「flatness」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a lockup clutch mechanism, wherein a front cover is readily manufactured by a simple structure, torque capacity is secured and also durability is improved by securing the flatness of a front cover under a lockup state.例文帳に追加

簡素な構成でフロントカバーを容易に作製でき、ロックアップ状態におけるフロントカバーの平面度を確保することにより、トルク容量を確保することができるとともに、耐久性を向上させることができるロックアップクラッチ機構を提供すること。 - 特許庁

To obtain a ceramic molded body with excellent flatness, in a method for manufacturing a thin-plate-like ceramic molded body by a gel cast method using a mold formed with an opening communicated with a molding space on its upper flat face.例文帳に追加

成形型としてその上面の平面にて成形空間に通じる開口が形成された形式のものを使用したゲルキャスト法による薄板状のセラミック成形体の製造方法において、平面度が良好なセラミック成形体を得ること。 - 特許庁

The seamless belt made of polyimide resin keeps flatness ≤0.5mm even when it is strongly tensioned by setting tensile load at the time of elongation by 1% in the circumferential direction of the seamless belt to ≥25N, so that the stable image is formed even between rolls.例文帳に追加

ポリイミド系樹脂製シームレスベルトの周方向の１ ％伸長時の引張荷重を２５Ｎ以上にすることで張力を強くかけたときでも平面度を０． ５ｍｍ以下に保つことができ、ロール間でも安定した画像が形成できる。 - 特許庁

To provide a piezoelectric device which avoids characteristic deterioration due to the diffusion of a component metal of a piezoelectric material and peeling of a film when the piezoelectric material is formed and improves the crystallinity and the flatness of the piezoelectric material, and to provide a manufacturing method of the piezoelectric device.例文帳に追加

圧電体の構成金属の拡散による特性低下を回避するとともに、圧電体の形成時の膜のはがれを回避し、さらに、圧電体の結晶性および平坦性を向上させる圧電デバイスおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁

Air bubbles can be uniformly fed to the whole filtering membrane surface by combining a filtering disk 24 of a metallic membrane of which the flatness of the filtering membrane surface is secured by rigidity with supply of the air bubbles to the filtering disk 24 by an aeration device 16.例文帳に追加

剛性によりろ過膜面の平坦性が確保される金属膜のろ過盤２４と、曝気装置１６によるろ過盤２４への気泡の供給とを組み合わせたことにより、気泡はろ過膜４８Ｂ面全体に満遍なく供給することができる。 - 特許庁

To provide a polyamide foam having a uniform foam structure and being usefully usable as a polishing pad being capable of improving the flatness and flattening efficiency of the surface to be polished, and having a longer life than the conventional.例文帳に追加

均一な発泡構造を有し、被研磨面の平坦性および平坦化効率の向上が達成でき、かつ使用時間を従来のものより延長することができる、研磨パッドとして有用に使用することができるポリアミド発泡体を提供する。 - 特許庁

Since the relative position in the rotating direction of the retainer 36 is variable to the wafer 27 (the chuck plate 26), the pressing of the retainer 36 is uniformized over the whole outer peripheral part of the wafer 27 so as to improve the flatness of the wafer 27.例文帳に追加

リテーナ３６がウェーハ２７（チャックプレート２６）に対して、回転方向の相対位置が可変であるため、リテーナ３６による押圧をウェーハ２７の全外周部において均一化することができ、ウェーハ２７の平坦度を向上させることができる。 - 特許庁

A carrier level measurement circuit 110 measures the power level of each carrier that is an output of the FFT 240, and a flatness measurement circuit 120 obtains a variance of the power levels to discriminate whether or not the window circuit 220 correctly extracts one effective symbol.例文帳に追加

このとき、ウィンドウが正しく１有効シンボルを切り出しているかどうかを、ＦＦＴ２４０の出力である各キャリアのパワーレベルをキャリアレベル測定回路１１０で測定し、平坦度測定回路１２０で分散を求めることで判定する。 - 特許庁

To facilitate the management of the flatness of bonding parts and enable the compression-bonding process of integrated circuit elements to variously large liquid crystal display panels in a bonding device in which the integrated circuit elements are bonded to the liquid crystal display panel.例文帳に追加

