「element pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(59ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a semiconductor device, capable of ensuring reliability of connection and electric conduction between bumps on a semiconductor element and a wiring pattern on a circuit board, when a circuit of the semiconductor device is made into a microstructure and the an output electrode pad is reduced in size, and a manufacturing method of the semiconductor device.例文帳に追加

半導体装置の回路が微細化され、出力電極パッドが縮小されても、半導体素子上の突起電極と回路基板上の配線パターンとの接続導通の信頼性を確保できる半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an active element array by which point defects caused by the pattern deficit of pixel electrodes can be easily restored.例文帳に追加

点欠陥の修復にかかわるパターンを作り込んだアクティブ素子アレイ基板では、その構造、構成が複雑になり、却って逆にパターン欠損の生じる確率や、いわゆるＧＳ層間ショートの起こる可能性が高くなり、したがって点欠陥の増加、歩留まりの低下を招く。 - 特許庁

Quality of the conductive pattern based on values of the resistance component and the reactance component in the inspection object is discriminated based on a level difference and a phase difference between voltages and currents detected about the high-frequency signal in the inspection object and the high-frequency signal in the circuit element.例文帳に追加

そして、検査対象における高周波信号と回路素子における高周波信号とについて検出した電圧、電流のレベル差、位相差をもとに、検査対象の抵抗成分とリアクタンス成分の値に基づく導電パターンの良否識別を行う。 - 特許庁

To reduce luminous intensity of light irradiated on the optical axis 1' of a light-emitting element source 1 from the light-emitting surface 2b of a light guide lens 2, and to clarify the contour of the fringe part P1 of a light distribution pattern P formed by light irradiated from the light-emitting surface 2b of the light guide lens 2.例文帳に追加

導光レンズ2の出射面2bから発光素子光源1の光軸1'上に照射される光の光度を低くすると共に、導光レンズ2の出射面2bから照射される光によって形成される配光パターンPの縁部P1の輪郭を明瞭にする。 - 特許庁

The CPU 7 divides a discharge electric charges amount and a charged potential phase into q and p pieces, respectively, to represent a phase ϕ-electric charges amount q by a plurality of elements, thereby acquiring a ϕ-q-n pattern allocating the number of occurrence to a value of each element, and calculating the age-based change amount.例文帳に追加

ＣＰＵ７は、放電電荷量と課電位相をそれぞれｑ，ｐ個に分割して位相φ−電荷量ｑを複数の要素で表し各要素の値に発生数を割り当てたφ−ｑ−ｎパターンを求め、その経時変化量を計算する。 - 特許庁

To provide a semiconductor carrier where a wiring pattern of a semiconductor carrier is prevented from being disconnected by a contact face when a semiconductor element is installed on the semiconductor carrier, by using an installation tool having a face which is brought into contact with an upper face of the semiconductor carrier.例文帳に追加

半導体キャリアの上面部に接触する面を有する装着ツールを用いて半導体素子を半導体キャリアへ装着する際に、その接触面により半導体キャリアの配線パターンが断線されないようにする半導体キャリアを提供する。 - 特許庁

The exposure system 100 irradiates an original plate 6 by an illumination optical system 4 containing the phase adjustment optical element 2 which converts linearly polarized light to non-polarized light, and projects a pattern of the original plate 6 on a substrate 8 by a projection optical system 7 to expose the substrate 8.例文帳に追加

露光装置１００は、直線偏光を無偏光化する位相調整光学素子２を含む照明光学系４によって原版６を照明し、原版６のパターンを投影光学系７によって基板８に投影して基板８を露光する。 - 特許庁

By thus performing plasma processing using the gas containing the halogen element and the gas containing the inert gas, the metal oxide film pattern where the lower section linewidth is decreased can be obtained, and this allows the integration of a semiconductor device to be improved.例文帳に追加

このようにハロゲン元素を含むガス及び不活性ガスを含むソースガスを利用してプラズマ処理することにより、下部線幅が減少された金属酸化膜パターンを獲得することができ、これにより、半導体素子の集積度を向上させることができる。 - 特許庁

