「element pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(58ページ目) - Weblio英語例文検索

In a circuit pattern 1a formed on an insulating substrate 1 on which a semiconductor element to be used under high voltage is mounted, the surface of an end 1c having a steeply rising form is covered with conductor material 5 in such as manner that the cross-section becomes a roundish form.例文帳に追加

高電圧下で使用される半導体素子が搭載された絶縁基板１上に形成された回路パターン１ａにおいて切り立った形状を有する端部１ｃの表面を、その断面が丸みを帯びた形状となるように導電材料５で覆う。 - 特許庁

The method for forming a pattern includes steps of sticking the light-shielding layer (B) side of the element to a substrate, exposing a predetermined portion through the photosensitive resin composition layer (A), and removing (A) and (B) in an exposed portion by development, and removing (A) in an unexposed portion.例文帳に追加

（Ｂ）遮光層側を基材に貼りつける工程、（Ａ）の感光性樹脂組成物層上から所定部を露光する工程、現像によって露光部の（Ａ）及び（Ｂ）を除去する工程、並びに未露光部の（Ａ）を除去する工程とを含むパターン形成方法。 - 特許庁

An FEM model having an original shape is created about a block constituting a tread pattern (S12), a plurality of FEM models each having a base shape, each having the same number of nodes and the same element combination information, and having different node coordinate values are created based on the original shape (S16).例文帳に追加

トレッドパターンを構成するブロックについて、オリジナル形状のＦＥＭモデルを作成し（Ｓ１２）、該オリジナル形状に基づき、節点数および要素結合情報が同一でかつ節点座標値の異なる複数のベース形状のＦＥＭモデルを作成する（Ｓ１６）。 - 特許庁

In an antenna device which is provided with an antenna element (21) which has a receiving plane to receive a satellite wave or a terrestrial wave, a circuit board (23), and electronic components mounted on a rear plane of the circuit board; a ground pattern is formed on an upper plane of the circuit board (23).例文帳に追加

衛星波又は地上波を受信する受信面を持つアンテナ素子（２１）と、回路基板（２３）と、この回路基板の裏面上に搭載された電子部品とを備えるアンテナ装置において、回路基板（２３）の上面にグランドパターンが形成されている。 - 特許庁

To make a light distribution pattern for a high beam formed by an irradiation light have superior distant visibility in addition to a constitution of beam switching of a low beam and a high beam in a projector type vehicular headlight unit in which a light-emitting element is a light source.例文帳に追加

発光素子を光源とするプロジェクタ型の車両用前照灯ユニットにおいて、ロービームとハイビームとのビーム切換えを行い得る構成とした上で、その照射光により形成されるハイビーム用配光パターンを遠方視認性に優れたものとする。 - 特許庁

The flat surface dimensional value of each dummy pattern 12 formed in the circuit forming region A including the stress effect relaxation region B is a dimensional value present frequently in each of the longitudinal direction and the lateral direction of the element formed in the circuit forming region A.例文帳に追加

応力効果緩和領域Ｂを含め回路形成領域Ａに形成される各ダミーパターン１２の平面寸法値は、回路形成領域Ａに形成される素子のうち縦方向及び横方向ごとに最も高い頻度で現われる寸法値である。 - 特許庁

To provide a unit which images a plane subject with a translucent pattern while giving a sufficient quantity of light to a translucent part and without causing a CCD element to have the problem of blooming, etc., due to light quantity saturation at a completely transparent part.例文帳に追加

半透明パターンを持つ平面状被写体の撮像装置であって、半透明部に十分な光量を与えて、かつ完全透明部でＣＣＤ素子が光量飽和によるブルーミング等の問題を発生させることなしに撮像する装置を提供する。 - 特許庁

The flexible wiring board 1A includes a first wiring layer 10a including signal wiring 12, a second wiring layer 10b including a ground conductor pattern 13, and a terminal 14 electrically connected to the signal wiring 12 to make electric connection with an external conductive element.例文帳に追加

フレキシブル配線基板１Ａは、信号配線１２を含む第一配線層１０ａと、接地導体パターン１３を含む第二配線層１０ｂと、信号配線１２と電気的に接続され、外部の導電要素との電気的接続を図るための端子１４とを備える。 - 特許庁

A polisilicon film 7 and an insulating film 8 are patterned on a semiconductor substrate 1 including an element isolation region 2, and then lower electrodes 11a and 11b of the polisilicon film 7 and a dummy pattern 12 between the lower electrodes 11a and 11b are formed.例文帳に追加

