「element pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(55ページ目) - Weblio英語例文検索

On a flexible substrate 30 having a wiring pattern 21, a block 40 positioning optical fibers 2a and 2b at positioning grooves (first positioning parts) 41a and 41b and having a projection 42 (second positioning part) for positioning an optical component 50 for aligning the optical fibers 2a and 2b and a light emitting element, and the optical component 50 having an optical semiconductor element are mounted.例文帳に追加

配線パターン２１を有するフレキシブル基板２０には、光ファイバ２ａ，２ｂを位置決め溝（第１の位置決め部）４１ａ，４１ｂに位置決めし、光ファイバ２ａ，２ｂと発光素子との調芯のために光部品５０を位置決めする突起４２（第２の位置決め部）を有するブロック４０、及び光半導体素子を有する光部品５０が実装されている。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element capable of forming an organic layer having the excellent linearity of the end of a pattern on a substrate without causing a transfer defect that a part of an ink layer to be transferred and removed is left on a blanket, in a manufacturing method of an organic EL element using letterpress reversing offset printing.例文帳に追加

凸版反転オフセット印刷法を用いた有機ＥＬ素子の製造方法において、基板上のパターンの端部の直線性に優れ、また、転写除去されるべきインク層の部分がブランケット上に残留してしまうといった転写欠陥のない有機層を形成することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

In a manufacturing method of a semiconductor device wherein a circuit board 4 is stuck on a function surface of a semiconductor element 3, bonding pads 2 of the semiconductor element and a circuit pattern 7a of the circuit board are connected through electrical conductor, a bridge is formed for connection through the electrical conductor by etching a conductor layer, crossing a window part which is formed on the circuit board 4.例文帳に追加

半導体素子３の機能面に回路基板４が貼着され、半導体素子のボンディングパッド２と回路基板の回路パターン７ａが電気導体により接続された半導体装置の製造方法において、電気導体による接続のために回路基板に設けた窓部を横切って導体層のエッチングによりブリッジを形成する。 - 特許庁

Further, a transmission liquid crystal display element 70 for projecting a prescribed shading pattern onto the inspected surface 80 is disposed on an optical path between a light source 20 and a branching optical element 3 in order to prevent unnecessary light from being reflected from a partial area of the inspected surface 80 and entering an imaging system 4 when the measurement light is applied to the inspected surface 80.例文帳に追加

また、被検面８０に測定光が照射されたときに被検面８０の一部領域から反射されて撮像系４に入射する不要光の発生を防止するために、所定の遮光パターンを被検面８０に投影する透過型液晶表示素子７０を、光源部２０と分岐光学素子３との間の光路上に配置する。 - 特許庁

After mounting a piezoelectric element formed, by connecting a main electrode 102 and a lead electrode 103 (its rear side is an electrode 104) electrically through a pattern onto slits 105, 106 of a support, a conductive adhesive is applied to parts 107, 108, they are dried and cured to connect electrically the lead electrodes 103, 104 with the slits 105, 106 and to support and fix the piezoelectric element.例文帳に追加

圧電板１０１に主電極１０２と引出し電極１０３（裏面は１０４）がパターンで電気的に接続された圧電素子を保持器のスリット部１０５，１０６に実装後、導電性接着剤を１０７，１０８に塗布し乾燥・硬化させ引出し電極１０３，１０４と板スリット１０５，１０６との電気的接続と圧電素子の保持固定を行う。 - 特許庁

In the optical semiconductor device 1, where a photodiode 4 and a control semiconductor element 5 are mounted on a substrate 2 on which a wiring pattern 3 is formed and then sealed with a translucent resin package 6, the resin package 6 is provided with a part 10 of low moisture-absorbing resin between the photodiode 4 and the control semiconductor element 5.例文帳に追加

配線パターン３が形成された基板２にフォトダイオード４と制御用半導体素子５とが搭載され、透過性を有する樹脂パッケージ６により封止された光半導体装置１において、フォトダイオード４と制御用半導体素子５との間の樹脂パッケージ６に、低吸湿性の樹脂からなる低吸湿部１０を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

The micro-structures (56) are designed to homogenize light which emits the monolithic optical element (50) via the macro-optical characteristic (54) by diffusion and to direct the light so that a predetermined light distribution pattern, wherein the intensity smoothly and continuously varies, is formed by substantially the entire optical output of the monolithic optical element (50).例文帳に追加