In the liquid crystal device, the backlight is constructed by forming light emission layers 75 emitting respective three primary colors R, G, B with addition of dopant materials of respective colors and by arranging the light emission layers 75 corresponding to pixels 70 of the liquid crystal element in a pattern.例文帳に追加

液晶装置において、バックライトは、光の三原色Ｒ、Ｇ、Ｂの各色を発光する発光層７５を、各色のド−パント材料を添加することによって形成し、これら発光層７５を液晶素子の画素７０に対応させてパターン配置する。 - 特許庁

Etching treatment is carried out, by using a photoresist pattern 11 with an opening part 11a on the fuse element 3 and an opening part 1b on the metal wiring 7 as a mask and a trimming window opening part 9a, and a through-hole 9b are formed simultaneously in the interlayer insulation film 9 (B).例文帳に追加

ヒューズ素子３上に開口部１１ａ及びメタル配線９上に開口部１１ｂをもつフォトレジストパターン１１をマスクにしてエッチング処理を施し、層間絶縁膜９にトリミング窓開口部９ａとスルーホール９ｂを同時に形成する（Ｂ）。 - 特許庁

An image processing section 106 detects an image shake between the major object and a background through pattern matching between through-images, thereby controlling an image pickup element displacement device 118 so as to correct the image shake amount of the major object in an image pickup operation started by a release operation.例文帳に追加

画像処理部１０６でスルー画間のパターンマッチングにより主要被写体と背景の像ぶれ量をそれぞれ検出し、レリーズ操作で開始する撮像動作時に主要被写体の像ぶれ量を補正するように撮像素子変位機構１１８を制御する。 - 特許庁

A light shielding element that shields the illuminating beam for irradiating parts of the multiply-overlapped-exposure acceptable region is installed in a beam shaping opening to reduce the count of the exposure on the multiply-overlapped-exposure acceptable region, and to consequently mitigate the decrease in contrast of the device pattern on the sensitized substrate.例文帳に追加

ビーム成形開口に、多重重複露光可能領域に当たる部分への照明ビームを遮る遮光部が設け、多重重複露光可能領域に対する露光回数を減らし、感応基板上のデバイスパターンのコントラスト低下を低減する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an EL element avoiding a condition of excessive layers laminated on each light-emitting part formed in a pattern, and processing a peeling treatment of the excessive layers easily and rapidly, when a light-emitting part is formed using a photolithography method.例文帳に追加

フォトリソグラフィー法を用いて発光部を形成する際に、パターン状に形成された各発光部上に余分な層が積層されている状態を回避し、当該余分な層の剥離処理を容易かつ迅速に行えるＥＬ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

Input impedance Zantenna of a patch 31 is determined while taking into account not only impedance of a PIN diode 30 but also a wiring pattern of stabs 32-1, 32-2 or the like installed around the PIN diode 30, and the patch 31 designed with the input impedance Zantenna is used as an antenna element.例文帳に追加

ＰＩＮダイオード３０のインピーダンスだけでなく、ＰＩＮダイオード３０の周辺に設置されたスタブ３２−１，３２−２等の配線パターンを考慮して、パッチ３１の入力インピーダンスＺantennaを決定し、これによって設計したパッチ３１をアンテナ素子として用いる。 - 特許庁

In the semiconductor module 100, a circuit element such as a power semiconductor 2 or a driving IC 3 is connected to a circuit pattern of a lead frame 1 by bonding wires 4, 5 and is covered with a molding resin 6, and a ceramics insulating layer 7 is formed in a reverse surface of the molding resin 6.例文帳に追加

パワー半導体２または駆動ＩＣ３等の回路素子をボンディングワイヤ４，５によりリードフレーム１の回路パターンに接続して成形樹脂６で覆い、この成形樹脂６の反対面に、セラミックス絶縁層７を形成した半導体モジュール１００とした。 - 特許庁

To provide, generally in relation to the field of microwave antennas, and, more particularly, a number of three-dimensional designs for a radiation element of an ultra-wideband monopole antenna with a symmetrical omni-directional radiation pattern operated in the frequency range between 3.1 GHz and 10.6 GHz particularly with regard to a field of a microwave antenna generally.例文帳に追加

