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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > flatnessの意味・解説 > flatnessに関連した英語例文

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flatnessを含む例文一覧と使い方

該当件数 : 3514



例文

The flatness adjustment mechanism 31 is composed of screw rods 36 and 37 fitted into both ends 25a and 25b of the holding member 25, a screw rotating mechanism 38 to rotate the screw rods 36 and 37, and a motor 39 to drive the screw rotating mechanism 38.例文帳に追加

平坦度調整機構31は、保持部材25の両端部25a,25bに嵌合するネジ棒36,37と、このネジ棒36,37を回転させるネジ回転機構38と、ネジ回転機構38を駆動するモータ39からなる。 - 特許庁

To provide a transmission type screen designed so as to improve contrast and viewing angle, excel in environmental resistance, prevent warp or the like caused by its weight, have high flatness, and display images of high image quality, and to provide a rear projection type display apparatus.例文帳に追加

コントラスト及び視野角を向上でき、かつ、耐環境性に優れ、自重による撓み等を防ぎ、平面性が高く、高画質な画像を表示可能な透過型スクリーン及び背面投射型表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for etching a carbon-based material, which does not require heating in particular, and keeps very excellent flatness and mask selection ratio, and can obtain a shape faithful to the shape of a mask and a high etching rate.例文帳に追加

特別な加熱を必要とせず、極めて良好な平坦性及びマスク選択比を保ち、且つマスク形状に忠実な形状及び高いエッチング速度を得ることができる炭素系材料のエッチング方法を提供する。 - 特許庁

4. Among reflectors used to control the direction of light and with a flatness of 316.5 nanometers or less, those in which the diameter of the mirror surface of which or the length of the major axis of which exceeds 100 millimeters, and in which control bandwidth exceeds 100 hertz 例文帳に追加

(四) 光の方向を制御するためのものであって、平面度が三一六・五ナノメートル以下のもののうち、鏡面の直径又は長軸の長さが一〇〇ミリメートルを超え、かつ、制御の帯域幅が一〇〇ヘルツを超えるもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

例文

To provide an original illumination device that achieves improvement in flatness of illuminance distribution in a main-scanning direction and high-illuminance illumination without causing upsizing, and secures safety of the device; and to provide an image reader.例文帳に追加

大型化せずに主走査方向の照度分布の平坦性向上、かつ高照度照明の実現、および装置の安全性の確保などを実現することができる原稿照明装置および画像読取装置を提供する。 - 特許庁


例文

To provide a method for manufacturing a silicon carbide semiconductor device and an apparatus for manufacturing a silicon carbide semiconductor device which can apply a resist to a silicon carbide wafer in which a non-flatness defect exists without coating unevenness.例文帳に追加

本発明は、非平坦欠陥が存在する炭化珪素ウエハに対して塗布ムラなくレジストをコーティングすることが可能な炭化珪素半導体装置の製造方法及び炭化珪素半導体装置の製造装置の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a tunable filter wherein wavelength independent variable operation with low loss and flatness spectral characteristics are made possible and to provide a wide band wavelength tunable laser which uses the same and wherein a high output stable oscillation mode can be selected.例文帳に追加

低損失でかつ波長無依存可変動作および平坦性スペクトル特性が可能な波長可変フィルタおよびそれを用いた高出力でかつ安定な発振モード選択を可能にする広帯域波長可変レーザを提供する。 - 特許庁

To provide a base material for a multilayer wiring board by which a thin multilayer wiring board can be obtained without failing connection reliability between a conductive resin composition and a conductive circuit and lowering the flatness of the board.例文帳に追加

導電性樹脂組成物と導電回路部の接触信頼性を損なうことなく、しかも基板の平滑性を低下させることなく薄い多層配線基板を得ることができる多層配線基板用基材を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing an epitaxial wafer of high surface flatness while reducing crystal defect in an SiC epitaxial wafer, the SiC epitaxial wafer obtained by it and a semiconductor device produced on the wafer.例文帳に追加

SiCエピタキシャルウエハ中の結晶欠陥を低減しながら表面の平坦性の高いエピタキシャルウエハを作製する方法、これによって得られたSiCエピタキシャルウエハ、及び同ウエハ上に作製された半導体装置を提供する。 - 特許庁

例文

A resistor is provided on a semiconductor substrate through a field oxide film, and a first metal wiring is provided on the resistor, and an intermetallic interlayer film with good flatness having a hygroscopic film is formed on the first metal wiring.例文帳に追加

半導体基板上にフィールド酸化膜を介して抵抗体を設け、抵抗体上に第一の金属配線を設け、第一の金属配線上に吸湿性膜を含む平坦性の良い金属間層間膜を形成する。 - 特許庁

