反応容器内を用いて成膜を行うにあたって、処理領域の下流側の累積膜厚を抑制してドライクリーニング時における反応容器内の過剰なエッチングを抑えること。 - 特許庁
To provide a technique of ideally molding the inside of a tube of a shakuhachi (five-holed vertical bamboo flute) by simplifying the difficult working process step of the traditional shakuhachi making technique and solving the problem of the tube making technique by combination of molding materials and working rods.例文帳に追加
伝統的な尺八製造技術の、難関な作業工程を簡略化する事、さらに成形材と加工棒の組み合わせによる製管技術の問題点を解決し、尺八の管内を理想的に成型する技術を提供する。 - 特許庁
When the editing is finished, a process for reading a left display position, an upper display position, a vertical width, a horizontal width and the data to be displayed in a seat by one seat from an editing area (not shown) in steps S500-508 is repeated by the number of seat (step S510).例文帳に追加
編集が終了すると、ステップS500〜508までにおいて、1座席分の左表示位置、上表示位置、縦幅、横幅、座席に表示するデータを編集域(図示せず)から読み込む処理を座席数分繰り返す(ステップS510)。 - 特許庁
Then, at least one of the heating condition by the laser beam and the cooling condition by the cooling medium is changed on the way of the process for developing the initial crack to form the vertical crack not reaching the rear of the substrate.例文帳に追加
そして、前記レーザビームによる加熱条件及び冷却媒体による冷却条件の少なくとも一方を、前記初期亀裂を進展させる工程の途中で変化させて、前記基板の裏面に達しない垂直亀裂を形成する。 - 特許庁
To provide a reciprocating pump with an automatic degassing mechanism which conducts stable degassing, does not exert impact of injection point pressure on the degassing mechanism, and can maintain volume efficiency by stabilizing the vertical movement of a check valve during a discharging process.例文帳に追加
吐出工程でのチェッキ弁の上下運動を安定させることで、ガス抜きを安定して行い、ガス抜き機構への注入点圧力の影響を与えず、また容積効率を維持することのできる自動ガス抜き付き往復動ポンプを提供する。 - 特許庁
As for (N+1)^2-M of dummy processor parts in the force matrix of extended vertical (N+1) and horizontal (N+1), the information of particles is distributed so that a substantial process existing in the (N+1) th line is in charge as an alternative processor (S220).例文帳に追加
拡張した縦(N+1)・横(N+1)の力マトリックスにおける(N+1)^2−M個のダミープロセッサ部分について、N+1番目の行に存在する、実体のあるプロセッサが代替プロセッサとして担当するように粒子の情報を振り分ける(S220)。 - 特許庁
To provide a drain pipe regeneration method which can complete a whole process within a tolerable time without interfering with the life of a resident while the resident lives as usual, and which can line a drain pipe irrespective of a vertical main pipe, a horizontal main pipe, and a branch pipe continuously by a single apparatus and a single method.例文帳に追加
人が住んでいる状態のまま、生活に支障を生じない許容時間帯の中で全工程を完了できること、排水管を縦主管、横主管、枝管の区別なく単一の装置と工法で連続してライニングできること。 - 特許庁
Out of a pair of chambers of the batch type vacuum processing apparatus 11 provided with the pair of chambers vertically constituted so as to be connected in the vertical direction, the upper chamber is used as a heat chamber 13 and the lower chamber is used as a process chamber 12.例文帳に追加
上下方向に連通可能となるように縦型に構成される一対のチャンバを備えるバッチ式真空処理装置11の一対のチャンバのうち、上側チャンバを加熱チャンバ13として用い、下側チャンバをプロセスチャンバ12として用いる。 - 特許庁
To provide a sash component (a vertical frame, a horizontal frame, an outer peripheral frame, a rail member, and the like), generally having a complex cross-section shape from an aluminum core material and a synthetic resin layer coating the core material, with a simple manufacturing process (that is, high productivity).例文帳に追加
一般的に断面形状が複雑であるサッシ構成部材(縦枠、横枠、外周フレーム、レール部材等)について、これらを、アルミ芯材とこれを被覆する合成樹脂層から簡単な製造工程で(すなわち、高い生産性で)提供する。 - 特許庁
A process of fixing the upper end of the second pipe material 10 to the lower end of the first pipe material 10 in the state in the substantially straight line is appropriately repeated to join two or more pipe materials 10 in series and thus arrange the vertical pipe 2.例文帳に追加
こうしてほぼ一直線上になった状態において第1の管材10の下端に第2の管材10の上端を固定する工程を適宜繰り返すことにより,2以上の管材10を直列に接合して竪管2を施工する。 - 特許庁
The displacement amount of the lower block 11A, namely, the vertical deformation amount of the ram 112, is detected through the output of the position detector 100 by the crimping failure detector B and the detected displacement amount is defined as the specific value in a crimping process.例文帳に追加
位置検出装置100の出力により圧着不良検出装置Bで下ブロック11Aの上下方向の変位量(すなわちラム11の変形量)を検出し、検出された変位量を圧着過程での特性値とする。 - 特許庁
The shift frame is moved in other directions, then, the detection difficulty is detected in a vertical direction and a plurality of directions (S8), the shift frame is moved in the direction where the detection difficulty is larger than the threshold, then, a signal is fetched from the image sensor (S9), and the process advances to the step S4.例文帳に追加
S8で検出難易度をシフト枠を別の方向に動かすことにより、上下方向や複数方向で検出し、検出難易度が閾値よりも大きい方向に移動し、撮像素子から信号を取り込み(S9)、ステップS4に進む。 - 特許庁
