「flatness」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

As the result of the actual measurement, when variations of the film thickness are large, a layout of a circuit pattern, an area rate or layout of a dummy pattern, and a layout, a film forming amount and a polishing amount of a reverse pattern are optimized to materialize the flatness after the CMP process.例文帳に追加

実測の結果、膜厚のばらつきが大きい場合は、回路パターンの配置、ダミーパターンの面積率や配置、リバースパターンの配置及び成膜量、研磨量を最適化して、ＣＭＰ加工後の平坦化を実現する。 - 特許庁

To provide a semiconductive belt having highly accurate flatness, having no problem about the deformation or the like of a shape with the lapse of time, forming a suitable nip shape in a transfer part, and reducing changes of electric resistance due to environments, and to provide an image forming device provided with the semiconductive belt and capable of stably obtaining high transfer image quality.例文帳に追加

高精度の平面度を有し、経時による形状の変形等の問題がなく、かつ、転写部でのニップ形状の形成に優れ、環境による電気抵抗の変化の少ない半導電性ベルトを提供する。 - 特許庁

To provide a lens holding material enabling to produce a lens superior in flatness by grinding and polishing the lens in the state of being fixed to a working fixing member in an easily fixable or removable manner.例文帳に追加

本発明により解決すべき課題は、レンズを加工用固定部材に固定して研削および研磨する場合等において、簡易にレンズを固定、取り外しでき、かつ、平坦性に優れたレンズを得ることを可能にすることである。 - 特許庁

To provide a micromirror wherein an inclined angle and flatness of a reflection plane can be made in a prescribed range and productivity can be enhanced more than conventional one, to provide a method for manufacturing the micromirror and to provide an optical pickup device using the micromirror.例文帳に追加

反射面の傾斜角度や平坦度を所定の範囲内にすることができ、従来よりも生産性を向上できる、マイクロミラー、マイクロミラーの製造方法、及びマイクロミラーを用いた光ピックアップ装置を提供する。 - 特許庁

This pressure-resistant container is composed of the polyphenylene sulfide resin composition formed by mixing 100 pts.wt. of a polyphenylene sulfide resin (A) with 5-120 pts.wt. of flat cross-section glass fiber (B) having a mean flatness ratio of 2-10.例文帳に追加

ポリフェニレンサルファイド樹脂（Ａ）１００重量部に対して、平均扁平率が２〜１０である扁平断面ガラス繊維（Ｂ）５〜１２０重量部を配合してなることを特徴とするポリフェニレンサルファイド樹脂組成物からなる耐圧容器。 - 特許庁

To provide a silicon epitaxial wafer which has a low haze level, excellent flatness (edge roll-off), and an epitaxial growth rate with reduced orientation direction dependency, thereby meeting the need for high integration for semiconductor devices, and to provide a method of producing the same.例文帳に追加

ヘイズレベルが低く、平坦度（エッジロールオフ）に優れ、また、さらには、エピタキシャル成長速度の方位依存性が低減された、半導体デバイスの高集積化に対応できるシリコンエピタキシャルウェーハおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

The signal acquisition probe and the signal processing apparatus have mismatched time constants at the input node, with the compensation system providing pole-zero pairs for maintaining flatness over the frequency bandwidth of the signal acquisition system.例文帳に追加

信号取込みプローブ及び信号処理装置は、入力ノードにおいては時定数がミスマッチしているが、補償システムが信号取込みシステムの周波数帯域幅に渡ってフラットを維持するために、極−零点対を提供する。 - 特許庁

When the area M3-S of an irradiation surface M3 is changed, the area on the substrate in the region R3 to be irradiated with the laser beam is maintained at a fixed value equal to or smaller than the area having no deviation of flatness of energy in the irradiation area.例文帳に追加

照射面Ｍ３の面積Ｍ３−Ｓが変化した際に、レーザービームの照射領域Ｒ３の基板上の面積は、照射領域内でのエネルギーの平坦性に偏りのない面積以下の一定値に保たれている。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor substrate having a parallel pn junction structure in which the semiconductor substrate having a device formation surface with good crystallinity and high flatness can be manufactured while preventing contamination of the substrate.例文帳に追加

