「defect factor」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

In a semiconductor evaluating method 100, a defect condition detecting process 110, a defect position specifying process 120 and a defect factor analyzing process 130 are successively executed.例文帳に追加

半導体評価方法１００では，不良状況検出工程１１０と欠陥位置特定工程１２０と不良原因解析工程１３０とが順次実施される。 - 特許庁

To narrow down a defect factor caused by the defect of an electronic device for forming the circuit patterns of multiple layers by analyzing the defect to occur in each of layers of the electronic device.例文帳に追加

多層の回路パターンを形成する電子デバイスの各層で発生する欠陥の解析を行い、電子デバイスの欠陥による不良原因の絞り込みを可能とする。 - 特許庁

To detect a breakage produced on an outer periphery of a chip which will be a factor of a prospective defect.例文帳に追加

将来的な不良の要因となる、チップ外周部に発生した破損を検出する。 - 特許庁

To provide a system for analyzing defect of semiconductor which can guarantee the effectiveness of a possible solution for defect-derived degradation of yield and make easier defect occurring factor estimation based on the defects formed on a wafer.例文帳に追加

欠陥起因歩留まり解析方法の有効性を保証し、ウェーハ上の欠陥に基づく不良発生要因推定を容易化する半導体欠陥解析システムを提供する。 - 特許庁

To acquire electrical characteristics of a defect without being limited to detecting a substrate defect at the stage of a substrate inspection process and to determine a causative substance being a factor of the detected defect.例文帳に追加

基板検査工程の段階で、基板欠陥を検出するに限らず、その欠陥の電気的特性を取得し、検出した欠陥の要因となる原因物質を特定する。 - 特許庁

Based on representative values of product manufacturing data and inspection data collected for each product, a calculation device 16 analyzes the defect factor of a produced defect.例文帳に追加

演算装置１６は、製品の生産データと検査データを製品毎に集計した代表値を元に不良発生の不良要因の分析を行う。 - 特許庁

Using these parameters, a waveform record file is generated to keep a deviation crest factor emulation defect selectively positioned in the defect serial data pattern.例文帳に追加

これらパラメータを用いて波形記録ファイルを発生し、偏差クレスト・ファクタ・エミュレーション欠陥が欠陥シリアル・データ・パターン内に選択的に位置決めされる。 - 特許庁

To restrain the occurrence of an image defect by improving the posture of recording material which becomes the factor of the image defect in the case of secondary transfer from an intermediate transfer body.例文帳に追加

中間転写体からの二次転写に際し、画像不良の要因となる記録材の姿勢を改善することにより画像不良の発生を抑制する。 - 特許庁

To preliminarily prevent the occurrence of a large amount of failures by specifying a stamper which is the factor of defect occurrence in an early stage by extracting a defect originated in the stamper from the defect of a pattern generated on the disk.例文帳に追加

ディスク上に発生したパターンの欠陥からスタンパに由来する欠陥を抽出して、欠陥発生の原因となっているスタンパを早期に特定して大量の不良の発生を未然に防止する。 - 特許庁

To provide a process management apparatus that can reduce the number of questions necessary to identify a defect factor, in any situation, when estimating the defect factor from a user's answers.例文帳に追加

ユーザからの回答を利用して不良要因を推定する場合に、どのような状況においても、不良要因を特定する際に必要とされる質問数を低く抑えることを可能とする工程管理装置を提供する。 - 特許庁

When a differential is greater than a threshold value Th2, deterioration of a photo-diode 601 is discriminated as a defect factor.例文帳に追加

差分が閾値Ｔｈ２より大きいときは、フォトダイオード６０１の劣化が欠陥要因であると判別される。 - 特許庁

A causality network is stored in an estimation knowledge recording part 23 to represent diagnostic paths of factor estimation from defect results to defect factors corresponding to the defect results, as a tree structure of knowledge with conditional branches.例文帳に追加

不良結果から該不良結果に対応する各不良要因に至る要因推定の診断パスを、条件分岐による木構造の知識として示す因果ネットワークが推定知識記録部２３に記憶されている。 - 特許庁

A CPU 60 generates a user interface on a display unit 56 and sets a parameter for a serial data pattern and parameters for a data ministick jitter defect given to the serial data pattern, a random jitter defect, and a random jitter defect and at least one deviation crest factor emulation defect.例文帳に追加

