「flatness」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

The carriage 5 is formed of a flexible raw material such as a synthetic resin in which no reinforcing material is mixed and the shape of the carriage 5 is made to conform with the metal plates 51a and 53a for reinforcement, thereby securing the flatness of the carriage 5.例文帳に追加

また、キャリッジ５を補強材を混入させない合成樹脂その他、柔軟性を有する素材で構成することにより、キャリッジ５の形状を補強用板金51a 、53a に倣わせてキャリッジ５の平面度を確保できるようにする。 - 特許庁

To provide polishing solution for metal with high flatness which excels in microfabrication, film thinning, dimensional precision, and electrical characteristics, and applies preferably to a semiconductor device at low cost with high reliability, and to provide a polishing method using the polishing solution for metal.例文帳に追加

微細化、薄膜化、寸法精度、電気特性に優れ、信頼性が高く、低コストの半導体デバイスに好適である平坦性が高い金属用研磨液、並びにその金属用研磨液を用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing device capable of effectively eliminating the unevenness produced on the polishing surface of a polishing pad and prolonging the life of the polishing pad as well as polishing the subject polished surface of a subject polished base with high accuracy and flatness.例文帳に追加

研磨パッドの研磨面に生じる凹凸を効果的に解消し、被研磨基板の被研磨面を精度良く平坦に研磨でき、且つ研磨パッドの寿命を長くできるポリッシング装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a composition for polishing capable of polishing the whole of functional materials with high efficiency and securing excellent polishing characteristics in surface roughness, flatness, shape stability and so on.例文帳に追加

機能性材料全般の研磨を高能率で行うことが可能であり、表面粗さ、平坦度、形状安定性などの点で良好な研磨特性を確保できる研磨用組成物を提供することを解決すべき課題とする。 - 特許庁

The fluid seal is formed only by the capillary end face having high flatness by allowing adhesion so that a stress strain of several micrometers is generated in the longitudinal direction of the capillary, within a range wherein a capillary damage caused by excess pressing is not generated between two pieces of the capillaries.例文帳に追加

２片のキャピラリの間で過押圧によるキャピラリの破損が起こらない範囲で、キャピラリの長手方向に、数μｍの応力歪みが生じるように密着させ、平坦度の高いキャピラリ端面のみで流体シールを形成する。 - 特許庁

For this, a flatness at a part outside a one-dot broken line as shown in figure 3(a), or a part where the frame part 31 on one surface of the body 1 is anodically bonded is free from deterioration, and bonding strength of the frame part 31 and the body 1 is prevented from deteriorating.例文帳に追加

このため、ボディ１の一表面におけるフレーム部３１が陽極接合される部分（図３（ａ）の一点破線より外側の部分）の平坦度が劣化せず、フレーム部３１とボディ１との接合強度の低下が防止できる。 - 特許庁

To provide a pressure-sensitive printing paper housing case and a printer using such a case whereby flatness and smoothness of the pressurizing surface of a platen can be secured so that it is possible to establish a uniform pressurizing phenomenon for the pressure-sensitive printing sheet of paper.例文帳に追加

感圧プリント用紙に対する一様な加圧現像を行い得るようにプラテンの加圧表面の平坦性ないし平滑性を確保し得るようにした感圧プリント用紙収容ケース及びこれを用いたプリンタを提供すること。 - 特許庁

The elastic body has a thickness (Tr) satisfying 1/2Th<Tr<1/2Tm, wherein Th is the maximum value of the flatness of the printing surface of the thermal head and Tm is the maximum permissible value of deformation permitted to the card medium.例文帳に追加

弾性体は、サーマルヘッドの印字面の平面度の最大値がＴｈ、カード媒体に許容される変形量の許容値の最大値がＴｍであるとき、 「 １／２Ｔｈ ＜ Ｔｒ ＜ １／２Ｔｍ 」 を満足する厚さ（Ｔｒ）を有する。 - 特許庁

Thereafter, the thickness profile of a substrate wafer is measured over its entire area, the measured thickness profile is added to each of the layer thickness profiles measured under the various different layer formation conditions and stored, and the flatness of manufactured wafers manufactured under the various different layer formation conditions are predicted.例文帳に追加