結晶性が良く、平坦度の高いデバイス形成面を有する半導体基板を汚染を防止しながら製造することができる並列ｐｎ接合構造を有する半導体基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a susceptor for an epitaxial wafer for improving the flatness of the epitaxial wafer that is obtained by suppressing growth of a back surface deposition in epitaxial growth, a method of manufacturing the same and an epitaxial growth device using the same.例文帳に追加

エピタキシャル成長において、裏面デポジションの成長を抑えることにより、得られるエピタキシャルウェーハの平坦度を向上させるエピタキシャルウェーハ用サセプタ、およびその製造方法、並びにそれを用いたエピタキシャル成長装置を提供する。 - 特許庁

To provide a stress-free epitaxially-coated semiconductor wafer that has an excellent edge roll-off value and excellent local flatness while simultaneously avoiding the undesirable crystal defects, back-surface halo, autodoping, and nanotopography action.例文帳に追加

良好なエッジロールオフ値および良好な局所的平坦度を有すると同時に、望ましくない結晶欠陥、背面のハロ、オートドーピングおよびナノトポグラフィ作用を回避した、応力フリーのエピタキシャルコーディング半導体ウェハを提供すること。 - 特許庁

To provide an efficient manufacturing method that can realize a semiconductor device having flatness and sufficient electrical activity, in a method of manufacturing a semiconductor device using a substrate at least whose surface is configured by an SiC layer.例文帳に追加

少なくとも表面がＳｉＣ層で構成される基板を用いた半導体素子の製造方法において、平坦度及び十分な電気的活性を有する半導体素子を実現する効率的な製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a glass substrate for an information recording medium which can obtain a glass substrate for an information recording medium having satisfactory smoothness and flatness even in the case where polishing is performed after chemical strengthening.例文帳に追加

本発明は、化学強化後に精密研磨した場合でも、平滑性と平坦性のよい情報記録媒体用ガラス基板を得ることができる情報記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a retardation layer which includes a plurality of regions differing in both in-plane phase difference and thickness-directional phase difference and has superior flatness and heat resistance, and a retardation substrate manufactured by the method.例文帳に追加

面内位相差および厚み方向位相差の双方が異なる複数の領域を含み、かつ平坦性・耐熱性に優れた位相差層を簡便に製造する方法及びその製法により製造された位相差基板を提供すること。 - 特許庁

The flat polyphenylene sulfide short fibers for the papermaking is provided by having 1.0 to 3.3 dtex single fiber fineness, and 1.5≤A≤3.0 flatness rate A expressed by the longer diameter/shorter diameter of the fiber cross section perpendicular to the fiber axis direction of the short fiber.例文帳に追加

単繊維繊度が１．０〜３．３ｄｔｅｘであって、該短繊維の繊維軸方向に垂直な繊維断面の長径／短径で表される扁平率Ａが、１．５≦Ａ≦３．０である抄紙用扁平ポリフェニレンサルファイド短繊維である。 - 特許庁

To provide a polyarylene sulfide resin composition for molded articles having a box shape, excellent in moldability and mechanical strength and excellent in flatness of a bottom part of a box shape part and suppressed in dimensional dispersion of molded articles obtained by shot molding.例文帳に追加

成形性及び機械的強度に優れ、且つ箱形部分の底面部の平面度が優れ、ショット間の寸法バラツキが抑制された箱形形状を有する成形品用のポリアリーレンサルファイド樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide a phosphor sheet production method and device for producing phosphor sheets high in flatness by preventing deformation of a substrate even in the case of using a substrate relatively low in stiffness like a glass substrate.例文帳に追加

ガラス基板のような、比較的剛性の低い基板を用いる場合にも、この基板に変形を生じさせないようにして、平面性の高い蛍光体シートを製造可能とする、蛍光体シートの製造方法および装置を提供すること。 - 特許庁