微小構造（５６）は、マクロ光学的特徴（５４）を介してモノリシック光学要素（５０）を出射する光を拡散によって均質化するとともに、モノリシック光学要素（５０）の光出力のほぼ全体によって、その強度が滑らかに連続的に変化する所定の光分布パターンが形成されるように方向付けるよう適合されている。 - 特許庁

The immersion lithography apparatus includes: a working stage arranged to retain a workpiece; a projection system for projecting an image pattern; a fluid-supplying unit for providing an immersion liquid into a gap defined between an optical element of the projection system and the workpiece during an immersion lithography process; and a cleaning device to clean the optical element during a cleaning process.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。 - 特許庁

The inspection method of an element mounted to a substrate includes a stage of generating a shape template corresponding to the element, a stage of irradiating the substrate with the lattice pattern light of an illumination part to acquire height information at each pixel, a stage of generating a contrast map corresponding to the height information at each pixel, and a stage of comparing the contrast map with the shape template.例文帳に追加

基板に装着された素子の検査方法において、素子に対応する形状テンプレートを生成する段階と、照明部の格子パターン光を基板に照射してピクセル別高さ情報を獲得する段階と、ピクセル別高さ情報に対応してコントラストマップを生成する段階と、コントラストマップと形状テンプレートとを比較する段階と、を含む。 - 特許庁

The method further includes a step of making a desired phase change for the part of the radiation beam when applying the pattern feature to the substrate and illuminating the phase modulation element using the part of the radiation beam when the phase modulation element is configured into a desired configuration by making the desired phase change.例文帳に追加

この方法には、さらに、基板にパターンフィーチャを加える際に放射ビームの上記部分に対して所望の位相変化を実施する工程であって、所望の位相変化の実施が、位相変調エレメントが所望の構成で構成されると、放射ビームの上記部分を使用して位相変調エレメントを照明する工程を含む工程が含まれている。 - 特許庁

After a semiconductor element 114 is inserted into a substrate 122 by a semiconductor parts press-in device 173, a contact area increasing part 115 is formed in a bump 13 of the semiconductor element by contact area increasing devices 150 and 154, and a circuit pattern 116 is formed in the circuit connection part provided with the contact area increasing part so as to complete mounting.例文帳に追加

半導体部品押圧装置１７３にて半導体素子１１４を基材１２２に挿入後、半導体素子のバンプ１１３に対して接触面積増加装置１５０、１５４にて接触面積増加部１１５を形成し、該接触面積増加部を有する上記回路接続部に対して回路パターン１１６を形成することで実装を完成させる。 - 特許庁

The immersion lithography apparatus incorporates a working stage arranged to retain a workpiece, a projection system for projecting a pattern image, a fluid supply unit for supplying an immersion liquid into a gap defined between an optical element of the projection system and the workpiece, and a cleaning device for cleaning the optical element during a cleaning process.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。 - 特許庁

The light emitting module 10 comprises a metal substrate 12, a conductive pattern 14 formed on the upper surface of the metal substrate 12, a recess 18 formed by partially making the upper surface of the metal substrate 12 concave, a light emitting element 20 housed in the recess 18, and a sealing resin 32 which covers the light emitting element 20.例文帳に追加

本発明の発光モジュール１０は、金属基板１２と、金属基板１２の上面に形成された導電パターン１４と、金属基板１２の上面を部分的に凹状にすることで設けられた凹部１８と、凹部１８に収納された発光素子２０と、発光素子２０を被覆する封止樹脂３２とから成る構成となっている。 - 特許庁

A part of an electrode for injecting a current into the light emitting element is constituted by jointing an electrode pad 6 provided on the first substrate 21 by leading out to a part of the light emitting element other than the functional part 8 with an electrode pad 13 on a wiring pattern formed on a second substrate 22 different from the first substrate 21 such that both pads are conducted electrically.例文帳に追加

発光素子へ電流を注入するための電極の一部は、発光素子の機能部８以外の部分に引き出して第１の基板２１に設けられた電極パッド６と、第１の基板２１とは異なる第２の基板２２に形成された配線パターン上の電極パッド１３とを電気的導通が得られる様に接合して成る。 - 特許庁

Using a light receiving element having an overflow drain mechanism and based on the brightness information in the read area, exposure conditions are set such that the exposure quantity at a brightest spot by a reading light passed through or reflected on the brightest spot of an effective pattern to be represented by gray scale be equal to or close to the quantized maximum exposure quantity of the light receiving element.例文帳に追加