ＣＰＵ６０は、表示器５６にユーザ・インタフェースを発生して、シリアル・データ・パターン用のパラメータと、シリアル・データ・パターンに与えるデターミニスティック・ジッタ欠陥、ランダム・ジッタ欠陥及び少なくとも１つの偏差クレスト・ファクタ・エミュレーション欠陥用のパラメータとを設定する。 - 特許庁

A displaced crest factor emulation defect is selectively positioned at the defective serial data pattern analog output signal.例文帳に追加

欠陥のあるシリアル・データ・パターン・アナログ出力信号に変位クレスト・ファクタ・エミュレーション欠陥を選択的に位置決めする。 - 特許庁

When the differential is smaller than the threshold value Th2, something other than the deterioration of the photo-diode 601 is discriminated as the defect factor.例文帳に追加

差分が閾値Ｔｈ２より小さいときは、フォトダイオード６０１の劣化以外が欠陥要因であると判別される。 - 特許庁

To provide an inspection method for a recording medium by which a defect actually causing a recording and reproducing defect or a tracking defect, etc., in the recording medium such as an optical disk or a magneto- optical disk is surely detected and the detailed factor causing the defect can be grasped.例文帳に追加

光ディスクや光磁気ディスクのような記録媒体における記録再生不良やトラッキング不良などを実際に生じさせる欠陥を確実に検出することができ、また欠陥の詳細な発生要因を把握することができる記録媒体の検査方法を提供する。 - 特許庁

To provide a test having a function for finding out an instruction which is a factor, and an object function when an expected value and an executed result value are not matched and avoiding the occurrence of a defect caused by the same factor.例文帳に追加

期待値と実行結果値とが不一致の場合、要因となった命令及び対象機能を見つけ出し、同一要因による不良の発生を回避する機能を有する試験を提供する。 - 特許庁

To present options that satisfy a user, as measured to cope with a reception defect if the reception defect is incurred by a factor that the user is not responsible for, in a pay broadcast service.例文帳に追加

有料放送サービスにおいて、ユーザの責に帰することができない原因により受信不良が生じたとき、該受信不良への対応策としてユーザが満足するに足る選択肢を提示する。 - 特許庁

A read condition based on the factor of a read error is set at the time of read retry, and a read condition suitable for the decoding of a readout signal containing an envelope defect is set at the time of the detection of the envelope defect.例文帳に追加

リードリトライ時にリードエラー要因に応じた再生条件を設定し、包絡線異常検出時に包絡線異常を有する再生信号を復号するのに適した再生条件を設定する。 - 特許庁

To provide a cast slab maintaining method which prevents any defect from being caused in a product, by elucidating a new factor affecting the defect of the product after the hot rolling and the cold rolling, and a cast slab.例文帳に追加

熱間圧延及び冷間圧延後の製品の欠陥に影響を及ぼす新たな因子を解明し、製品に欠陥が発生するのを防止できる鋳片の手入れ方法及び鋳片を提供する。 - 特許庁

To provide a defect analysis support system which can readily specify factors of defect and factors of a characteristic variation by carrying out coordination of defect sorting information classified for each factor of defect and characteristic data information to material batch information, manufacturing condition batch information and manufacturing process batch information, and summarizing and analyzing them.例文帳に追加

不良の要因毎に分類した不良区分情報や特性データ情報を、材料バッジ情報、製造条件バッジ情報、製造工程バッジ情報と対応付け及び集計、解析し、不良の要因特定、及び特性変動の要因特定を容易に可能とする不良解析支援システムを提供すること。 - 特許庁

To provide a defect review system, a defect review method and a method for manufacturing electronic equipment with the high degree of freedom for executing the review of the factor of any defect among detected defects at a high speed and with high efficiency, and for selecting a review purpose according to the requested conditions of a user.例文帳に追加

検出欠陥中の欠陥原因を高速且つ高効率でレビュー可能で、ユーザの希望条件に応じてレビュー目的を選択可能な自由度の高い欠陥レビューシステム、欠陥レビュー方法、及び電子装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a device and method for detecting defects of an object to be measured for specifying a defect generating factor by detecting a detailed position of an insulation defect generating part and determining the defect state inside an apparatus such as a miniaturized power module increasing in density.例文帳に追加

小型・高密度化するパワーモジュールのような機器内部の絶縁欠陥発生箇所の詳細な位置検出および欠陥状態の判別をすることで欠陥発生要因の特定を行うことのできる被測定物の欠陥検出装置と方法を提供する。 - 特許庁