その後、素材ウェーハの全域での厚み形状を測定し、それに、記憶しておいた種々の成膜条件下での膜厚形状をそれぞれ加算して、種々の成膜条件下での製品ウェーハの平坦度を予測する。 - 特許庁

In a calculation method for the parallelism and the flatness, the sample is moved by a fixed distance along a direction perpendicular to a bottom face of the prism, a change of the interference fringe is image-processed, and calculation is carried out as to the respective obverse and reverse faces, by a phase shift method.例文帳に追加

平行度及び平面度の計算方法は、試料をプリズムの底面に垂直な方向に一定の距離で動かし、干渉縞の変化を画像処理し、表裏それぞれの面について位相シフト法により計算する。 - 特許庁

To obtain a conjugated diene-based rubber composition that is excellent in Mooney viscosity even in a high temperature condition, in color and in aging stability of surface flatness in the case when it is molded in a sheet form, and is environmently friendly.例文帳に追加

高温条件下であってもムーニー粘度、色相、及びシート状に成形した場合における表面平滑性の経時安定性に優れているとともに、環境に対する配慮のなされた共役ジエン系ゴム組成物を提供する。 - 特許庁

To attain high flatness polishing without transferring of seal members for maintaining vacuum to a polishing pad even when the polishing pad is of low stiffness in a polishing device detachably holding the polishing pad by vacuum suction.例文帳に追加

研磨パッドを真空吸着作用で着脱可能に保持する研磨装置において、研磨パッドが低剛性のものであっても、真空度を維持するためのシール部材が研磨パッドに転写されず高い平面度の研磨を達成する。 - 特許庁

To provide a polishing pad capable of achieving, needless to say, highly accurate polishing finish requiring extremely high smoothness and flatness, and capable of improving polishing efficiency much higher than that of a conventional polishing pad.例文帳に追加

きわめて高度な平滑度および平坦度が求められる高精度の研磨仕上げを行うことはいうまでもなく、従来の研磨パッドよりも格段に優れた研磨能率を向上させることを可能にする研磨パッドを提供する。 - 特許庁

Flatness is reduced at a part 24 being impacted by balancing a compressive stress and a tensile stress acting when the steel plate is bent to have L-shaped cross-section against a force acting when the steel plate is bent to have U-shaped cross-section.例文帳に追加

これにより、鋼板を断面Ｌ字形状に折り曲げると作用する圧縮応力及び引張り応力と、断面Ｕ字形状に折り曲げると作用する力とを均衡させることで、被打撃部２４の平坦度を小さくする。 - 特許庁

Thereby, since the relative displacement of the base part (measurement point) 13D to the base parts (supporting point) 13A to 13C of three points as the standard can be measured, the flatness after the assembly in the vacuum chamber 10 can be controlled.例文帳に追加

これにより、基準となる３点の台座部（支持点）１３Ａ〜１３Ｃに対する台座部（測定点）１３Ｄの相対変位を測定することが可能となるので、真空チャンバ１０内における組み立て後の平面度管理を実現できる。 - 特許庁

To provide a composition for a color filter protective film which is capable of forming a color filter protective film excellent in transparency and flatness and having high surface hardness, and which makes it possible to achieve a low temperature in protective film formation.例文帳に追加

透明性および平坦性に優れ、表面硬度の高いカラーフィルター保護膜を形成することが可能で、かつ保護膜作成時の温度が低温であることを可能とする、カラーフィルター保護膜用組成物を提供すること。 - 特許庁

To enable a heating device, equipped with a ceramic heater and supporting member supporting it from a rear face side, to maintain flatness of a heating face at use, while suppressing cost of the supporting member and making design change easier.例文帳に追加

セラミックヒーターとこれを背面側から支持する支持部材とを備える加熱装置において、支持部材のコストを抑制し、設計変更を容易にする一方で、使用時の加熱面の平面度を良好に維持できるようにする。 - 特許庁

To provide a method and a device for forming the temperature distribution of a semiconductor wafer at the time of polishing in which a high flatness wafer can be obtained by acquiring the temperature distribution of a semiconductor wafer at the time of polishing and making the polishing rate uniform in the wafer plane.例文帳に追加

研磨時の半導体ウェーハの温度分布を取得し、ウェーハ面内の研磨レートを均一化させ、高平坦度ウェーハを得る半導体ウェーハの研磨時の温度分布作成方法およびその作成装置を提供する。 - 特許庁