一般的には、マイクロ波アンテナの分野に関し、特に、３．１ＧＨｚ〜１０．６ＧＨｚの周波数帯で動作する対称的な無指向性放射パターンを有する超広帯域モノポールアンテナの放射素子の多数の３次元設計に関する。 - 特許庁

A transmitter in this invention is constituted of a fast frequency hopping frequency modulator to convert a data element of a transmission data vector into a transmission signal vector to frequency-hopping by the sample time unit according to a fast frequency hopping pattern of the sample time unit.例文帳に追加

本発明の送信装置は、送信データベクトルのデータ要素をサンプル時間単位の高速周波数ホッピングパターンに従ってサンプル時間単位で周波数ホッピングする送信信号ベクトルに変換する高速周波数ホッピング周波数変調器で構成される。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an organic EL element, capable of surely carrying out patterning of a coating of a display function material on a blanket, and surely forming and transferring a pixel pattern formed on the blanket to a transfer substrate, with the use of a letterpress reverse printing method.例文帳に追加

凸版反転印刷法により、ブランケット上の表示機能性材料の塗膜のパターンニング、ブランケット上に形成された画素パターンを基材への転写基板に画素パターンを確実に形成することが可能な有機ＥＬ素子の製造方法提供する。 - 特許庁

The authenticity identification element A includes a black color pattern layer 5 to absorb unnecessary reflective light, which is located between the relief hologram and the reflective thin film 3 formed thereon and in an opposite position to the cholesteric liquid crystal 4, thereby improving the visibility of the cholesteric liquid crystal.例文帳に追加

レリーフホログラムとそのレリーフホログラム上に形成されている反射性薄膜との間であって、コレステリック液晶と相対する位置に、不要な反射光を吸収する黒色パターン層を設けることにより、コレステリック液晶の視認性を改善する。 - 特許庁

To prevent the overheating deterioration in a motor coil and a circuit element by a short-circuit current when braking a motor, simultaneously when a shift time can be shortened, by applying braking to the motor in the proper timing, by increasing F/B control gain only in the case of a specific shift pattern.例文帳に追加

特定の変速パターンの場合にのみ、F/B制御ゲインを大きくし、適切なタイミングでモータに制動をかけることにより、変速時間を短縮できると同時にモータ制動時の短絡電流によるモータコイルおよび回路素子の過熱劣化を防止する。 - 特許庁

A plurality of semiconductor elements 11a and 11b are laminated, the lowest semiconductor element 11a is laminated on a circuit pattern 13a of a substrate 13 for power modules that are adhered to the upper surface of a main heat sink 12, and other semiconductor elements 11b other than the lowest semiconductor elements 11a are successively laminated to the lowest semiconductor element 11a via an auxiliary heat sink 16.例文帳に追加

複数の半導体素子１１ａ，１１ｂが積層され、最下位の半導体素子１１ａが主ヒートシンク１２の上面に接着されたパワーモジュール用基板１３の回路パターン１３ａに積層され、最下位の半導体素子１１ａ以外の他の半導体素子１１ｂが最下位の半導体素子１１ａにそれぞれ補助ヒートシンク１６を介して順次積層される。 - 特許庁

The second lighting fixture unit 20B is provided with a second projection lens 34 which has a focusing distance more backward and a diameter smaller than the first projection lens 24 and a second reflector 36 converging and reflecting the light from a second semiconductor light emitting element 32 having the same structure as the first semiconductor light emitting element 22, and a second shade 31 forming a cut-off line of the light distribution pattern.例文帳に追加

第２の灯具ユニット２０Ｂは、第１投影レンズ２４よりも後方焦点距離及びレンズ径が小さい第２投影レンズ３４と、第１半導体発光素子２２と同じ構成の第２半導体発光素子３２からの光を前方に向けて集光反射させる第２リフレクタ３６と、配光パターンのカットオフラインを形成する第２シェード３１と、を備える。 - 特許庁

A dummy pattern part is arranged same as the circuit for driving at the outside of the arrangement of the circuit for driving the piezoelectric element and in the peripheral region within the piezoelectric element region.例文帳に追加