素子分離領域２を含む半導体基板１上に多結晶シリコン膜７と絶縁膜８を形成してパターニングし、多結晶シリコン膜７かならる下部電極１１ａ，１１ｂおよび下部電極１１ａ，１１ｂ間のダミーパターン１２を形成する。 - 特許庁

The diffraction optical element has at least two different 1st and 2nd laminated optical materials 3, 4 which are substantially transparent in a wavelength band used and a relief pattern 5 is formed on the boundary face of at least the 1st optical material 3.例文帳に追加

回折光学素子は、使用する波長帯域で実質的に透明であり、異なった少なくとも２つの第１及び第２の光学材料３，４が積層されると共に、少なくとも第１の光学材料３の境界面にレリーフパターン５が形成されている。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition excellent in terms of resolution, adhesion and adhesive strength while it has a adequately reduced moisture permeability and moisture absorbing property and to provide a photosensitive element using the same and a resist pattern formation method and a method for adhesion of a material to be adhered.例文帳に追加

透湿率、吸湿率を充分に低く抑えつつ、解像性、密着性、接着強度に優れた感光性接着剤組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び被接着部材の接着方法を提供すること。 - 特許庁

In addition, on the side surface of the semiconductor element portion 8, a voltage drop by the internal resistance of the electrode pattern 11 is utilized, to make the electric potential of each electric-potential control portion 9 reduce in a stepwise fashion, in a direction from the n^+-type cathode region 6 toward the p^+-type anode region 7.例文帳に追加

また、半導体素子部８の側面においても、電極パターン１１の内部抵抗による電圧降下を利用して、ｎ^+型カソード領域６からｐ^+型アノード領域７に向かう方向において、各電位制御部９の電位を段階的に低下させる。 - 特許庁

The method for manufacturing the cylindrical heating element 1F includes: a first step of obtaining a heating sheet by forming the metallic pattern which can be energized to generate heat on a flexible resin sheet surface 171f; and a second step of arranging the heating sheet obtained in the first step on the outer peripheral surface of the cylindrical body 11a.例文帳に追加

この製造方法は、可撓性樹脂シート面１７１ｆに通電発熱可能の金属パターンを形成して発熱シートを得る第１工程と、第１工程で得た発熱シートを筒状体１１ａの外周面に配置する第２工程とを含む。 - 特許庁

Then, a voltage drop by an internal resistance of the electrode pattern 11 is utilized to gradually reduce the electric potential of the surface of the semiconductor element portion 8, in a direction from the n^+-type cathode region 6 of the high-potential side toward the p^+-type anode region 7 of the low-potential side.例文帳に追加

そして、電極パターン１１の内部抵抗による電圧降下を利用して、高電位側のｎ^+型カソード領域６から低電位側のｐ^+型アノード領域７に向かう方向において、半導体素子部８の表面の電位が徐々に低下させる。 - 特許庁

This alternation detection system 100 is configured to refer to coordinate information on the basis of position coordinates on a dot pattern included in entry information, and to extract entry start time and entry end time to each field being the configuring element of an item from the entry information.例文帳に追加

改竄検出システム１００は、記入情報に含まれるドットパターン上の位置座標に基づいて座標情報を参照することにより、記入情報から、項目の構成要素である各フィールドへの記入開始時刻と記入終了時刻を抽出する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing PDP by which components of PDP excellent in pattern profile (such as a dielectric layer, barrier ribs, electrodes, a resistive element, a phosphor, color filters and a black matrix) can be suitably formed with excellent workability, and to provide a transfer film.例文帳に追加

作業性に優れ、かつパターン形状に優れたＰＤＰの構成要素（例えば、誘電体層、隔壁、電極、抵抗体、蛍光体、カラーフィルター、ブラックマトリックス）を好適に形成することができるＰＤＰの製造方法および転写フィルムを提供すること。 - 特許庁

A resist pattern 22 is formed on a metal substrate 21, and then a conductor 23 which becomes an electrode is grown by plating at a resist opening part to form an electrode, such that the ratio of the electrode thickness to an inter-electrode distance is ≥1, thereby obtaining the electrode of the Peltier element.例文帳に追加

金属基板２１上にレジストパターン２２を作成し、その後レジスト開口部に電極となる導体２３をメッキ法により成長させ、電極厚の電極間距離に対する比が１以上である電極を作成し、ペルチェ素子の電極とする。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a new organic electroluminescent element capable of resolving a variety of problems occurring when etching with an etching fluid by using a photoresist, while maintaining the merit of the accuracy of a pattern in a conventional photolithography method.例文帳に追加