例文

To realize a piezoelectric resonator which is small in insertion loss, and which is high in frequency selectivity by using a piezoelectric film having high crystallinity and excellent flatness in a piezoelectric resonator using an acoustic mirror.例文帳に追加

音響ミラーを用いた圧電共振器において高い結晶性と優れた平坦性とを有する圧電膜を用いることを可能にし、挿入損失が小さく且つ周波数選択性が高い圧電共振器を実現できるようにする。 - 特許庁

To provide nickel powder having a small average grain size, a uniform grain size and a high sintering starting temperature, and having excellent dispersibility in electrically conductive paste and flatness when being made into an internal electrode.例文帳に追加

ニッケル粉末の平均粒径が小さく、かつニッケル粉末の粒径が均一で、さらに焼結開始温度が高く、導電ペーストにおける分散性および内部電極とした場合の平坦性に優れたニッケル粉末を提供すること。 - 特許庁

To provide a method for producing a polyethylene naphthalate resin which provides the dimensional stability over humidity without deteriorating excellent characteristics of the glass transition temperature, the flatness of the surface or the like when making a film in a polyethylene naphthalate resin product.例文帳に追加

得られるポリエチレンナフタレート樹脂にガラス転移温度やフィルムにしたときの表面の平坦性などの優れた特性を損なうことなく、湿度変化に対する寸法安定性を具備させるポリエチレンナフタレート樹脂の製造方法の提供。 - 特許庁

The thin aluminum nitride film 4 to which hydrogen is added in order to improve the chemical stability in the thin aluminum nitride film 4 to which the hydrogen is added and the surface flatness of the thin aluminum nitride film 4 is subjected to the plasma treatment.例文帳に追加

水素が添加された窒化アルミニウム薄膜4内の化学的安定性及び窒化アルミニウム薄膜4の表面平坦度を向上させるために水素が添加された窒化アルミニウム薄膜4をプラズマ7で処理することにある。 - 特許庁

To prevent the lowering of the flatness of bonding electrodes resulting from the difference of the quantities of shrinkages in the baking processes of a ceramic layer and the bonding electrodes in a multilayer ceramic plate board with the bonding electrodes for a wire bonding.例文帳に追加

ワイヤボンディングのためのボンディング電極を備える多層セラミック基板において、セラミック層とボンディング電極との焼成工程での収縮量の差が起因して、ボンディング電極の平面度が低下することを防止する。 - 特許庁

To obtain a substrate for a display device easily lightened in weight and thinned, strong againt impact, excellent in flatness and adhesion to an ITO electrode, easily manufactured, excellent in gas barrier properties under high humidity and exhibiting high performance over a wide range.例文帳に追加

軽量化・薄型化が容易で、衝撃に強く、平面性、ITO電極との密着性に優れ、製造が容易で、更に、高湿下でのガスバリヤ性に優れ、広帯域において高性能を示す表示装置用基板を得る。 - 特許庁

To provide an optical sheet which produces no warp due to environmental change such as temperature and humidity and can display good video by keeping flatness and which can be easily manufactured and further to provide a surface light source device and a transmission type display device equipped with the optical sheet.例文帳に追加

温度や湿度等の環境の変化による反り等が生じず、平面性を保って良好な映像を表示でき、容易に作製できる光学シート、及び、これを備えた面光源装置、透過型表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for filling the holes of a flat body in which reliability of the product and flatness of the upper layer are enhanced without causing any problem of contamination by preventing formation of a significant recess on or under a filler.例文帳に追加

充填物の上や下にさほど大きな凹みができないようにして,製品の信頼性や上層の平坦性の向上を図り,また汚染の問題も生じないようにした板状体の穴埋め方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a magnetic circuit device, which can easily secure desired flatness as to a mounting face for attaching it to an external apparatus without enlarging itself or dropping the efficiency of a magnetic circuit, and its manufacturing method.例文帳に追加

磁気回路装置が大型化したり磁気回路の効率を低下させることなく、外部機器へ取り付けるための取付面について所望の平面度を容易に確保することができる、磁気回路装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing surface plate capable of providing favorable flatness on a grinding material by preventing large abrasion of a pellet at an intermediate part of W dimensions in comparison with pellets on inner and outer peripheral parts without depending on fastening density of the pellet.例文帳に追加

ペレットの固着密度に依存することなく、W寸法の中間部におけるペレットが内外周部のペレットに比して大きく摩耗するのを防止し、被削材に良好な平坦度を得ることのできる研磨定盤を提供する。 - 特許庁