ＦＰＣの圧電素子駆動用の回路側を圧電素子側にして、異方導電性接着層を介して、ＦＰＣと圧電素子とを圧着して、ＦＰＣと圧電素子とを電気的に接続して一体的に積層しているものであり、ＦＰＣには、前記圧電素子駆動用の回路の配列の外側、かつ、圧電素子領域内の周辺領域に、前記駆動用の回路と同じくして、ダミーパターン部を配設している。 - 特許庁

An SOI structure is formed in a part of a semiconductor substrate wherein a fuse element 510 for laser trimming, a pattern 610 for positioning laser trimming, a full depletion high rate MOS transistor 210, and a pleader resistor 410 comprising a plurality of resistors are formed in the SOI structure while a high breakdown strength MOS transistor and an ESD protective element 31 are formed in the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板の一部にＳＯＩ構造が形成され、ＳＯＩ構造中に、レーザトリミング用ヒューズ素子５１０と、レーザトリミング位置決め用パターン６１０と、完全空乏型の高速ＭＯＳトランジスタ２１０と、複数の抵抗体によって形成されたプリーダー抵抗４１０とが形成され、半導体基板中に、高耐圧型ＭＯＳトランジスタと、ＥＳＤ保護素子３１とが形成される。 - 特許庁

A portable phone includes: an operation part side housing; a circuit board arranged in the operation part side housing with electronic components mounted thereon; a flexible substrate 91 having a conductive antenna element 92 and an insulation part 93 formed so as to cover the antenna element 92 and arranged in the operation part side housing; and a reference potential pattern layer 75 disposed in the operation part side housing.例文帳に追加

携帯電話機は、操作部側筐体と、電子部品が実装され、操作部側筐体の内部に配置された回路基板と、導電性のアンテナエレメント９２及びアンテナエレメント９２を覆って形成される絶縁部９３を有し、操作部側筐体の内部に配置されるフレキシブル基板９１と、操作部側筐体の内部に配置される基準電位パターン層７５と、を備える。 - 特許庁

The power semiconductor device includes a tubular electrode 8 fixed to a circuit pattern on which a semiconductor element is mounted, a resin housing 1 which seals the semiconductor element and the tubular electrode such that the other end of the tubular electrode is exposed, and an external electrode 2 which is inserted into the tubular electrode and has a protrusion portion 21 abutting on the other end or the resin housing as a result of the insertion.例文帳に追加

半導体素子が実装される回路パターンに固定される筒状電極８と、該筒状電極の他端を露出して上記半導体素子及び上記筒状電極を封止する樹脂筐体１と、上記筒状電極に挿入され、該挿入により、上記他端に当接し又は上記樹脂筐体に当接する張出部２１を有する外部電極２とを備えた。 - 特許庁

In the immersion lithography apparatus, there are assembled a working stage arranged to retain a workpiece, a projection system for projecting a pattern image, a fluid supply unit which serves during an immersion lithography process to supply an immersion liquid into a gap defined between the optical element of the projection system and the workpiece, and a cleaning device for cleaning the optical element during a cleaning process.例文帳に追加

液浸リソグラフィ装置は、ワークピースを保持するように配置されたワーキングステージと、パターン像を投影させる投影システムと、液浸リソグラフィプロセスの間、投影システムの光学素子とワークピースとの間に画成された隙間に液浸液体を供給する流体供給ユニットと、洗浄プロセスの間に光学素子の洗浄を行うクリーニングデバイスと、が組み込まれている。 - 特許庁

To provide a resin letterpress for high-definition printing which ensures a uniform relief depth and avoids reduction in relief strength while maintaining edge sharpness of relief protrusions, or to provide a method for manufacturing an element panel for an organic El display by which a high-definition pattern of a luminescent layer of an organic EL element can be uniformly and stably formed using the resin letterpress plate.例文帳に追加

一定のレリーフ深度を確保し、レリーフ凸部のエッジのシャープ性を維持しながら、レリーフ強度も低下することのない、高精細印刷用の樹脂凸版を提供すること、或いは、この樹脂凸版を用いて、有機ＥＬ素子の発光層の高精細なパターンを均一に安定して形成できる有機ＥＬディスプレイ用素子パネルの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The projection aligner comprises an optical system for illuminating a reticle, and an optical system for projecting the pattern of the reticle onto a wafer wherein the illumination optical system comprises an optical deflection element for converting a light incident to an optical integrator into a ring-like light and the optical deflection element has a variable position in the direction perpendicular to the optical axis in the optical path.例文帳に追加

レチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンをウエハ上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記照明光学系は、オプティカルインテグレータに入射する光を輪帯状の光に変換する光偏向素子を有し、該光偏向素子は光路内における光軸に垂直な方向の位置が可変であること。 - 特許庁

The ladder type piezoelectric filter includes at least three piezoelectric vibrators where the piezoelectric vibrators 19 corresponding to a series element and a parallel element are alternately arranged on a flat substrate, at least part of lower electrodes of the piezoelectric vibrators has a projection 20 and the projection is adhered and fixed to an electrode pattern 18 on a mounting member.例文帳に追加

少なくとも３つの圧電振動子を含む梯子型圧電フィルタであって、その等価回路における直列素子と並列素子に対応する各々の前記圧電振動子１９が平面基板上に交互に配置されており、前記圧電振動子の下面電極の少なくとも一部分が突起２０を有し、前記突起が実装用部材上の電極パターン１８に接着固定されている。 - 特許庁

To form multiple layers by increasing the number of laminated layers to increase a capacity while an optical memory element production process (especially, a process for laminating a core layer and a clad layer) is made efficient and simple when the optical memory element is produced easily and inexpensively by forming the core layer and the clad layer from a resin and forming an uneven pattern easily.例文帳に追加

コア層及びクラッド層を樹脂製にし、上記の凹凸パターンを簡易に形成できるようにして、光メモリ素子を容易かつ安価に実現できるようにする場合に、光メモリ素子の製造工程（特に、コア層及びクラッド層を積層する工程）の効率化，簡略化を図りながら、大容量化を実現すべく積層数を増やして多層化できるようにする。 - 特許庁

The method of manufacturing the printed wiring board incorporating the resistor element includes at least a step (a) of forming a patterned resistance layer 2 on an insulating substrate 1, and a step (b) of manufacturing the printed wiring board incorporating the resistor element by forming a wiring pattern 3 which is brought into contact with the resistance layer 2 on the insulating substrate 1.例文帳に追加

抵抗素子内蔵プリント配線板の製造方法において、少なくとも（ａ）絶縁性基板１上にパターニングされた抵抗層２を形成する工程、（ｂ）前記絶縁性基板上に前記抵抗層に接する配線パターン３を形成し、抵抗素子内蔵プリント配線板を作製する工程、を含むことを特徴とする抵抗素子内蔵プリント配線板の製造方法。 - 特許庁

The electronic device substrate on which an electronic device element is formed by forming a desired pattern 1 of a combination of dot patterns formed by injecting and applying droplets of liquid containing a functional material onto the substrate 10, evaporating a volatile component in the liquid, and leaving sold contents on the substrate 10 is characterized in that the optical device element is optically shielded in an invisible state.例文帳に追加

基板１０上に機能性材料を含む液体の液滴をインクジェット法で噴射付与し、該液体中の揮発成分を揮発させ、固形分を基板１０上に残留させてなるドットパターンの組み合わせによって所望のパターン１を形成してなる電子デバイス素子を形成した電子デバイス基板において、電子デバイス素子を光学的に視認不可の状態に遮蔽する。 - 特許庁

In this resistor for an electron-gun structure, a resistor 32 for electron-gun structure for supplying voltages divided by resistances to electrodes disposed on the electron-gun structure comprises an insulating substrate 40, at least two first resistive elements 41 disposed at prescribed positions on the insulating substrate 40, and a second resistive element 44 having a prescribed pattern connecting electrically between first resistive element 41.例文帳に追加

電子銃構体に備えられた電極に抵抗分割した電圧を印加するための電子銃構体用抵抗器３２は、絶縁性基板４０と、絶縁性基板４０上の所定位置に配置された少なくとも２個の第１抵抗素子４１と、第１抵抗素子４１間を電気的に接続する所定パターンを有する第２抵抗素子４４と、を備えている。 - 特許庁