To provide an inorganic particle aggregate excellent in yield, high bulkiness, surface flatness, printing aptitude and oil absorption on papermaking, which can not be obtained by using conventional regenerated inorganic particles, by using waste materials such as papermaking sludge, as raw materials.例文帳に追加

原料として製紙スラッジ等の廃棄物を使用し、従来の再生無機粒子では得られなかった、製紙時における歩留性、嵩高性、表面平坦性、印刷適性、吸油性に優れた無機粒子凝集体を提供する。 - 特許庁

Even when the photographic film F is pressed in the slit port 34 for reading the picture frame, since light is transmitted through the glass roller 32, there is no trouble and since flatness in the slit hole 34 is kept, the image information can be read precisely.例文帳に追加

画像コマを読み取るスリット口３４で写真フィルムＦを押えても、光がガラスローラ３２を透過するので読取りの支障はなく、また、スリット口３４での平坦性が保たれるので、画像情報が正確に読み取れる。 - 特許庁

However, since the flatness difference between the adjoining reflecting planes of the rotary polygon mirror is limited to 1.5λ or less, the misalignment of the exposure position is suppressed in the main scanning direction, and banding and white stripe generation due to density decrease can be prevented.例文帳に追加

しかしながら、回転多面鏡の隣接する反射面同士の平面度差が１．５λ以内とされているため、露光位置の主走査方向ずれが抑制され、濃度低下によるバンディングや白スジの発生を防止できる。 - 特許庁

To provide a multi-layered ceramics substrate, capable of suppressing the generation of air gaps around an inner conductor and easy to remove residue after firing a contraction suppressing material while permitting the improvement of dimensional accuracy, surface flatness or the like.例文帳に追加

内部導体周辺の空隙の発生を抑えることができ、収縮抑制材の焼成後の残渣の除去が容易で、寸法精度、表面平坦性等を向上することが可能な多層セラミックス基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing agent in which even if a polishing surface contains an interlayer dielectric of a low dielectric constant, the polishing surface having a high flatness is obtained, and further polishing scratches after polished can be suppressed; and a chemimechanical polishing method using the same.例文帳に追加

被研磨面に低誘電率の層間絶縁膜が含まれていても平坦性が高い被研磨面が得られ、さらに研磨後の研磨キズを抑制できる研磨液、及びそれを用いて化学機械研磨する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a vacuum zipper for holding a substrate which can suppress the diffuse reflection of an exposure and which can maintain the substrate in a high flatness state even when a light transparent substrate having a wide area used for a liquid crystal display, etc. is exposure-treated.例文帳に追加

液晶ディスプレイ等に用いられる広面積の光透過性基板を露光処理する場合であっても、露光の乱反射を抑止でき、しかも、該基板を高い平面度状態に維持できる基板保持用真空チャックを提供する。 - 特許庁

To provide a method of realizing a polygon mirror for a high speed revolution having ruggedness for preventing the attachment of dust on a light reflective face at a high speed revolution and a light reflective face which has an excellent mechanical strength and an excellent flatness.例文帳に追加

高速回転時における光反射面への塵埃付着を防ぐ為の凹凸形状と機械的強度に優れかつ平滑性に優れた光反射面を有する高速回転用ポリゴンミラーを実現する方法を提供する。 - 特許庁

The scallop adductor muscle having a flatness ratio, i.e. the ratio of diameter/thickness (height), of ≥1.8 and a well-regulated shape is obtained by flattening the adductor muscle taken out by opening the shells of a fresh scallop by imparting electric stimulation, and freezing the adductor muscle directly.例文帳に追加

ホタテ生鮮貝を、開殻して摘出した貝柱に電気的刺激を付与して偏平化させて、そのまま冷凍し、偏平率、すなわち直径／厚さ（高さ）の比、が１．８以上でかつ形の整ったホタテ貝柱を得る。 - 特許庁

As for the projection type display device with the mirror for reflecting the image from a projector toward a screen, the device is provided with an adjusting mechanism for changing the flatness of the mirror on the peripheral part of the mirror in accordance with the necessary part unit of the mirror.例文帳に追加

投写装置からの映像をスクリーンに向けて反射させるミラーを有する投写形表示装置において、該ミラーの平面度を、該ミラーの必要部分単位に応じ該ミラーの周囲部で変化させる調整機構を備える。 - 特許庁