オーバーフロードレイン機構を有した受光素子を使用し、かつ読取領域の輝度情報に基づいて、階調表現すべき有効絵柄の最明点を透過又は反射した読取光による最明点露光量が受光素子の量子化最大露光量又はその近傍の露光量となるように露光条件を設定する。 - 特許庁

When solid-state imaging devices 10, 10A, or 10B having pixel portions separated by an element area region 13 is manufactured, a part to become an active region is patterned and ion injection using the active pattern as a mask 19 is performed on a semiconductor substrate 11 to form a part or the whole of the ion injection region as the element separation region 13.例文帳に追加

素子分離領域１３により画素部間が分離された固体撮像装置１０、１０Ａまたは１０Ｂを製造する際に、能動領域となる部分をパターニングして、このアクティブパターンをマスク１９として半導体基板１１上にイオン注入を行うことにより、イオン注入領域の一部または全域を素子分離領域１３とする。 - 特許庁

To provide a method for forming a fine metallic pattern of a semiconductor element, based on a damascene technique which can ensure broad width of a metallic layer for improving the operational speed of the element and can easily control steps by etching only the metal layer without etching the metallic layer, anti-diffusion layer and bonding layer at the same time.例文帳に追加

金属膜の幅を広く確保可能として素子の動作速度を向上させることができ、従来のように金属膜，拡散防止膜及び接着膜を同時に蝕刻せずに、金属膜のみを蝕刻することにより工程を容易に制御可能である象嵌技法を利用した半導体素子の微細金属パターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This wireless communication device is equipped with: a circuit board including an antenna element; an estimating means for estimating a current distribution in at least a partial area on the circuit board, which is induced by power feeding to the antenna element; and a specifying means for specifying a radiation pattern associated with the current distribution estimated by the estimating means as a radiation directivity of the circuit board.例文帳に追加

無線通信装置が、アンテナ素子を含む回路基板と、このアンテナ素子への給電により誘起される回路基板上少なくとも一部領域の電流分布を推定する推定手段と、この推定手段により推定された電流分布に応じた放射パターンを前記回路基板の放射指向性として特定する特定手段と、を備える。 - 特許庁

Mounting of the film sheet 2 onto a feeding connection connector 10 and ground connection connectors 11, 12 arranged to a ceramic pattern 9 makes a feeding terminal 4 conductive to the feeding connection connector 10 to feed power to an element 3 and makes ground terminals 5, 6 conductive to the ground connection connectors 11, 12 to connect the element 3 to ground.例文帳に追加

フィルムシート２は、セラミックパターン９に配置されている給電用接続コネクタ１０及び接地用接続コネクタ１１，１２に装着されることで、給電用端子４が給電用接続コネクタ１０と導通されてエレメント３が給電されると共に接地用端子５，６が接地用接続コネクタ１１，１２と導通されてエレメント３が接地される。 - 特許庁

To prevent the yield from lowering due to disconnection of wiring and a short circuit between upper/lower metallic wiring in manufacture of a TFT matrix panel having a photoelectric conversion element and a TFT and to manufacture the TFT panel with the excellent yield without reducing a numerical aperture of a photoelectric conversion element part even when the panel is enlarged, and a pixel pattern is miniaturized.例文帳に追加

光電変換素子とＴＦＴとを有するＴＦＴマトリックスパネルの製造における配線の断線や上下の金属配線間のショートによる歩留まりの低下を防止し、パネルが大判化し画素パターンが微細化しても、光電変換素子部の開口率を減少させることなしに良好な歩留まりでＴＦＴパネルを製造する。 - 特許庁

When the liq. crystal display element L passes under a counter electrode 5, voltage is applied to electrodes 4a... of a powder control member 4 selected on the basis of information relating to the array pattern fed back from the read-out member 2, and spacers supplied from a powder electrifier 3 fly toward the liq. crystal display element L and are adsorbed there.例文帳に追加

次いで、液晶表示素子Ｌが対向電極５を通過する際に、読み取り部材２からフィードバックされた上記配列パターンに関する情報に基づいて選択した粉体制御部材４の電極４ａ…に電圧を印加し、粉体帯電器３から供給されたスペーサーを飛翔させて液晶表示素子Ｌ上に吸着させる。 - 特許庁