In the manufacturing method of the organic electric field light- emitting element 23 wherein the layer having electron transporting layers which are the light emitting regions between ITO transparent picture element electrodes 2 and negative electrodes 22, at least the electron transporting layers 5 among the layers are formed in a prescribed pattern by dropping an organic EL material solution 5a of the constituting materials of the layers.例文帳に追加

ガラス基板１上のＩＴＯ透明画素電極２と陰極２２との間に、発光領域である電子輸送層を有する層が設けられた有機電界発光素子２３の製造方法において、前記層のうち少なくとも電子輸送層５をその構成材料の有機ＥＬ材料溶液５ａの滴下によって所定パターンに形成する、有機電界発光素子２３の製造方法。 - 特許庁

The pattern forming method for group III nitride semiconductor substrate includes steps of irradiating a first area A of a group III nitride semiconductor substrate 100 with laser to convert the first area A having nitrogen polarity to a group III element polarity, and using the first area A converted to the group III element polarity by the laser irradiation as a mask to wet-etch a second area B.例文帳に追加

本発明のIII族窒化物半導体基板のパターン形成方法は、III族窒化物半導体基板１００の第１領域Ａ上にレーザを照射して、窒素極性の第１領域ＡをIII族元素極性に変換する段階と、レーザが照射されてIII族元素極性に変換された第１領域Ａをマスクとして利用して第２領域Ｂをウェットエッチングする段階とを含んでいる。 - 特許庁

With the heater of ceramic plate provided with a heating element on the surface or inside of either substrate, the substrate is structured with a plurality of plate-shaped segments, for each of which, either an independent heating element pattern is formed, or the segments are bar-shaped which are arrayed in one lump so that their heating face makes on a flat plane.例文帳に追加

基板いずれか一方の表面もしくはその内部に発熱体を設けてなるセラミック製板状のヒータであって、前記基板が複数の板状セグメントで構成されていると共に、各セグメント毎に独立した発熱体パターンが形成されているか、またはそのセグメントが棒状であって、その棒状セグメントを加熱面か平面を呈するように列設して、１塊まりとなった。 - 特許庁

Each LED element 3 for composing an LED array panel 1 is arranged around an optical axis 72 at angles having a difference of 90 degrees, a light having an intensity distribution with a fixed pattern being outputted from each LED element 3 is overlapped for averaging, and the intensity distribution of illumination light outputted from the LED array panel 1 becomes nearly uniform over the irradiation surface.例文帳に追加

ＬＥＤアレイパネル１を構成する各々のＬＥＤ素子３を、その光軸７２の回りに９０度異なる角度で配置し、個々のＬＥＤ素子３から出力される一定のパターンの強度分布を持つ光を重ね合わせて平均化し、ＬＥＤアレイパネル１から出力される照明光としては照射面で強度分布がほぼ一様となるようにする。 - 特許庁

In the manufacturing method of an electroluminescent element in which a hole transport layer 4 and an electron transport luminous layer 5 are provided as a layer having a light-emitting region between a transparent picture element electrode 2 and a negative electrode 10, at least the electron transport luminous layer 5 is formed in a prescribed pattern by the transfer of its constituting material by the letterpress reverse-offset method.例文帳に追加

透明画素電極２と陰極１０との間に、発光領域を有する層としてホール輸送層４及び電子輸送性発光層５が設けられた電界発光素子の製造方法において、少なくとも電子輸送性発光層５を、その構成材料の凸版反転オフセット法による転写で所定パターンに形成することを特徴とする、電界発光素子の製造方法。 - 特許庁

In the projection aligner provided with an illumination optical system for illuminating a reticle and a projection optical system for projecting the pattern of the reticle on a wafer, the illumination optical system is provided with a light deflecting element for converting light incident on an optical integrator to zonal light, and the light deflecting element is rotatable to an optical axis.例文帳に追加

レチクルを照明する照明光学系と、前記レチクルのパターンをウエハ上に投影する投影光学系とを有する投影露光装置において、前記照明光学系は、オプティカルインテグレータに入射する光を輪帯状の光に変換する光偏向素子を有し、該光偏向素子は光軸に対して回転可能であることを特徴とする投影露光装置。 - 特許庁