The wafer 10 for an active layer is peeled in a high flatness from a cleaved surface in a hydrogen-bubble forming region in the case of a heat treatment at a low temperature because the (111) wafer is adopted as the wafer 10 for the active layer for a laminated SOI substrate.例文帳に追加

貼り合わせSOI基板用の活性層用ウェーハ10として(111)ウェーハを採用したので、低温熱処理時、活性層用ウェーハ10は水素バブル形成領域の劈開面から高い平坦性で剥離される。 - 特許庁

To provide a stacked compound acoustic system which maintains sound image localization satisfactorily even though acoustic systems with various different opening dimensions are combined with each other and has high flatness of a sound pressure frequency characteristic to provide high sound quality.例文帳に追加

口径寸法が様々に異なる音響装置同士を組み合わせても、音像定位が良好に維持され、なおかつ音圧周波数特性の平坦度が高く高音質の積層型複合音響装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a solution casting film forming method of a polycycloolefin film low in hygroscopicity and moisture permeability, reduced in a change in optical characteristics with respect to a change in environmental temperature and humidity and excellent in film flatness, free irregularity and surface properties.例文帳に追加

吸湿性、透湿性が小さく、環境温湿度変化に対して光学特性変化が少なく、かつムラのないフィルム平面性、面状に優れた環状ポリオレフィンフィルムの溶液流延製膜方法を提供する。 - 特許庁

To provide a heat radiation device for an optical transceiver, which improves heat radiation efficiency by reducing contact thermal resistance between an optical transceiver case and a heat sink without improving the flatness of a thermal contact surface between the optical transceiver case and the heat sink and is allowed to be inserted/ejected.例文帳に追加

光トランシーバ筐体とヒートシンクとの熱的接触面の平坦度を高めることなく、両者間の接触熱抵抗を小さくして放熱効率を向上させ、挿抜操作が可能な光トランシーバの放熱装置を提供する。 - 特許庁

The amount-of-flatness measurement section 41 is set at a position separated by measurement distance 47 that is 0.5 to 1.5 times larger than a pipe diameter 45 in the direction of the straight pipe 35a from a pipe connection section 43, namely a connection section of a bent pipe 37 and the straight pipe 35a.例文帳に追加

扁平量測定部41は、曲管37と直管35aとの接続部である管接続部43から、直管35aの方向に、管径45の0.5〜1.5倍の測定部距離47離れた位置に設定される。 - 特許庁

To provide a substrate suitable for forming an electrical conductive layer with a high smoothness, a high flatness and a low enough resistance from even a dispersion or a paste of electrically conductive fine particles, an electrically conductive substrate and an electrical field effective transistor.例文帳に追加

平滑性、平坦性が高く、導電性微粒子の分散液やペーストからでも十分に抵抗の低い導電層の形成に適した基板、導電性基板およびそれを用いた有機電界効果型トランジスタを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a biaxially oriented thermoplastic resin sheet having uniform various physical properties such as uniform thermal, optical, mechanical properties and the like along a widthwise direction, excellent thermal dimensional stability and mechanical properties and good flatness.例文帳に追加

幅方向に沿って熱的、光学的、機械的などの諸物性が均一であり、かつ熱寸法安定性、機械的特性にも優れ、平面性も良好な二軸配向熱可塑性樹脂シートの製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing printed wiring board by which a printed wiring board containing insulating resin layers having uniform thicknesses and excellent flatness can be obtained while the wiring board maintains ideal sectility in a step of cutting and dividing a connected printed wiring board into individual printed wiring boards.例文帳に追加

切断個分け工程における好適な切断性を維持しつつ、樹脂絶縁層の厚みが均一であって平坦性に優れたプリント配線基板を得ることができるプリント配線基板の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a source solution for bismuth compound that can reduce the use of the solvent in the formation of bismuth-containing thin film through the chemical vaporization deposition (CVD) process and can give the thin film of good flatness over a wide range of the substrate temperature.例文帳に追加

溶液気化CVD法によるビスマス含有薄膜の作製において溶媒の使用量を少なくすることができ、かつ広い基板温度範囲で平坦性の良い膜が得られる、ビスマス化合物の原料溶液を提供する。 - 特許庁

To form a mounted board which has low resistivity and is highly reliable without a defect of short-circuiting between electrodes, even when a resin circuit board of a poor flatness of the board itself naturally is mounted with a semiconductor device with a short distance between electrode terminals.例文帳に追加

元々基板自体の平坦度の悪い樹脂回路基板と電極端子間の距離が短い半導体装置を実装する場合でも、電極間ショート欠陥をなくして低抵抗で信頼性の高い実装体を形成する - 特許庁