従来のフォトリソグラフィー法におけるパターンの精度が優れている点を維持しつつも、フォトレジストを使用してエッチング液によりエッチングする際に生じ得る種々の懸念を極力解消し得る、新たな有機ＥＬ素子の製造方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a field emission display element using a diamond type material that can form displaying pattern by enhancing the efficiency of electron emission from particular spots by forming no projection on the surface of substrate of silicon or the like, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加

シリコン等の基板の表面に突起を形成することなしに、特定の個所からの電子放出効率を高めることによって、表示パターンを形成することができるダイヤモンド系材料を用いた電界放出表示素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for forming a metallic wiring of a semiconductor element using a titanium aluminum nitride anti-reflection film for preventing reflection effectively and forming a minute metallic wiring pattern more accurately in an exposing step with short-wavelength light like DUV.例文帳に追加

ＤＵＶのような短い波長の光で実施する露光工程で效果的に反射を防止して微細金属配線パターンをより正確に形成できる、チタニウムアルミニウムナイトライド反射防止膜を利用した半導体素子の金属配線の形成方法を提供。 - 特許庁

This method for manufacturing the antenna and antenna array having the desired beam width is applied to a polarization antenna for both single and double polarization and the radiation pattern of the radiation elements of the antenna is controlled and varied by arranging an adequately designed parasitic element nearby them.例文帳に追加

望ましいビーム幅でアンテナとアンテナ・アレイを製造する方法が、単一と二重の両方の偏波アンテナに適用されて、アンテナの放射素子の放射パターンを、それらの近くに適切に設計したパラスティック素子を配置することにより制御し変更する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the semiconductor device, a resist mask having an opening pattern whose aspect ratio is one or more is formed on one substrate of a first substrate constituting a semiconductor element, and a second substrate having a circuit wiring by using a dry film resist.例文帳に追加

半導体装置の製造方法において、半導体素子を構成する第１基板または回路配線を有する第２基板のいずれか一方の基板上に、ドライフィルムレジストを用いて、アスペクト比が１以上の開口パターンを有するレジストマスクを形成する。 - 特許庁

A bearing member 4 to support respective one ends of guide shafts 6, 7 is attached to the chassis 1 with the inclination of the member 4 adjustable, and the bearing member 4 is provided with a part 14 to arrange the light receiving and emitting element 12 to detect the encode pattern on the back face of the turntable 2.例文帳に追加

ガイドシャフト６，７の一端を支持する軸受け部材４をシャーシ１に対して傾き調整可能に取り付ける共に，ターンテーブル２裏面のエンコードパターンを検出する受発光素子１２を設置する設置部１４を前記軸受け部材４に設ける。 - 特許庁

If a target block has a restricted surface for which nodes and connecting lines have been set, the nodes on the restricted surface and the nodes of each angle are connected on the block while a connection pattern for the restricted surface is maintained, so as to simply mesh the target block with a tetrahedral element.例文帳に追加

処理対象ブロックが節点及び結線設定済の拘束面を有する場合、拘束面の結線パターンを維持して当該ブロックにおける拘束面の節点及び各角の節点を結び処理対象ブロックを簡素に四面体要素でメッシュ化する。 - 特許庁

To provide a system and a method used to compensate for locally enlarged errors and/or focus errors that are generated due to the unevenness of the surface of a pattern generator, a substrate, and/or an optical element, at least in the projection system of a lithography system.例文帳に追加

リソグラフィシステムのパターンジェネレータ、基板および／または少なくとも投影系内の光学素子の表面の不均一性によって生じる局部的な拡大エラーおよび／または焦点エラーを補償するのに使用されるシステムおよび方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vessel capable of providing content information, from a pattern appearing responding to temperature change with an element of surprise and effect varied in charms of transformation, by reading machine readable content information coded in accordance with color or shading.例文帳に追加

意外性、変化の妙味に富んだ効果と共に、温度変化に応じて現れる絵柄から、コンテンツ情報を色彩又は濃淡に対応してコード化した機械で判読可能なコードを読み取ることにより、コンテンツ情報を提供可能とする容器を提供する。 - 特許庁

Thus, every time when raising an apparatus of the whole signal azimuth detecting device 10, the antenna pattern data on the antennal element 12 connected at present with the signal processor 16 can be automatically acquired on the basis of the serial number set in the hardware switch group 18.例文帳に追加

このため、信号方位探知装置１０全体の機器立上げ時ごとに、信号処理器１６が現在接続されているアンテナ素子１２のアンテナパターンデータを自動的にハードウェアスイッチ群１８に設定されたシリアル番号に基づいて取得することができる。 - 特許庁