To measure the depth of the internal crystal defect of a semiconductor wafer and a relative dimension factor and to compute the number of crystal defects.例文帳に追加

半導体ウェーハの内部結晶欠陥の深さと相対的寸法因子の測定及び結晶欠陥の個数の算出を可能とする。 - 特許庁

To easily and efficiently search the factor of a defect which has occurred due to an operation verification test in the case of developing a computer program.例文帳に追加

コンピュータプログラムの開発の際に、動作検証試験により発生した不具合の原因の究明を容易に且つ効率的に行えるようにする。 - 特許庁

To perform a precise defect inspection by eliminating the influence of a fluctuation in scale factor of a mapping projection optical system and also in scan sensitivity of a multi-beam optical system.例文帳に追加

写像投影光学系の拡大率の変動やマルチビーム光学系の走査感度の変動の影響を解消して精度のよい欠陥検査を行うこと。 - 特許庁

To quickly optimize a process by inspecting defects on a wafer in the process for manufacturing a semiconductor, speedily acquiring the composition information of the defect section, and specifying the generation process and factor of the defect according to the obtained composition information.例文帳に追加

半導体製造工程中のウェハ上の欠陥を検査し、上記欠陥部の組成情報を高速に取得し、得られた組成情報から上記欠陥の発生プロセスや要因の特定を行い、プロセスの最適化を短期間に行う。 - 特許庁

To provide an optical card defect inspecting device, which can efficiently inspect defect of optical cards having recording surfaces varying in reflection factor without any trouble to adjust a reference voltage like before.例文帳に追加

本発明は、従来例の如き基準電圧を調整するような煩雑さを伴うことなく、種々の反射率の記録面が存在する光カードの欠陥を効率良く検査できる光光カードの欠陥栓査装置を提供する。 - 特許庁

To provide a defective process estimating method for estimating whether a manufacturing process using only one manufacturing apparatus is a defect generating factor to generate defective products.例文帳に追加

１つの製造装置のみを用いる製造工程が不良品を発生させる不良発生要因であるかどうかを推定できる不良工程推定方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition as a chemically amplified resist that is excellent in depth of focus, LWR (Line Width Roughness), and MEEF (Mask Error Enhancement Factor), and excellent also in preventing the occurrence of a defect in development.例文帳に追加

焦点深度、ＬＷＲ、ＭＥＥＦに優れるとともに、現像欠陥にも優れた化学増幅型レジストである感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A diagnostic path narrowing part 65 sets aside the diagnostic paths and defect factors downstream of conditions causing a predetermined threshold or lower, from the scope of factor estimation.例文帳に追加

そして、診断パス絞り込み部６５が、所定の閾値以下となった条件より下流側の診断パスおよび不良要因を要因推定対象外として設定する。 - 特許庁

In this semiconductor device, point defects 24 are included in a region 32 where defect factor impurity included in a silicon substrate 12 is distributed with low concentration.例文帳に追加

半導体デバイスにおいて、シリコン基板１２に含まれる欠陥要因不純物が低い濃度で分布した領域３２に、点欠陥２４を含むことを特徴とする。 - 特許庁

To provide an imaging apparatus and a control method thereof and a program by which image quality can be improved by accurately discriminating any one of a plurality of defect factors that causes a defective pixel, and switching a correction method in accordance with the defect factor.例文帳に追加

欠陥画素が複数ある欠陥要因のうちのいずれによるものかを正確に判別し、欠陥要因に応じて補正方法を切り替えることにより画質を向上させることができる撮像装置及びその制御方法、並びにプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a printed wiring board, wherein an outer shape machining accuracy can be inspected without adding a special device and process and furthermore the factor of defect in outer shape machining can be specified and the degree of the defect can be investigated, and to provide a printed wiring board.例文帳に追加

特別な装置や工程を追加することなく外形加工精度を検査することができ、更に、外形加工の不具合要因を特定し、その不具合の程度を調査することができるプリント配線板の製造方法及びプリント配線板を提供する。 - 特許庁

To provide a defect factor countermeasure device which selectively outputs countermeasures on the basis of a person in charge of process improvement considering a balance between permanent countermeasures and tentative countermeasures.例文帳に追加