To replace a stamper more easily and rapidly, to provide a substrate having a processing mark improved in thickness, flatness, inner and outer diameters and eccentiricity and a final data memory article and to facilitate the production of a single substrate double-side disk.例文帳に追加

より容易でより速いスタンパ交換を提供し、厚さ、平坦さ、内外径および同心性等の改良された処理印を有する基板および最終データ格納物品を提供し、単一基板両面ディスクの製造を容易にする。 - 特許庁

To make thickness of an area applied with a sealing material thin, and improve flatness of RF-ID media themselves, in the RF-ID media constituted by applying the sealing material for sealing an IC module.例文帳に追加

封止材が塗布されることによってICモジュールが封止されて構成されるRF−IDメディアにおいて、封止材が塗布された領域の厚さを薄くすることができ、RF−IDメディア自体の平坦性を向上させる。 - 特許庁

By holding the object to be inspected between plate members arranged in parallel to each other to support the same, the flatness of the object to be inspected can simply be ensured and the accurate inspection of the flaw can be performed.例文帳に追加

本発明は,互いに平行に配置された板部材の間に前記検査対象物を挟んだ状態で支持することにより,前記検査対象物の平坦度を簡単に確保し,精緻な欠陥検査を行うことを図ったものである。 - 特許庁

This maintains the flatness of the flexible wiring board 60 even if the waste board 72 deforms or warps due to heat during reflow, since only part of the flexible wiring board 60 is coupled to the waste board 72.例文帳に追加

これにより、例えば、リフロー時の熱によって捨て基板72に変形や反りが発生しても、フレキシブル配線基板60は一辺でのみ捨て基板72に連結されているため、フレキシブル配線基板60の平面性は維持される。 - 特許庁

Consequently, only an influence of steps of the emitter through holes TH2 provided in an insulating film having a thick film thickness is exerted at a maximum on a surface of an emitter electrode 17 of a second layer, and flatness of the electrode surface of the second layer is improved.例文帳に追加

これにより、2層目のエミッタ電極17表面では、最大でも、膜厚が厚い絶縁膜に設けられたエミッタスルーホールTH2の段差の影響しか及ばず、2層目の電極表面の平坦性が向上する。 - 特許庁

Thus, the flatness is improved to eliminate a difference in abrasive amount between the workpieces, to shorten the polishing time, and to simplify handling, so that a polishing product such as a small-diameter disk having excellent quality is manufactured with favorable production efficiency.例文帳に追加

それにより、平面度に優れ、被加工物間の研磨量の差が少なくなり、研磨加工時間が短縮され、ハンドリングが簡素化され、品質に優れた小径ディスクの研磨製品を良好な生産効率で製造することができる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing the matrix of a mold for molding an optical element, capable of removing the clogging with a resist and capable of applying a coating agent while well keeping the flatness of a base material, the matrix, a mold for molding the optical element and a coating apparatus.例文帳に追加

レジストの目詰まりを除去可能であって、且つ基材の平面性を良好に維持しつつ塗布剤を被覆できる光学素子成形用金型の母型の製作方法、母型、光学素子成形用金型及び塗布装置を提供する。 - 特許庁

To solve the problem that when an etchant such as hydrofluoric acid etc. is continuously supplied to and sucked from between a glass board and the surface of a workpiece such as a semiconductor substrate etc. by a processing head, the shape of the tip surface of the processing head affects the high flatness processing.例文帳に追加

加工ヘッドによりフッ酸等のエッチャントをガラス基板、半導体基板等の被加工物の表面との間に連続的に供給し吸引する際に、加工ヘッド側の先端面の形状が高平坦度の加工に影響を及ぼす。 - 特許庁

To provide a curable resin composition for planarized films, capable of forming a coating film excellent in flatness over its surface with no defects caused by bumping of a solvent, and to provide planarized films and display devices using the same.例文帳に追加

溶剤の突沸に起因する欠陥等を発生せず、塗膜全体にわたって平坦性に優れる塗膜を形成することができる平坦化膜硬化性樹脂組成物、平坦化膜及びそれを用いた表示装置等を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor wafer manufacturing method of manufacturing a wafer, which is of high quality and high flatness and where process modified layers generated not only in a slicing process but also in a laser marking process are eliminated, with a high yield.例文帳に追加

高い平坦度に対応可能で、スライシング工程で生じた加工変質層だけでなく、レーザマーキング工程で生じた加工変質層も除去された高品質且つ歩留まりの高いウエハを製造する半導体ウエハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a delay filter which improves flatness of group delay time characteristics in a pass band, suppresses deterioration of insertion loss to extend the pass band, and can be made compact, and by which yield can be improved, by simple configuration.例文帳に追加