液晶表示パネルに集積回路素子を付着するボンディング装置において、ボンディング部の平坦度の管理を容易にし、且つ、様々な大きさの液晶表示パネルに対しても集積回路素子の圧着工程が行えるようにする。 - 特許庁

Thus, the layer 22 of the laser 29 is retained in a slightly cut state on the substrate 21, and hence the flatness of a substrate layer is held, when an AlGaInP semiconductor laser 38 is second time grown.例文帳に追加

こうして、ｎ型ＧaＡs基板２１上にＡlＧaＡs系半導体レーザ２９のｎ型ＧaＡsバッファ層２２を僅かに削り込んだ状態で残しておき、２回目にＡlＧaＩnＰ系半導体レーザ３８を成長する際における下地層の平坦性を保つ。 - 特許庁

To obtain a waveguide plate which can suppress the deterioration of the transmission characteristic of a high frequency signal with a low cost without requiring a high working accuracy and flatness for the contact surface of a plate, and which can realize the miniaturization of the apparatus without constraints in component mounting.例文帳に追加

プレートの当たり面に高い加工精度、平坦度を要求することなく、高周波信号の伝送特性の劣化を抑制できるとともに、安価で、部品実装に制約がなく、装置の小型化を実現できる導波管プレートを得ること。 - 特許庁

Flatness of the principal surface of the thermoplastic substrate 3 and the thin film 2 transferred to the principal surface can be made satisfactory, and the film 2 having a property being sufficient for the thermoplastic substrate 3 of which the heat resistance is low.例文帳に追加

熱可塑性基板３の主面、およびその主面に転写された薄膜２の平坦性を良好にすることができ、耐熱性の低い熱可塑性基板３に対しても充分な特性を有する薄膜２を形成することができる。 - 特許庁

To provide a composite filter for display which is formed by laminating an electromagnetic shielding sheet and a functional layer via a flattened layer, has an antireflection function and high transparency, is high in surface flatness of the functional layer and is thin in thickness.例文帳に追加

電磁波遮蔽シートと機能層を平坦化層を介して積層したディスプレイ用複合フィルタであって、反射防止機能とともに、高い透明性を有し、機能層の表面平坦性が高く、且つ厚みが薄い複合フィルタを提供する。 - 特許庁

To obtain a desired performance as a semiconductor device by realizing good denseness of the outermost layer and flatness of a surface in a bump wherein a low melting point metal including Sn is formed in the outermost layer by an electroless plating method.例文帳に追加

無電解めっき法によって、Ｓｎを含む低融点金属を最表層に形成したバンプのおいて、その最表層の緻密性及び表面における平坦性を良好にして、半導体装置が所望の性能を得られるようにする。 - 特許庁

To provide a reflective mask blank having uniform thickness and high flatness when mounted as a reflective mask on an electrostatic chuck of an exposure apparatus, and capable of achieving high pattern transfer accuracy.例文帳に追加

本発明は、その厚みが均一であり、反射型マスクとされた際に露光装置の静電チャックへ装着した場合の平坦性が高く、高いパターン転写精度を実現することが可能な反射型マスクブランクスを提供することを主目的とする。 - 特許庁

To provide a plush pile fabric with pile handleability and soft touch compatible with each other through comprising nonshrinkable acrylic fibers with flat cross section of a specific flatness range and nonshrinkable acrylic fibers ≤2.2 dtex in fineness in a specific ratio.例文帳に追加

特定範囲の扁平比を有する扁平断面のアクリル系非収縮繊維と、繊度が２．２デシテックス以下のアクリル系非収縮繊維を、特定の比率で含有することによって、毛さばき性とソフトな触感を両立するパイル布帛を得る。 - 特許庁

A scanning electron microscope 1 having an automatic focusing function is provided with a coordinate navigation function which allows setting measurement points arbitrarily and an output function for plotting thickness distribution based on the measured data, for measuring flatness of a wafer.例文帳に追加

オートフォーカス機能を有する走査型電子顕微鏡１に測定箇所を任意に設定可能な座標ナビゲーション機能と、計測したデータに基づいて厚さ分布を描画する出力機能を搭載することによりウェーハの平坦度の測定する。 - 特許庁

As an alternative, blood flow activation blocks 11 are placed on the desired parts of the palm 10a or the back 10b of the hand between the glove body and the reinforcing member keeping the flatness of the inner surface of the glove and protruding the reinforcing member outward.例文帳に追加