To provide a semiconductor memory device that improves the contact resistance characteristics of a gate by increasing the area of an active region contacting the gate and increases the channel width in a process of forming a vertical transistor, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
垂直型トランジスタを形成する過程において、ゲートと接触する活性領域の面積を増加させてゲートの接触抵抗特性を改善し、チャネル幅を増加させる半導体メモリ素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
When the forcibly cooling process is performed, a rectification member 180 by which a flow of the cooling gas going to the substrate 10 for the magnetic recording disk is made vertical to the substrate 10 for the magnetic recording disk is disposed opposite to the substrate 10 for the magnetic recording disk.例文帳に追加
強制冷却工程を行う際、磁気記録ディスク用基板10に向かう冷却ガスの流れを磁気記録ディスク用基板10に垂直な方向とする整流部材180を磁気記録ディスク用基板10に対向配置させておく。 - 特許庁
The liquid crystal display device reduces afterimage and spot by including the alignment film containing both the vertical photo-alignment material and major alignment material and formed by only irradiation with ultraviolet rays without a rubbing process.例文帳に追加
垂直光配向物質と主配向物質とを両方含み、ラビング工程なしに紫外線の照射のみによって形成される配向膜を含むことにより、残像及び染みの発生を減らした液晶表示装置を提供することが可能となる。 - 特許庁
In this method in which a magnet 6 is moved, and magnetron sputtering is executed, in the process of the movement of the magnet, it is moved to the direction vertical to the surface in accordance with the increase and decrease of the voltage of magnetron discharge, and the voltage of the discharge is retained to the approximately certain one.例文帳に追加
マグネット6を移動させてマグネトロンスパッタリングする方法に於いて、該マグネットをその移動中にマグネトロン放電の電圧の増減に応じて該表面と垂直方向へ移動させてその放電の電圧をほぼ一定に維持する。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a vertical magnetic recording medium which enables suitable orientation control of Ru foundation layer without setting a seed layer conventionally considered as indispensable, shortens a manufacturing process and reduces the cost by eliminating the seed layer.例文帳に追加
従来は必須とされてきたシード層を設けなくてもRu下地層の好適な配向制御を可能とし、シード層を省けることで製造工程の短縮、コスト低減を実現できる垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。 - 特許庁
To laminate a plurality of two-dimensional similar integrated circuits including a plurality of similar partial circuits having connections in the vertical direction, without complicating the three-dimensional laminating process of the two-dimensional integrated circuit.例文帳に追加
本発明は、2次元集積回路の3次元積層工程を複雑にすることなく、垂直方向の接続を有する同一の部分回路を複数含む同一の2次元集積回路を複数積層することを可能とすることを課題とする。 - 特許庁
To restore to a normal-pressure atmosphere in a short time while whirling of particles is suppressed when, for example, a nitrogen gas is guided into a reactive vessel for restoration to a normal pressure after, for example, film forming process is performed in a vacuum atmosphere using a vertical thermal processing device.例文帳に追加
例えば縦型熱処理装置を用いて真空雰囲気下で成膜処理を行った後、例えば窒素ガスを反応容器内に導入して常圧に戻すにあたって、パ−ティクルの巻き上がりを抑えながら短時間で常圧雰囲気に戻すこと。 - 特許庁
The guidance apparatus has a polarization sharing antenna for simultaneously receiving a horizontal polarization and a vertical polarization, and a polarization detecting process, identifies the reflection signal from the target and the ECM signal by comparing power levels of received horizontal polarization and vertical polarization signals when the target signal is detected, and stably tracks the target.例文帳に追加
水平偏波及び垂直偏波を同時受信する偏波共用アンテナと偏波検出処理を有し、水平偏波及び垂直偏波の受信信号の電力レベルを比較することにより、誘導装置が目標信号を検出する際に目標からの反射信号とECM信号を識別して、安定して目標を追尾することを可能にするものである。 - 特許庁
The picture signal process controller 13 analyzes the detection results to determine the position and the range of pictureless parts, and then calculates an optimum vertical enlargement ratio for displaying only picture signals of a size agreeing with the screen size of an output monitor 17.例文帳に追加
映像信号処理制御部13では、前記検出結果を分析し無画部の位置と範囲を決定した後、映像信号部分のみを出力モニタ17の画面サイズと一致するように表示させるための最適な垂直拡大率を算出する。 - 特許庁
To perform drying by preventing laundry from being easily damaged and suppressing wrinkles owing to the entangling of laundry in a washing and drying machine provided with a process for supplying a warm air into an internal tub having a rotary center axis in the nearly vertical direction so as to dry clothes.例文帳に追加
回転中心軸を略鉛直方向に有する内槽内に温風を送風して衣類を乾燥させる行程を有する洗濯乾燥機において、洗濯物が傷みにくく、洗濯物がからむことによるしわの発生を抑えて乾燥できるようにする。 - 特許庁
The distribution of a vertical coercive force in an optional point in the medium surface of the recording layer is made to be in a range of an average value ±10% by introducing process gases containing oxygen from gas introducing port arranged concentrically to a substrate center when the recording layer is formed.例文帳に追加
また、記録層の形成時、基板中心に対し同心円状に並ぶ気体導入口より酸素を含むプロセスガスを導入することにより、記録層の媒体面内の任意の点における垂直保磁力の分布を、平均値の±10%以下とする。 - 特許庁
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