To provide a both-sided mirror surface semiconductor wafer which includes a front surface and a back surface differing in surface roughness within a predetermined range and has superior flatness by performing finish polishing on one surface of a material wafer by using a both-side polishing device.例文帳に追加

両面研磨装置を用いて、素材ウェーハの片面を仕上げ研磨して、表面と裏面とで表面粗さが所定の範囲でそれぞれ異なり、優れた平坦度を有する両面鏡面半導体ウェーハを提供する。 - 特許庁

The Zirconia-based ceramic secures the required rigidity for the tablet forming, not generating the corrosion and rust in terms of material, and owing to wear resistance and also the flatness of the surface, reduced in labor for maintenance, etc., to enhance productivity.例文帳に追加

ジルコニア系セラミックは、錠剤成形にかかる所要の剛性を確保しており、材質的に腐食や錆が発生せず、耐摩耗性や表面も平滑であるためメンテナンス等にかかる手間が低減され生産性も向上する。 - 特許庁

To improve flatness on the peripheral part of a semiconductor wafer and to prolong the service life of abrasive cloth in a double side polish device by canceling the distribution of load on the peripheral part of the wafer and the central part of the wafer in wafer polishing.例文帳に追加

半導体ウエハ研磨においてウエハ周辺部と、ウエハ中央部の荷重分布を解消して、ウエハ周辺部の平坦度を向上させること、並びに、両面ポリッシュ装置において研磨クロスの長寿命化を図る。 - 特許庁

To correct partial wear of upper and lower surface plates of a lapping device during working, improve the flatness of a lapped semiconductor wafer, and reduce loss due to a fraction of the semiconductor wafers, generated when the wafer is loaded on a carrier.例文帳に追加

ラッピング装置の上下定盤の偏磨耗を加工中に修正し、半導体ウェーハのラッピングによる平坦度を向上させるとともに、キャリアに装填の際に発生する半導体ウェーハの端数による損失を減らす。 - 特許庁

To provide a construction method for tank roof capable of facilitating the construction work to the lower surface of the roof by removing a large number of supportings for supporting the roof from below when the dome-like roof having difficulty in self-standing with low rigidity and high flatness is constructed.例文帳に追加

剛性が低く且つ偏平度の高い自立困難なドーム型の屋根を建築するにあたり、屋根を下方から支える多数の支保工を撤去して、前記屋根下面に対する敷設作業を容易に行い得るようにする。 - 特許庁

To provide a metal polishing solution with a high polishing rate in the barrier layer and a high flatness which is suitable for semiconductor devices featured by miniaturization, thinner film, dimensional accuracy, electrical characteristics, high reliability and low cost, and a polishing method using this solution.例文帳に追加

微細化、薄膜化、寸法精度、電気特性に優れ、信頼性が高く、低コストの半導体デバイスに好適な、バリア層の研磨速度が大きく、平坦性が高い金属用研磨液及びこれを用いた研磨方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a membrane structure element which is easy to manufacture and has superior durability by improving the bondability of metal wiring to a membrane base member or/and improving the flatness of the membrane base member, and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

製造が容易で、メンブレンベース部材に対する金属配線の接合性を向上させ、あるいはさらにメンブレンベース部材の平坦性を向上させて、耐久性に優れたメンブレン構造素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a hydrogen storage material consisting essentially of Mg which has a high reaction rate and reduced hysteresis while making the most of high hydrogen storage capacity and excellent plateau flatness in a PCT (Pressure-Composition-Temperature) chart characteristic of Mg metal.例文帳に追加

Ｍｇ金属の特徴である高い水素貯蔵能力と、ＰＣＴ線図における優れたプラトー平坦性とを活かしながら、反応速度が速く、ヒステリシスが小さい、Ｍｇを主成分とする水素貯蔵材料を提供する。 - 特許庁

To provide an inexpensive anisotropic conductive tape pasting device of simple configuration, capable of surely pasting, in good quality, an anisotropic conductive tape on a glass substrate under a low pressurizing force, even if parallelism and flatness of a pasting tool are not very accurate.例文帳に追加