This base fabric for plating metal comprises a woven fabric composed of synthetic multifilament yarns having a fiber cross section having a flatness of 1.5 to 4.例文帳に追加

合成繊維マルチフィラメント糸から織物を構成させた金属メッキ用の基布において、扁平度が１．５〜４である繊維断面を有する合成繊維マルチフィラメント糸を用いて織物を構成することを特徴とする金属メッキ用基布。 - 特許庁

To improve flatness of a tip surface to be an electrical-continuity connecting surface of a columnar electrode for a semiconductor device and increase electrical-continuity reliability when the semiconductor device is jointed on a circuit substrate through an anisotropic conductive adhesive.例文帳に追加

半導体装置の柱状電極の導通接続面となる先端面の平坦度を良くするとともに、半導体装置を回路基板上に異方性導電接着剤を介して接合した際の導通信頼性を向上する。 - 特許庁

To provide a film configuration and a manufacturing method capable of maintaining an antireflection effect and transmittance flatness with high accuracy even when the optical characteristics of absorptive material change in production of an ND filter having reduced reflection of front and rear surfaces.例文帳に追加

表面、裏面反射の少ないＮＤフィルタの製造において、吸収物質の光学特性が変化した場合においても、反射防止効果、透過率平坦性を高精度で維持できる膜構成と製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrostatic chuck device and a laminated sheet for an electrostatic chuck capable of preventing the flatness deterioration of a wafer suction face and peeling of an adhesive layer from a ceramic substrate over a long time and superior in the heat dissipation of a wafer.例文帳に追加

ウエハ吸着面の平面度悪化や、セラミックス基板からの接着剤層の剥離を長期に亘って防ぐことができ、しかも、ウエハの放熱性が良好な静電チャック装置および静電チャック用積層シートを提供する。 - 特許庁

To realize a mask substrate inspection method effective for solving a problem of production yield lowering due to deterioration in the flatness of the mask substrate which is caused by chucking the mask substrate on the mask stage of a wafer aligner.例文帳に追加

ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックすることによりマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効なマスク基板の検査方法を実現すること。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin printing plate precursor having improved adhesiveness between a photosensitive resin layer containing a hydrophilic polymer and an elastic layer and giving excellent flatness and printability of a printing plate, and to provide a printing plate using the precursor.例文帳に追加

親水性ポリマーを含有する感光性樹脂層と弾性体層の接着性を改善し、印刷版の平面性および印刷適性に優れる感光性樹脂印刷原版ならびにそれを用いた印刷版を提供すること。 - 特許庁

To provide a design system of an electronic circuit board for systematically reflecting an unevenness profile of a board to design information, and easily designing a board with a desired flatness without a trial and error process.例文帳に追加

基板の凹凸プロファイルを設計情報に系統的に反映させることができ、ひいては試行錯誤を経ずとも所期の平坦度を有した基板を容易に設計することができる電子回路基板の設計システムを提供する。 - 特許庁

To provide a resin grinding wheel for semiconductor wafer polishing which generates little scratch, has a sufficient polishing speed, and with an excellent flatness property, and its manufacturing method.例文帳に追加

スクラッチの発生が少なく、かつ十分な研磨速度があり、平坦化性能に優れた半導体ウエハ研磨用樹脂砥石、その製造法、半導体ウエハの研磨方法、この半導体ウエハを用いた半導体素子及び半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide an organic thin-film transistor that provides stable operation characteristics even if an electrically conductive film, formed on a substrate having unstable form and inferior flatness as compared to a silicon wafer just like glass epoxy resin , is employed as a gate electrode.例文帳に追加

ガラスエポキシ樹脂のようにシリコンウエハと比べ形状が不安定で、平坦性に劣る基板上に設けた導体膜をゲート電極として使用しても安定した動作特性が得られる有機薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁

To provide a suction device and a suction method which can inhibit a foreign material from intervening in between a semiconductor substrate and the suction device and suck the semiconductor substrate in a state of keeping or improving flatness of the semiconductor substrate.例文帳に追加