また、手の平部１０ａや甲部１０ｂの所望部分に、血流活性化ブロック１１を、手袋本体と補強部材との間において、手袋本体の内面を面一とし、かつ、補強部材を外側に突出させた状態で設ける。 - 特許庁

To provide a resin-sealed semiconductor apparatus and its manufacturing method which can make wiring on a position of a substrate directly under a die pad, hardly cause mold defects such as unfilling and voids of a sealing resin, allow easy processing and molding of leads, and improve the flatness of external terminals.例文帳に追加

ダイパッドが位置する直下の基板に配線することができ、封止樹脂の未充填やボイド等の成形品欠陥が発生し難く、リードの加工成形が容易であり、外部端子の平坦度を向上させることを目的とする。 - 特許庁

To improve the flatness of group delay time characteristics, and to make a group delay time of a specific frequency band long or short by making unevenness in the group delay time characteristics uneven so as to cope with various specifications by a simple configuration.例文帳に追加

簡単な構成で、種々の仕様に対応して、群遅延時間特性の平坦性の改善や、群遅延時間特性に凹凸を設けて特定の周波数帯域の群遅延時間を大きく、あるいは小さくすることができるようにする。 - 特許庁

To provide a machining method of a semiconductor silicon wafer which can improve a good product coefficient in the manufacturing process by providing good semiconductor wafers from those once determined as defective in the external appearance and flatness thereof andcan provide good products at a lower cost.例文帳に追加

外観および平坦度において不良と判定された半導体ウェーハを良品化して、製造時の良品率の向上が図れ、かつ、低コストで良品化加工が可能な半導体シリコンウェーハの加工方法を提供するものである。 - 特許庁

To provide a liquid crystal display having a color filter in which a color filter non-formed part formed in the color filter can be accurately formed and flatness of the surfaces on the color filter and on a light shielding film is enhanced and which is hardly peeled.例文帳に追加

本発明はカラーフィルタ中に形成するカラーフィルタの非形成部を精度よく形成することができ、カラーフィルタ及び遮光膜上の表面の平坦度が向上し、剥離しにくいカラーフィルタを有する液晶表示装置を提供することである。 - 特許庁

To provide a transmission type display device capable of displaying an excellent image while keeping a flatness without occurrence of deformation such as warping due to environmental variation in temperature and humidity and equipped with a surface light source device using an optical sheet easy to produce.例文帳に追加

温度や湿度等の環境の変化による反り等の変形が発生せず、平面性を保って良好な映像を表示でき、容易に作製できる光学シートを用いた面光源装置を備える透過型表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing device capable of preventing excess and deficiency of the polishing quantity at a peripheral edge of a semi-conductor wafer 4, performing polishing of high flatness, and intentionally controlling the polishing quantity at the peripheral edge of the semi-conductor wafer 4.例文帳に追加

半導体ウエハ４の周縁部における研磨量の過不足を防止し、より平坦度の高い研磨を行うことができ、また半導体ウエハ４の周縁部の研磨量を意図的に増減することができるポリッシング装置を提供する。 - 特許庁

The polishing pad is formed into a doughnut-like shape and changes the opening diameters so as to reduce the dispersion of the surface roughness of the polishing surfaces of the outer circumference part and the inner circumference part and uniformize the accuracy of the parallelism and the flatness, thereby improving the manufacturing efficiency.例文帳に追加

研磨パッドをドーナツ状の形状とし開口径を変化させることにより、ワークの外周部と内周部での研磨面の面粗さのバラツキの減少、平行・平坦度等の精度の均一性が図られ生産効率の向上を達成する。 - 特許庁

To provide a technique for obtaining an optical reflection mirror constituted by forming a reflection film on the surface of a base plate composed of an SiC-Si composite material with which the reflection film free from cracks is easily formed and which has ultra-precision surface roughness and flatness.例文帳に追加

亀裂のない反射膜の形成が容易であり、なおかつ超精密な表面粗さと平面度を有しているＳｉＣ−Ｓｉ複合材料からなる基板の表面に反射膜を形成してなる光学反射ミラーを得る技術を提供する。 - 特許庁