ガラス基板に異方性導電テープを、低加圧力で、貼り付けツールの平行度や平面度が高精度で無くとも、品質良く確実に貼り付けられる、シンプルな構成で安価な異方性導電テープ貼付装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a method and equipment for controlling the polishing temperature of a semiconductor wafer uniformly in which a high flatness wafer can be obtained by making the temperature uniform in the polishing surface of a semiconductor wafer at the time of polishing and making the polishing rate uniform in the polishing surface.例文帳に追加

研磨時の半導体ウェーハの研磨面内の温度を均一化し、この研磨面内の研磨レートを一定化して、高平坦度ウェーハを得る半導体ウェーハの研磨温度均一化制御方法およびその装置を提供する。 - 特許庁

To provide a surface mounting connector capable of suppressing deformation of its housing and of maintaining the flatness of its terminals stably by reducing a thermal expansion difference between the upper surface and the lower surface of the housing due to a temperature difference in the housing during a reflow process.例文帳に追加

リフロー処理におけるハウジング内の温度差から生じるハウジング上面と下面の熱膨張差を緩和することで、ハウジングの変形を抑制し、端子の平坦度を安定に保つ表面実装コネクタを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing method of a semiconductor substrate with a protective film for obtaining the semiconductor substrate with a protective film having the other surface of high flatness without damaging the protective film formed on one surface and contributable to cost reduction by reducing a polishing quantity.例文帳に追加

一表面に形成された保護膜を損傷することなく、他表面が高平坦度の保護膜付半導体基板が得られ、かつ研磨量が少なくコストダウンに寄与できる保護膜付半導体基板の研磨方法を提供する。 - 特許庁

By this constitution, since the drying air is sent out while rectified and the occurrence of a sucking wind or an accompanied wind can be suppressed, oblique irregularity or thickness irregularity is reduced to produce the polymer film excellent in flatness.例文帳に追加

これにより、乾燥風を整流しながら送り出すことができ、吸い込み風や同伴風の発生を抑制することができるので、斜めムラや厚みムラを低減して平面性に優れたポリマーフイルムを製造することができる。 - 特許庁

To provide a separator for a polymer electrolyte fuel cell low in contact resistance between the surface of the fuel cell separator and carbon paper and high in flatness; and to provide the manufacturing method of the separator for the polymer electrolyte fuel cell.例文帳に追加

固体高分子型燃料電池用セパレータにおいて、燃料電池セパレータ表面のカーボンペーパーとの低接触抵抗性および平坦性に優れた固体高分子型燃料電池用セパレータおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an aqueous polishing slurry having a high CMP rate and less scratch and dishing, and enabling fabrication of an LSI having improved flatness, and to provide a chemical mechanical polishing method employing the aqueous polishing slurry.例文帳に追加

保存性に優れ、迅速なＣＭＰ速度を有し、スクラッチが少なく、平坦性が向上したＬＳＩの作製を可能とする水系研磨液、及び、前記水系研磨液を用いた化学機械的研磨方法を提供すること。 - 特許庁

To maintain flatness of a peripheral embedded insulating film without reducing reflectance of a reflection electrode in a step for removing a protective film in a manufacturing method of a semiconductor device and in a manufacturing method of a reflection type liquid crystal display.例文帳に追加

半導体装置の製造方法及び反射型液晶表示装置の製造方法に関し、保護膜の除去工程において、反射電極の反射率を低下することなく、周辺の埋込絶縁膜の平坦性を維持する。 - 特許庁

To provide a polishing agent in which even if a surface to be polished contains an interlayer dielectric of a low dielectric constant, the surface to be polished having a high flatness is obtained, and further polishing scratches after polished can be suppressed; and to provide a chemimechanical polishing method using the same.例文帳に追加

被研磨面に低誘電率の層間絶縁膜が含まれていても平坦性が高い被研磨面が得られ、さらに研磨後の研磨キズを抑制できる研磨液、及びそれを用いて化学機械研磨する方法を提供する。 - 特許庁

Therefore, the flatness of the reference plane can be maintained at a high level and the variety of measurement and equipment adjustment, for example, the adjustment between the outputs of sensors of a multipoint AF system can be performed with high accuracy.例文帳に追加

従って、基準平面の平坦度を高く維持することができ、この基準平面を利用した種々の計測、機器の調整、例えば多点ＡＦ系のセンサ出力相互間の調整を高精度に行うことが可能になる。 - 特許庁