半導体基板との間に異物が挟まることを抑制し、かつ半導体基板の平坦性を維持または向上した状態で、該半導体基板を吸着することができる吸着装置および吸着方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for cooling a hot rolled thin steel plate which has excellent flatness and is also suitable for higher strengthening by controlling its inhomogeneous cooling on a run-out table upon rapid cooling and/or low temperature coiling.例文帳に追加

急速冷却時および／または低温巻取り時でのランアウトテーブル上での不均一冷却を抑制することにより、平坦度が優れ、かつ高強度化に適した熱延薄鋼板の冷却方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a silicon carbide single crystal substrate which exhibits no zone affected by surface treatment or residue or surface roughness caused by the removal of ion damage and has a surface exhibiting a high degree of cleanness and flatness.例文帳に追加

本発明は、表面加工変質部あるいはイオン損傷部の除去処理に伴う残渣や表面荒れが無く、清浄で平坦性に優れた表面を有する炭化珪素単結晶基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a backing film, facilitating the mounting/demounting of a wafer to improve flatness of polishing and generate large wafer holding force, in a backing pad used for polishing the semiconductor wafer by a wax-less method for fixing the wafer.例文帳に追加

本発明は、半導体ウエハをワックスレス法により研磨するのに用いるウエハ固定用のバッキングパッドにおいて、ウエハの脱着が容易で且つ、研磨の平坦性が良く、更に、ウエハ保持力が大きなバッキングフィルムを提供するものである。 - 特許庁

To provide a method for generating mask substrate information which is effective to solve problems of decrease in production yield caused by degradation in the flatness of a mask substrate due to chucking the mask substrate on a mask stage of a wafer exposure apparatus.例文帳に追加

ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックすることによりマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効なマスク基板情報生成方法を実現すること。 - 特許庁

To provide a mask blank substrate that can reduce the change in flatness of a main surface thereof before and after chucking to make very small the position offset caused by a photomask and that can significantly reduce the difference in tendency of substrate deformation before and after chucking between photomasks.例文帳に追加

チャック前後の主表面の平坦度変化をより小さくして、フォトマスク起因の位置ずれを非常に少なくすることができ、さらに、フォトマスク毎のチャック前後の基板変形の傾向の相違を非常に少なくすること。 - 特許庁

Since a fusible film F made of a thermoplastic synthetic resin is thermally stuck to a part of a filter main body 12, an indicator part 13 can have a high size precision and high surface flatness in the part of the filter main body 12.例文帳に追加

フィルタ本体１２の一部に熱可塑性合成樹脂製の融着用フィルムＦを熱融着するので、フィルタ本体１２の一部に、高い寸法精度および高い表面平坦度でインジケータ部１３を形成することができる。 - 特許庁

To provide a method of silicon anisotropic etching that forms a slope WA that makes 45 degrees against the main surface SF of a silicon substrate 5 with favorable flatness and smoothness, and to provide a silicon anisotropic etching liquid for use in the method.例文帳に追加

シリコン基板５の主表面ＳＦに対して４５°を成す傾斜面ＷＡを平坦性および平滑性良く形成するシリコン異方性エッチング方法及び当該方法において使用するシリコン異方性エッチング液を提供する。 - 特許庁

To simply provide a hollow fiber membrane with less closure and flatness of the membrane having circularity in the hollow fiber membrane obtained by being wound on a tubular bobbin and particularly having high permeation performance (being further made porous and having high voids).例文帳に追加

管状ボビンに巻き取られて得られる、特に透過性能が高い（より多孔質化され空隙率の高い）中空糸膜において、膜の閉塞や偏平が少ない良好な真円度を有する中空糸膜を簡便に提供する。 - 特許庁

To provide an ink composition high in long-term stability with the dye excellent in dispersibility and, when applied to a surface for printing, excellent in colorability and in moisture resistance with the printed surface high in flatness.例文帳に追加

着色剤の分散性に優れ、経時安定性が良好であり、印刷用基材表面に塗布した場合の印刷部分の着色性および耐水性に優れ、そして良好な平滑性を付与するインク組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a synthetic quartz glass substrate having high flatness to perform fine drawing as well as having a substrate surface with less defect and minimal surface roughness, as a synthetic quartz glass substrate for a photomask used in a photolithography process or the like.例文帳に追加