To require a grinding tool effective for environmental antipollution measures by providing precise finishing satisfying flatness without imparting deep polishing streaks to a body to be polished, providing high polishing capability, suppressing surface working deterioration and providing biodegradation.例文帳に追加

被研磨体に深い研磨条痕を与えることなく、平坦性を満たした精密な仕上がりが得られ、研磨能力が高く、表面加工変質を抑え、尚かつ、生分解性があって環境汚染対策に有効な砥石が求められている。 - 特許庁

To provide a method for treating the surface of a resin board, capable of improving the adhesion between the resin board and a conductor layer while maintaining the flatness of the interface between them and also capable of suppressing the flocculate precipitation of photocatalyst microparticles during light irradiation.例文帳に追加

樹脂基板と導体層の界面の平坦性を維持しつつ、両層の密着性を向上させ、ならびに光照射中の光触媒微粒子の凝集沈殿を抑制できる樹脂基板の表面処理方法を提供する。 - 特許庁

This invention provides the method for reducing mosquito distortion characterized in that a filter coefficient for the video signal is varied by using a lookup table on the basis of a maximum value of a contour within a prescribed range at a noted point of the video signal and flatness around the noted point.例文帳に追加

前記映像信号の着目点における所定の範囲内の輪郭の最大値と、前記着目点付近の平坦度からルックアップテーブルを用いて映像信号のフィルター係数を可変とすることを特徴とするモスキート歪み低減方法。 - 特許庁

A beam-receiving part 13 for receiving the measuring beam and reference beam reflected by the half mirror 19 to made them interfere with each other and converting a change in interference intensity to an electrical signal and counting the electrical signal to measure the flatness of the measuring surface is provided.例文帳に追加

ハーフミラー１９で反射された測定光と参照光を受光して干渉させ、この干渉光強度変化を電気信号に変換し、この電気信号をカウントして測定面の平坦度を測定する受光部１３を設ける。 - 特許庁

As a result, during cutting of the ingot that tension is increased, while high flatness can be obtained by suppressing the warp of the silicone wafer W, a load applied to the winding side reels 20, 21 is reduced, the deformation of the reels 20, 21 can be suppressed, and the damage of the reels 20, 21 can be prevented.例文帳に追加

結果、張力を増したインゴット切断時、シリコンウェーハＷのワープを抑えて高平坦度が得られる一方、巻取り側のリール２０，２１に作用する負荷は軽減し、リール２０，２１の変形が抑えられ、その損傷を防げる。 - 特許庁

Furthermore, by polishing both surfaces with neither of the two surfaces fixed immovable, the in-plane irregularities of the surface 10a may be eased by the in-plane irregularities of the rear surface 10b, and, as the result, the epitaxially grown surface 10a is improved in terms of flatness and in-plane thickness dispersion.例文帳に追加

また両面基準で研磨することにより、表面１０ａの面内の凹凸を裏面１０ｂの面内の凹凸で緩和することができ、エピタキシャル成長面１０ａの平坦度および厚さの面内バラツキを改善することができる。 - 特許庁

Thereby, the workpiece placement table can be made light in weight and stiff, the aggravation of flatness caused by the deflection by the self-weight can be controlled, an effect of a moving device on the moving accuracy can be made small and the resonance of the workpiece placement table during the annealing can be avoided.例文帳に追加

被処理体載置台を軽量且つ剛性化し、自重たわみよる平面度の悪化を抑えることができ、移動装置の移動精度への影響を少なくし、アニール処理中の被処理体載置台の共振を避けることができる。 - 特許庁

This manufacturing method of a substrate for a magnetic disk is characterized in that in polishing the glass substrate by lapping by use of a lapping machine, the platen accuracy is set to 180μm or less, and the glass substrate is polished so that the flatness (TIR value) reaches 5μm or less.例文帳に追加

ラップ定盤を用いてガラス基板をラッピングにより研磨するに際して、定盤精度を１８０μｍ以下に設定して、ガラス基板の平坦度（TIR値）が５μｍ以下になるまで研磨することを特徴とする磁気ディスク用基板の製造方法。 - 特許庁

To solve such problems that a sheet is cut in the longitudinal direction or the edges of sheet are removed after the sheet is exposed to light without applying tension, or the flatness of the product is degraded due to undulation occurring on the sheet.例文帳に追加