The reflective liquid crystal display element is provided with the upper side transparent substrate 13 and the lower side substrate 19 on which transparent electrode patterns 14 with no thin film active element are formed and a liquid crystal layer 15 arranged in a gap formed by placing the transparent electrode pattern sides of the upper transparent substrate and the lower substrate opposite to each other.例文帳に追加

薄膜能動素子を有さない透明電極パターン１４が形成された上側透明基板１３と、薄膜能動素子を有さない透明電極パターン１４が形成された下側基板１９と、上側透明基板及び下側基板の透明電極パターン側を対向させて形成した間隙に設けた液晶層１５とを備える。 - 特許庁

In the method of manufacturing the optical waveguide substrate including an optical element and an optical waveguide 5 optically connected to the optical element, a composite substrate having a substrate 4 which can be etched and an etching stop member 2 provided on one face of the substrate is prepared, and a mask having a desired pattern is formed on the substrate which can be etched.例文帳に追加

光学素子と、該光学素子に光学的に接続された光導波路３と、を備える光導波路基板を作製する方法において、エッチング可能な基板４と、該基板の一方の面に設けられたエッチングストップ部材２と、を有する複合基板を準備し、上記エッチング可能な基板上に、所望のパターンを有するマスクを形成する。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern of digital data on a work by using a two-dimensional display element while scanning the work relatively in one direction, the method being favorable in both of resolution and throughput when a plurality of pixels on the two-dimensional display element forms dots on one straight line parallel to the scanning direction of the work.例文帳に追加

デジタルデータを２次元表示素子を用いて、ワークを相対的に一方向にスキャンしながら、ワーク上にパターンを形成する方法であって、２次元表示素子上の複数の画素がワーク上のスキャン方向に平行な同一直線上にドットを形成する場合に、分解能、スループットともに良好なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

This method for manufacturing electronic parts for a high frequency a process for performing pattern formation of a plated resist 2 on the surface of a ceramic element assemble or a ceramic element assembly 1 for a dielectric resonator, a process for forming an electroless plating film 5, a process for forming an electroplating film 6 and a process for peeling the plated resist 2.例文帳に追加

本発明に係る高周波用電子部品の製造方法は、セラミック素体または誘電体共振器用セラミック素体１の表面上にめっきレジスト２をパターン形成する工程と、無電解めっき膜５を形成する工程と、電解めっき膜６を形成する工程と、めっきレジスト２を剥離する工程とを有していることを特徴とする。 - 特許庁

In the exposing unit comprising an array of a plurality of light emitting elements 101a-101n arranged in a specified pattern, the number of emission times of each light emitting element under exposure (print) is measured as shown at 102a-102n and the quantity of light of each light emitting element is regulated based on the number of emission times thus measured.例文帳に追加

複数の発光素子１０１ａないし１０１ｎを所定のパターンに配置した発光素子アレイを用いた露光装置において、露光（印字）中の各発光素子の発光回数を１０２ａないし１０２ｎに示すように計測し、計測した各発光素子の発光回数に基づいて、各発光素子の光量を調整する。 - 特許庁

To provide a curable resin composition for column spacer having excellent developability, solubility and an aptitude for EBR, forming a column spacer with clear pattern without leaving any developing residue in using for production of the column spacer to be used for manufacture of a liquid crystal display element, and to provide a column spacer composed of the curable resin composition and to provide a liquid display element.例文帳に追加

優れた現像性、溶解性、及び、ＥＢＲ適性を有し、液晶表示素子の製造に使用するカラムスペーサ用途に用いた場合、パターン形成時に現像残滓を生じることがなく、鮮明なパターンのカラムスペーサを形成することができる硬化性樹脂組成物、該硬化性樹脂組成物を用いてなるカラムスペーサ及び液晶表示素子を提供する。 - 特許庁

The electro-optical device includes a display electrode (9a) disposed in an image display region (10a) on a TFT array substrate (10), and the pattern portion including at least one of the wiring and circuit element connected to the display electrode directly or through a pixel switching element (30) and provided in the frame region, which defines the periphery of the image display region.例文帳に追加

電気光学装置は、ＴＦＴアレイ基板（１０）上に、画像表示領域（１０ａ）に配置された表示用電極（９ａ）と、これに画素スイッチング用素子（３０）を介して又は直接接続されると共に画像表示領域の周囲を規定する額縁領域内に設けられた配線及び回路素子の少なくとも一方からなるパターン部とを備える。 - 特許庁