光リソグラフィー法等で使われるフォトマスク用合成石英ガラス基板として、平坦度が良く微細な描画を行うことができ、かつ基板表面が低欠陥で面粗さの小さい合成石英ガラス基板を提供する。 - 特許庁

Micromirrors 35 and 45 have flattened layers 30 and 40 formed on the reflection surface and having surfaces having flatness lower than that of the reflection surface and a reflection film 20 formed on the surfaces of the flattened layers.例文帳に追加

また、この反射面上に形成され反射面よりも平坦度の小さい表面を有する平坦化層３０，４０と、この平坦化層の上記表面上に形成された反射膜２０と、を有するマイクロミラー３５，４５である。 - 特許庁

Therefore, the flatness of tip surface of the columnar electrode 28 can be improved and the electrical-continuity reliability when the semiconductor device 21 is jointed on the circuit substrate through the anisotropic conductive adhesive can be also increased.例文帳に追加

したがって、柱状電極２８の先端面の平坦度を良くすることができるとともに、半導体装置２１を回路基板上に異方性導電接着剤を介して接合した際の導通信頼性を向上することができる。 - 特許庁

This polyester monofilament for the seat belts has ≥0.6 intrinsic viscosity, ≥0.07 and ≤0.8 mm diameter, ≤30% flatness ratio Fr and ≥10 and ≤19 flexural rigidity index Bhi.例文帳に追加

極限粘度が０．６以上のポリエステルモノフィラメントであって、直径が０．０７ｍｍ以上０．８ｍｍ以下、扁平率Ｆｒが３０％以下、且つ曲げ剛性指数Ｂｈｉが１０以上１９以下であるシートベルト用ポリエステルモノフィラメント。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a reliable semiconductor element that prevents a decrease in the dimensional precision and disconnection of upper-layer wiring, by improving the flatness of an upper-layer insulating film formed on lower-layer wiring.例文帳に追加

下層配線上に形成される上層絶縁膜の平坦性を改善することにより、上層配線の寸法精度低下や断線を防止することができる高信頼性の半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

To improve the uneven thickness of a layer and the lack of surface flatness thereof produced when the layer having a nitride semiconductor light emitting device structure is laminated on a nitride semiconductor substrate while suppressing the cracking thereof.例文帳に追加

本発明の目的は、窒化物半導体基板上に窒化物半導体発光素子構造を有する層を積層する際に生じる、層厚の不均一性、表面の平坦性欠如を、クラックを抑制しつつこれらを改善することである。 - 特許庁

Warpage caused by bending the first side wall part 24 to the part 22 and that caused by bending the second side wall part 20 to the part 22 are mutually negated at the part 22, so that the flatness of the part 22 is lowered.例文帳に追加

第一側壁部２４が座部２０に対して曲げられることによる反りと、第二側壁部２０が座部２２に対して曲げられることによる反りとが座部２２において互いに打ち消し合うため、座部２２の平坦度が小さくなる。 - 特許庁

To carry even a thin-made substrate with its flatness kept and to prevent the adhesion of particles to the substrate, in a substrate carrying method suitable for carrying the thin-made substrate.例文帳に追加

本発明は薄型化した基板を搬送するのに適した基板の搬送方法に関し、薄型化された基板であっても平坦性を維持しつつ搬送を行ない得ると共にパーティクルの基板への付着を防止することを課題とする。 - 特許庁

A high frequency luminance signal generation means 4 finds out the luminance value of each pixel position by interpolating operation by using the signal values of pixel positions adjacent to the pixel position concerned in the direction where the flatness degree of the signal value in each pixel position is the smallest.例文帳に追加

高周波輝度信号生成手段４は、各画素位置の信号値と平坦度合いが最も小さい方向において各画素位置に隣接する画素位置の信号値を用いて、補間演算により各画素位置の輝度値を求める。 - 特許庁