The incident angle monitor element is composed of a member having an opening for passing the charged particles and a member having a face to irradiate charged particles forming a pattern structure for measuring a size, and has these arranged through a gap.例文帳に追加

荷電粒子を通過させるための開口を有する部材と、寸法を計測するためにパターン構造を形成した荷電粒子を照射させる面を持つ部材とから構成され、それらを空隙を介して配設したことを特徴とする荷電粒子の入射角モニタ素子。 - 特許庁

To simplify the shapes of an element active region and a gate electrode, facilitate pattern formation in a lithography process, reduce registration deviation of resist patterns, and relieve design rule of a divided path of a word line while variation in storage characteristics of a semiconductor storage device is prevented.例文帳に追加

素子活性領域およびゲート電極の形状の単純化を図り、リソグラフィ工程におけるパターン形成を容易にし、レジストパターンの合わせずれを低減して、半導体メモリの記憶特性の変動を防止しつつ、ワード線の分路の設計ルールの緩和を図る。 - 特許庁

The element has an auxiliary electrode pattern, formed of thin-section type particulate graphite on a transparent substrate having a transparent conductive film, the thin-section type particulate graphite being of ≤3 μm in maximum particle size, 0.05 to 0.2 μm in mean particle size, and ≥10 in aspect ratio.例文帳に追加

上記素子は透明導電膜を有する透明基板上に薄片状微粒子黒鉛からなる補助電極パターンを有し、該薄片状微粒子黒鉛の最大粒子径が３μｍ以下、平均粒子径が０.０５〜０.２μｍ、アスペクト比が１０以上である。 - 特許庁

A value of each element of a feature vector extracted from an input pattern and a dictionary vector stored in a dictionary part 105 are converted using a nonlinear function previously defined in a nonlinear conversion part 101 and collated in a collation part 104.例文帳に追加

入力されたパターンから抽出された特徴ベクトルの各要素の値、および、辞書部１０５に記憶される辞書ベクトルを、非線形変換部１０１において予め定めた非線形関数を用いて変換し、照合部１０４において照合を行う。 - 特許庁

To provide a nonlinear element manufacturing method which can perform a patterning finer than resolution of an exposure apparatus used in formation of a resist mask, and which is free from contaminating a film pattern obtained by patterning due to the resist; and to provide an electro-optical device.例文帳に追加

レジストマスクを形成する際に用いる露光装置の解像度によりも微細なパターニングを行うことができ、かつ、パターニングにより得た薄膜パターンがレジストによって汚染されることのない非線形素子の製造方法、および電気光学装置を提供すること。 - 特許庁

To provide an optical modulator element which has a reduced pile-up effect, is excellent in the quality (eye pattern quality) of the output waveform and can reduce the coupling loss to the optical fiber of a symmetric NFP by suppressing the asymmetry of a light guide mode as far as possible.例文帳に追加

パイルアップ効果が低減されて、出力波形の品質（アイパターン品質）が良好であり、かつ導波モードの非対称性を極力抑えてＮＦＰが対称な形状の光ファイバとの結合損失を低減できる光変調器素子を提供する。 - 特許庁

When an operating unit 1 selects a fine letter mode, a history pattern detecting means 4 detects a pixel disposed at a profile of the image of the data, and variably controls an applying time of a voltage to corresponding element so as to reduce the diameter of the hole of the pixel.例文帳に追加

操作部１で細字モードを選択すると、履歴パターン検出手段４は、画像データのうち画像の輪郭部に位置する画素を検出してこの画素の穿孔径が小さくなるよう、対応する発熱体への電圧の印加時間を可変制御する。 - 特許庁

To provide a relief printing plate for a highly precise printing capable of forming an ink pattern requiring an extremely high printing accuracy represented by a case where an organic light emitting layer in an organic EL element is formed by using an organic light emitting ink by a relief printing process.例文帳に追加

有機ＥＬ素子における有機発光層を有機発光インキを用いて凸版印刷法により形成する場合に代表される、非常に高い印刷精度が必要とされるインキパターンを形成することが可能な高精細印刷用凸版を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition having excellent developability and a sufficiently high photosensitive characteristic, and further excellent in a bonding strength and reliability of a cured film, a photosensitive element using the same, a forming method for a resist pattern, and a bonding method for a member to be bonded.例文帳に追加

現像性が良好で、十分に高い感光特性を有し、かつ硬化膜の接着強度及び信頼性に優れた感光性接着剤組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの形成方法及び被接着部材の接着方法を提供する。 - 特許庁