In adjacent light-emitting units 160, each color element 92 of the light-emitting element 90, and a frequency 170 of a vibration added for formation of the ruggedness on the interface of a hole transport layer 54 are arranged in a given alignment pattern so that frequencies 170 of the vibration given at least one or more color elements of the same color are to be different.例文帳に追加

隣接する発光単位１６０において、少なくとも１つ以上の同一色の色要素９２に与える振動の周波数１７０を異なるようにすべく、発光層９０の各色要素９２と、正孔輸送層５４の界面に凸凹を形成すべく付加する振動の周波数１７０とを所定の配置パターンに従い配置する。 - 特許庁

To provide an inspection method of a semiconductor element requiring to form a line for short-circuiting respective conductive patterns on a wafer in order to release charges generated in each conductive pattern during manufacturing process of a semiconductor element in which the inspection of electrical characteristics can be carried out appropriately before the wafer is diced.例文帳に追加

半導体素子の製造過程において各導電パターンに生じる電荷を逃すなどのために、各導電パターンを短絡させる短絡線をウエハー上に形成する必要がある半導体素子において、ウエハーの切断前に、電気的な特性の検査を適切に行うことができる半導体素子の検査方法を提供すること。 - 特許庁

The metal film 8e has excellent visibility and when the diffractive element 8 is formed rectangular, a large identification mark 9a is formed without sacrificing the effective surface area of the diffractive element 8 by forming the identification mark 9a using a nearly triangular region outside of a far field pattern LL of an optical beam.例文帳に追加

金属膜８ｅは、視認性優れており、しかも四角に形成された回折素子８の場合、光ビームのファーフィールドパターンＬＬの外側の略三角形の領域を利用して識別マーク９ａを形成することにより、回折素子８の有効面積を犠牲にすることなく、より大きな識別マーク９ａを形成することができる。 - 特許庁

An FFT part 102 of a control part 61 of the shape measurement device measuring the shape of an object by projecting a pattern on the object to pick up the image thereof by an image pickup element 60 detects a frequency component of incident light incident on the image pickup element 60 on the basis of a light receiving signal obtained from a photosensor 59 via an A/D conversion part 101.例文帳に追加

物体にパタンを投影して、その像を撮像素子６０により撮像することによって物体の形状を測定する形状測定装置の制御部６１のFFT部１０２は、A/D変換部１０１を介してフォトセンサ５９から取得した受光信号に基づいて、撮像素子６０に入射する入射光の周波数成分を検出する。 - 特許庁

The drive signal generation section repeatedly generates a drive signal for the flushing operation having in a prescribed term a plurality of waveform sections each being in a voltage change pattern for driving the element to eject the liquid by making a prescribed term to be a repeating unit.例文帳に追加

駆動信号生成部は、液体を吐出させるための動作を素子に行わせる電圧変化パターンの波形部を或る期間に複数有するフラッシング動作用の駆動信号を、或る期間を繰り返し単位として繰り返し生成する。 - 特許庁

When a substrate crack is generated at the element substrate 10 and the conductive pattern 83 for diagnosing the substrate crack is disconnected, the signal outputted from the diagnostic part 58 to the bump 55 is not inputted from the bump 56 to the diagnostic part 58.例文帳に追加

これに対して、素子基板１０に基板割れが発生し、基板割れ診断用導電パターン８３が切断している場合には、診断部５８からバンプ５５に出力された信号は、バンプ５６から診断部５８に入力されないことになる。 - 特許庁

The cylindrical heating element 11 has a heater pattern 22, formed on a surface 36 of an insulating substrate of cylindrical shape, and one of lead wire 13 and the other lead wire 14, extending from one end 23 of a cylinder to the axial direction of the cylinder.例文帳に追加

筒形発熱体１１は、筒をなす絶縁基板２５の面３６上にヒータパターン２２が形成され、ヒータパターンに接続している一方のリード線１３及び他方のリード線１４が筒の一端２３から筒の軸線方向に延出されている。 - 特許庁

Also the liquid crystal element is constructed by disposing a surface layer with a critical surface tension pattern of regions with mutually different critical surface tension values on an electrode-equipped substrate surface of at least one out the pair of electrode-equipped substrates in contact with the dimmer layer.例文帳に追加

また、一対の電極付基板と調光層とが接する少なくとも一方の電極付基板面に臨界表面張力が異なる領域の臨界表面張力パターンを有する表面層を設けた構成の液晶素子とする。 - 特許庁