An insulator 9 having high adhesion to the conductive adhesive 8 is increased in area by being exposed in an anode pattern 51 or cathode pattern 41 on a capacitive element connection terminal surface of the conversion substrate 2, and when the conductive adhesive 8 and exterior resin 3 are connected, fixation reliabilities of the conversion substrate 2 and exterior resin 3, and the conversion substrate 2 and conductive adhesive 8 are improved.例文帳に追加

変換基板２のコンデンサ素子接続端子面の陽極パターン５１または陰極パターン４１の中に絶縁体９を露出させることにより、導電性接着剤８と密着性の高い絶縁体９の面積を拡大させ、導電性接着剤８、及び外装樹脂３を接続した際、変換基板２と外装樹脂３、及び変換基板２と導電性接着剤８の固着信頼性を向上させる。 - 特許庁

To manufacture a semiconductor device excellent in element characteristics and reliability with high yield by carrying out dry etching of a multilayer film having an SiGe film containing Si and Ge and an oxide film to form a gate electrode pattern and a gate oxide film pattern, and then sufficiently removing dry etched products or particles adhering to a semiconductor substrate without damaging the SiGe layer or the gate oxide film configuring the gate electrode.例文帳に追加

Ｓｉ及びＧｅを含有するＳｉＧｅ膜と酸化膜とを有する積層膜をドライエッチングしてゲート電極パターン及びゲート酸化膜パターンを形成した後、ゲート電極を構成するＳｉＧｅ層とゲート酸化膜とを損傷させることなく、半導体基板上に付着したドライエッチ生成物やパーティクルを十分に除去し、素子特性および信頼性に優れた半導体装置を歩留りよく製造する。 - 特許庁

The layout verification device for semiconductor integrated circuit comprises a layout extraction part which extracts a pattern related to elements and wiring formed on each layer from layout data of a semiconductor integrated circuit; and a layout verification part which verifies each directional distance of the element and wiring pattern extracted for each layer by the layout extraction part based on a design standard of the semiconductor circuit.例文帳に追加

半導体集積回路のレイアウト検証装置は、半導体集積回路のレイアウトデータからレイヤ毎に形成される素子及び配線に関わる図形を抽出するレイアウト抽出部と、前記レイアウト抽出部によりレイヤ毎に抽出された素子及び配線の図形の方向毎の距離を、前記半導体集積回路の設計基準に基づいて検証するレイアウト検証部と、を具備する。 - 特許庁

The reticle having a first pattern hole corresponding to the opening of a resist film 102 for forming a source/drain region 115 included in an element region 11 by ion implanting and a second pattern hole corresponding to the opening of the resist film 102 for forming a diffused region 117 on a dummy region 113 on a p-type silicon substrate 101 by ion implanting is used.例文帳に追加

イオン注入により素子領域１１２に含まれるソース／ドレイン領域１１５をｐ型シリコン基板１０１上に形成するためのレジスト膜１０２の開口部に対応する第１のパターン孔と、イオン注入により拡散領域１１７をｐ型シリコン基板１０１上のダミー領域１１３に形成するためのレジスト膜１０２の開口部に対応する第２のパターン孔とを備えるレチクルを用いる。 - 特許庁

The solvent or solvent composition for pattern printing of an organic electroluminescence device is a solvent composition which is used when an element pattern constituting the organic electroluminescence device is formed by a printing method, and contains a compound in which one of two terminal alkyl groups of a dipropylene glycol dialkyl ether is a methyl group and the other is a 4 or 5C straight chain or branched chain alkyl group.例文帳に追加

本発明の有機エレクトロルミネッセンスデバイスのパターン印刷用溶剤又は溶剤組成物は、有機エレクトロルミネッセンスデバイスを構成する素子パターンを印刷法により形成する際に使用する溶剤組成物であって、プロピレングリコールジアルキルエーテルの２つの末端アルキル基の一方がメチル基であり、もう一方が炭素数４又は炭素数５の直鎖状又は分岐鎖状アルキル基である化合物を含むことを特徴とする。 - 特許庁