To make it possible in a software development-supporting device both to retrieve a desired part in a block diagram and to identify a block element composed of the same pattern in the block diagram to improve efficiency in block diagram maintenance work.例文帳に追加

ソフトウェア開発支援装置においてブロック図における所望の部分の検索を可能にし、また、ブロック図において同一パターンで構成されているブロック要素の特定を可能にすることによって、ブロック図保守作業の効率を高めることを目的としている。 - 特許庁

This invention provides the conversion element reducing occurrence of the cleavage of the vibration film by jointing the vibration film to prevent the direction of a straight line formed by making a surface most readily cloven appear on a surface of the vibration film from coinciding with the direction of a straight line constituting a cavity pattern.例文帳に追加

本発明は、最も劈開しやすい面が振動膜表面に現れてなす直線の方向と、キャビティパターンを構成する直線の方向とを一致させないように接合することで、振動膜の劈開の発生を低減する変換素子を提案する。 - 特許庁

To provide a volume change resin molding, containing a water absorption high molecular resin, that is easy to insert to a mold, easy to mold and fabricate, and enables fine processings, and to provide its manufacturing method, a forming method of a minute pattern and an optical element manufactured by using them.例文帳に追加

型取りや成型加工が容易で、微細加工を可能とする、吸水性高分子樹脂を含む体積変化率の大きい体積変化樹脂成形体およびその製造方法、微細パターンの形成方法、これらを用いて製造された光学素子を提供する。 - 特許庁

The optical element 200 includes a glass optical system 202 having 1,000 μm or less of thickness between the first surface and the second surface, and a pattern 203 arranged on the first surface of attenuating the light incident into the first surface of the glass optical system 202.例文帳に追加

光学素子200が、第１の表面と第２の表面との間において１０００ミクロン以下の厚さを有するガラス光学系202と、ガラス光学系202の第１の表面に入射する光を減衰させる、第１の表面に配置されているパターン203とを包含する。 - 特許庁

To correct the collapse of a capacity ratio by the influence of a parasitic capacity and to facilitate the pattern designing of an additive capacitive element in the D/A conversion circuit of a system which decides output voltage by the distribution of an electric charge by using at least two capacitive elements.例文帳に追加

少なくとも２個の容量素子を使用して電荷の配分により出力電圧を決定する方式のＤ／Ａ変換回路において、寄生容量の影響による容量比の崩れを補正すると共に、付加容量素子のパターン設計を容易とする。 - 特許庁

To provide an inkjet pattern formation device for manufacturing a color filter and an organic functional element of high quality, without having to change the drive voltages per nozzle, or without the degradation of quality, due to an uneven density caused by the variation in discharge amount of ink for each nozzle.例文帳に追加

ノズル毎の駆動電圧を変更することなく、ノズル毎のインク吐出量のバラツキによって発生する濃度ムラによる品質低下がなく、高品質なカラーフィルタ及び有機機能性素子を製造することができるインクジェットパターン形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optical connector that effectively prevents the short circuit by the contact of a lead terminal with a connector housing/metallic case or by the contact of the connector housing/metallic case with a circuit pattern other than a grounding circuit, even without strict positioning of an optical element.例文帳に追加

厳密な光素子の位置決めを行わなくてもリード端子のコネクタハウジング・金属ケースに対する接触による短絡や、コネクタハウジング・金属ケースによるアース回路以外の回路パターンに対する接触による短絡を有効に防止する光コネクタを提供する。 - 特許庁

The controller controls driving of at least one of an optical element constituting the projection optical system, the first stage, and the second stage so as to reduce the image height dependence of variations in imaging characteristics of the projection optical system on the basis of the positional dependence of the transmittance of the pattern.例文帳に追加

制御部は、パターンの透過率の位置依存性に基づき、投影光学系の結像特性の変動の像高依存性を低減するように、投影光学系を構成する光学素子、第１ステージ及び第２ステージの少なくとも一つの駆動を制御する。 - 特許庁

The optical element has the electromagnetic waveguide 04 with the semiconductor layer 01 included in a part thereof, and irradiation parts 05, 07 making a first electromagnetic wave 06 having a wavelength with the photon energy higher than the band-gap energy of the semiconductor layer 01 irradiate an arbitrary place on the semiconductor layer 01 with an arbitrary pattern 08.例文帳に追加

光学素子は、一部に半導体層01を含んだ電磁波導波路04と、半導体層01のバンドギャップエネルギーより高い光子エネルギーを持つ波長の第1の電磁波06を、半導体層01上の任意の場所に任意のパターン08で照射する照射部05、07を有する。 - 特許庁