簡単な構成で、通過帯域内における群遅延時間特性の平坦性を改善できると共に、挿入損失の劣化を抑制して通過帯域を広げることができるようにし、しかも、小型化並びに歩留まりの向上を促進させる。 - 特許庁

To provide a method for forming an alignment layer completely removing air bubbles included in a polymer solution film and imparting excellent flatness and uniformity and high degree of cross linking to the alignment layer and to provide a method for manufacturing a liquid crystal device.例文帳に追加

高分子溶液膜に内包された気泡を完全に除去できるとともに、平坦性と均一性が高く、架橋度の高い配向膜を形成することができる配向膜の形成方法及び液晶装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an abrasive powder which can be applied to the polishing of a film containing copper and a barrier film, and can polish the respective films to the level capable of satisfying the flatness in a proper polishing time, while solving the miscellaneous problems which may occur when polishing the respective films.例文帳に追加

銅を含む膜の研磨およびバリア膜の研磨に適用可能であり、各膜の研磨で起こりうる各種の課題を解決しつつ、平坦性を満足できるレベルで、かつ、適正な研磨時間で研磨することができる研磨剤の提供。 - 特許庁

Thereby, even if annealing at a temperature of 600-700°C after forming the EL luminescent layer 10 causes softening of the overcoat layer 6, flatness of a surface of the high-temperature stabilization layer 7 on the overcoat layer 6 is kept high to prevent a dielectric breakdown of the EL luminescent layer 10.例文帳に追加

EL発光層10の形成後に600〜700℃でアニール処理してオーバーコート層6が軟化しても、当該層上の高温安定化層7の表面の平面性は高く保たれ、EL発光層10の絶縁破壊が防止できる。 - 特許庁

To provide a tool for processing optical components which is excellent in a processing efficiency and permits to finish the flatness of processing end faces of an optical components placed on a tool main body with high precision, and is further able to prevent chipping, chips, or the like from occurring on the optical components.例文帳に追加

加工効率に優れるとともに治具本体に設置された光部品の加工端面の平面度を高精度に仕上げ、さらに光部品にチッピングや欠け等が生じるのを防止することのできる光部品の加工治具を提供する。 - 特許庁

To provide a solid-state imaging device in which the influence on electric characteristic etc. due to distortion, is reduced by suppressing the generation of the distortion due to following of an imaging element to a substrate surface, even when the imaging element is joined to the substrate surface having insufficient flatness.例文帳に追加

平坦度が不十分な基板面に撮像素子が接合された場合でも、撮像素子が基板面に沿うことによる歪みの発生が抑制され、歪みによる電気的特性等への影響が軽減された固体撮像装置を提供する。 - 特許庁

In this case, since the boss parts are each in planar contact with the optical filter in the prescribed area including the contact points S with the steel balls, the optical filter is parallelly pressurized toward the steel balls, positioned and held, with the flatness unimpaired.例文帳に追加

このときに、ボス部のそれぞれが鋼球との接触点Sを含む所定の領域で光学フィルタに面接触していることにより、光学フィルタは、平行に鋼球へ向けて押圧され、平面性が損なわれることなく位置決めされて保持される。 - 特許庁

In order to measure the flatness of the bump of an LSI package as a work, a CAD data figure 12' is displayed on a CRT, and a measuring route for continuously measuring the multitude of bumps using a laser probe is automatically generated on the basis of CAD data.例文帳に追加

ワークとしてのLSIパッケージのバンプの平面度を測定するため、CADデータ図形12´をCRT上に表示させ、レーザプローブを用いてこの多数のバンプを連続で測定するための測定ルートをCADデータに基いて自動生成する。 - 特許庁

According to the method, the flatness of the end face of the electrode 16 is easily improved, and the grinding quantity is consistently ensured, and the labor required for the maintenance of a resistance welding equipment can be reduced.例文帳に追加

この手法によれば、作業者の技量に左右されることなく、電極16の端面の平面度の向上および研削量の安定化を図ることを容易とし、抵抗溶接装置のメンテナンスに要する労力を軽減することが可能となる。 - 特許庁

例文

To provide a semiconductor device which can secure a breakdown voltage between first and second wiring layers in an SAC part, can reduce the contact resistance, and can improve the flatness of an interlayer insulating film.例文帳に追加

本発明は、SAC部分における第1配線層と第2配線層間の絶縁耐圧を確保するとともにコンタクト抵抗を低下させ、さらに層間絶縁膜の平坦性が向上されている半導体装置を提供することを目的としている。 - 特許庁




  
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※この記事は「日本法令外国語訳データベースシステム」の2010年9月現在の情報を転載しております。
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