恒久的な対策と暫定的な対策とのバランスを考慮した、工程改善員の立場に立った対策を選択可能に出力する、不良要因対策装置を提供すること。 - 特許庁

A gas utilization factor which is a rate of gas utilized in actual electrochemical reaction of the supplied gas is calculated (step S230), an the presence of the defect is determined (step S240).例文帳に追加

そして、供給ガスのうちで実際に電気化学反応に利用されたガスの割合であるガス利用率を算出して（ステップＳ２３０）、不具合の有無を判定する（ステップＳ２４０）。 - 特許庁

Thus, the crystal defect as a factor of disturbance of a measured value, so diffusion length measurement precision by the SPV method is greatly improved to achieve more accurate Fe contamination evaluation.例文帳に追加

このように、測定値の外乱要因となる結晶欠陥を除去するため、ＳＰＶ法による拡散長測定精度が格段に向上して、より正確なＦｅ汚染評価が可能となる。 - 特許庁

To provide a temperature variable heater that includes a small connector, is not bulky and excellent in usability even when applied to a surface heater which uses a surface heat generation body as a heat generation source, and is free of a failure factor due to an insulation defect, a component defect, etc., even if the surface heater gets wet with urine of a small animal.例文帳に追加

発熱源に面状発熱体を用いた面ヒーターに実施しても、小さなコネクターで済み、嵩張らずに使い勝手も良好であり、小動物の排尿などで面ヒーターが濡れても、絶縁不良や部品不良などを招いて故障要因となるおそれがないようにする。 - 特許庁

Inspection systems, circuits and methods are provided to enhance defect detection by addressing anode saturation as a limiting factor of the measurement detection range of a photomultiplier tube (PMT) detector.例文帳に追加

光電子増倍管（ＰＭＴ）検出器の測定検出範囲の制限要因として陽極飽和に対処することによって欠陥検出を強化するための検査システム、回路、方法が提供される。 - 特許庁

To provide a display capable of determining clearly a factor of generating a line defect, while restraining a cost required for inspection from increasing, as to the display such as an liquid crystal panel.例文帳に追加

本発明は、液晶パネルなどの表示装置に関し、検査に要するコストの上昇を抑えつつ、線欠陥発生の要因を明確に判別可能な表示装置を得ることを目的とする。 - 特許庁

Since abnormal yield can be found in the early stage and the factor of defect can be separated between a preceding step and a following step by conducting leak current test or function test of a semiconductor device, time loss incident to investigation of the cause of defect can be reduced and productivity can be enhanced.例文帳に追加

この構成によれば、インライン検査において、半導体装置のリーク電流検査または、機能検査をすることで、歩留異常を早期に発見でき、前工程と後工程との不良要因を分離することができ、これらにより不良原因究明に伴う時間ロスを低減できるため生産性を向上することができる。 - 特許庁

When entering is not permitted, as an operation history inside the system, collation NG factor analysis information ('out of validity of card', 'no coincidence of password number' and 'read defect of personal ID') is written on the IC card 1.例文帳に追加

入室の許可を与えない場合、システム内での動作履歴として、照合ＮＧ原因分析情報（「カード有効期限切れ」、「暗証番号の不一致」、「個人ＩＤの読み取り不良」など）をＩＣカード１へ書き込む。 - 特許庁

Each pattern while having a reflection factor of ≤20% to exposure light of 248 (nm) in wavelength, has a ≥10% difference to defect inspection light of 488 (nm) in wavelength.例文帳に追加

各パターンは、波長２４８［ｎｍ］の露光光に対しては、共に２０％以下の反射率を示す一方、波長４８８［ｎｍ］の欠陥検査光に対しては、１０％以上の相違を示すように構成されている。 - 特許庁

Inspection systems, circuits and methods are also provided to enhance defect detection by addressing saturation levels of the amplifier and analog-digital circuitry as a limiting factor of the measurement detection range of an inspection system.例文帳に追加

検査システムの測定検出範囲の制限要因として増幅器及びアナログ・デジタル回路の飽和レベルに対処することによって欠陥検出を強化するための検査システム、回路及び方法も提供される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method and a manufacturing apparatus for a resin composition solution which can effectively remove particulates contained in the resin composition solution, which could become a defect factor, and can suppress the generation of defects.例文帳に追加

樹脂組成物溶液中に含まれるディフェクト要因となり得る微粒子を効果的に除去できディフェクトの発生を抑制することができる樹脂組成物溶液の製造方法、及び製造装置を提供する。 - 特許庁