To provide an organic electroluminescent element, and its manufacturing method, which can easily form any luminescent pattern, and can aim at improvement of production efficiency and reduction of manufacturing cost by easily forming layers with uniform thickness.例文帳に追加

任意の発光パターンを容易に形成可能であり、しかも、層厚が均一な層を容易に形成して生産効率の向上や、製造コストの低減が可能な有機エレクトロルミネッセンス素子及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

The fluid heat regulation module determines an actuator command for aberration correction of the optical element in the liquid immersion lithography system, based on the one or a plurality of change or changes in the amount of the fluid of a liquid immersion liquid, an exposure dose, and a reticule pattern image.例文帳に追加

流体加熱調整モジュールは、液浸液の流量、露光ドーズ、およびレチクルパターンイメージのうちの１つまたは複数の変化に基づいて、液浸リソグラフィシステム内の光学素子に収差調整を行うためのアクチュエータコマンドを決定する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a microstructure in which the manufacturing time is shortened and the manufacturing cost is reduced when forming a desired pattern by using liquid materials, and to provide an optical element, an integrated circuit, and electronic equipment .例文帳に追加

液状材料を用いて所望パターンを形成するときに、製造時間を短縮することができるとともに、製造コストを削減することができる微細構造物の製造方法、光学素子、集積回路及び電子機器を提供する。 - 特許庁

This causes the discharge current generated in the piezoelectric element owing to the pyroelectric effect in a process of the flow soldering using the solder jet flow to flow on a discharge channel formed by the piezoelectric, the land, the reference potential pattern, and the solder jet flow.例文帳に追加

これにより、半田噴流を用いる半田付け工程において焦電効果によって圧電素子に発生する放電電流を、圧電素子と、ランドと、基準電位パターンと、半田噴流とによって形成される放電経路に通電させる。 - 特許庁

To provide a colored composition simultaneously achieving storage stability and low temperature calcination, a colored pattern excellent in development resistance, heat resistance, solvent resistance, voltage holding ratio, or the like, a color filter, a color display element having a color filter and a method for manufacturing a color filter.例文帳に追加

保存安定性と低温焼成を両立する着色組成物、及び現像耐性、耐熱性、耐溶媒性、電圧保持率等に優れる着色パターン、カラーフィルタ、カラーフィルタを備えるカラー表示素子及びカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

The film type heater 33 includes a heat resistant insulating layer, a heating element formed on one side surface of the heat resistant insulating layer in pattern shape and generating heat by application of voltage, and a heat transfer layer formed in a surface state on the opposite side surface of the heat resistant insulating layer.例文帳に追加

フィルム状ヒータ３３は、耐熱絶縁層と、耐熱絶縁層の一側の面にパターン状に形成されて電圧の印加により発熱する発熱体と、耐熱絶縁層の反対側の面に面状に形成される伝熱層と、を含む。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an FPD which excels in work efficiency and by which constituent elements of the FPD excellent in pattern profile (e.g., a dielectric body, barrier ribs, an electrode, a resistive element, a phosphor, a color filter and a black matrix) can be favorably formed.例文帳に追加

作業性に優れ、かつパターン形状に優れたＦＰＤの構成要素（例えば、誘電体、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス）を好適に形成することができるＦＰＤの製造方法を提供すること - 特許庁

A unit cell element 100' having an air hole of a diamond structure is formed by a photo-fabrication method, in which the liquid surface of a photo-curable resin such as a photosensitive epoxy resin is repeatedly irradiated with light of a sectional pattern to be formed for each layer.例文帳に追加

感光性エポキシ樹脂などの光硬化性樹脂の液面に対して、形成すべき断面パターンの光照射を層毎に繰り返す光造形法によって、ダイヤモンド構造の空気孔を有するユニットセル素体１００′を造形する。 - 特許庁

To provide a light emitting device employing a photonic crystal having periodic pattern of an element covered with a reflective layer having an omni-directivity photonic band gap in the band structure of a multilayer photonic crystal so that an electromagnetic line in a predetermined frequency band is generated.例文帳に追加

所定の周波数帯域の電磁線を生ずるよう多層フォトニック結晶のバンド構造に全指向性フォトニックバンドギャップをもつ反射層で覆われた素子の周期パターンを有するフォトニック結晶を用いた発光装置を提供する。 - 特許庁