シートに張力をかけずに露光を行なった後、長さ方向に裁断するか、もしくはシートの耳を取り除いたり、波打ちが生じて、製品の平面性が損なわれる恐れがあった点を解消することを課題とするものである。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which includes a process for forming a silicon oxide film that can be formed at low temperature, and has superior surface flatness, recessed part burying properties, and step coverage, and also has a superior film forming speed; and to provide a substrate processing apparatus.例文帳に追加

低温での成膜が可能であり、表面平坦性、凹部埋めこみ性、ステップカバレッジに優れ、成膜速度にも優れるシリコン酸化膜の形成工程を有する半導体デバイスの製造方法および基板処理装置を提供する。 - 特許庁

In such a manner, the group-III nitride semiconductor crystal in which a "-c surface" (N polarity surface) is a surface having excellent surface flatness and high crystallinity (tilt components and twist components are both small and a through dislocation density is low) is obtained.例文帳に追加

このようにすると、表面平坦性に優れ且つ高い結晶性（チルト成分とツイスト成分が共に小さくしかも貫通転位密度が低い）を有している「−ｃ面」（Ｎ極性面）を表面とするIII族窒化物半導体結晶が得られる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a discrete track (DIR) medium by which burrs produced in a substrate process type DTR manufacturing process is effectively removed, the flatness of au upper plane of a projecting part is excellent, and a recording/reproducing process using a low floating head can be performed.例文帳に追加

基板加工型ＤＴＲ媒体製造工程において生じるバリを効果的に除去し、凸部上面の平坦性が良好で、低浮上ヘッドを用いた記録再生が可能なＤＴＲ媒体を製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide a method by which the impurity band light-emission of a crystal can be reduced, the crystal having good transparency can be obtained, and the flatness of the crystal can be improved when a GaN single crystal is grown by a flux method using a Ga-Na-based melt.例文帳に追加

Ｇａ−Ｎａ系融液を用いてＧａＮ単結晶をフラックス法で育成するのに際して、結晶の不純物帯発光を低減し、透明度の良好な結晶を得、結晶の平坦性も向上させる方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sintered compact for a magnetic head slider which is capable of reducing the difference in level of an air bearing surface and having sufficient flatness of a polished surface, the magnetic head slider using the same and a method of manufacturing the sintered compact for the magnetic head slider.例文帳に追加

エアベアリング面の段差の低減を図ることができかつ十分な研磨面の平坦性を有する磁気ヘッドスライダ用焼結体、これを用いた磁気ヘッドスライダ、及び磁気ヘッドスライダ用焼結体の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a metal heater in which a distance between a heated material of a semiconductor wafer or the like and a heating surface of the heater can be made constant, and the heated material of the semiconductor wafer or the like can be heated uniformly, because the flatness of the heating surface is secured.例文帳に追加

加熱面の平坦性が確保されるため、半導体ウエハ等の被加熱物とヒータの加熱面との距離を一定にすることができ、半導体ウエハ等の被加熱物を均一に加熱することができる金属ヒータを提供すること。 - 特許庁

By this, after the mold release of the resin molded article 11 is carried out, the time difference until the temperature of an end surface 3 of a cylinder rod shape falls into a normal temperature becomes fixed, the deformation by the contraction difference in this part is inhibited, thereby improving the flatness of an end surface 3.例文帳に追加

これにより樹脂成形品１１が離型された後、円筒形状の端面３の温度が常温に下がるまでの時間差が一定となり、この部位における収縮差による変形が抑制され、端面３の平面度が改善される。 - 特許庁

To provide a support tape capable of reducing the damage of wafer even if it is an extremely thin wafer of about 50 μm thick, and capable of obtaining a semiconductor wafer thin film and an IC tip with a smooth polished surface, by supporting the wafer to a supporting board with good flatness.例文帳に追加

支持板にウエハを平面性よく支持することにより、厚さ５０μｍ程度の極めて薄いウエハであってもウエハの破損を低減でき、研磨面が平滑な半導体ウエハ薄膜及びＩＣチップを得られる支持テープを提供する。 - 特許庁

To provide a construction method and a structure of a flat ground or a court superior in economic efficiency and workability for maintaining flatness of a surface, by increasing ground bearing power by re-improving the lower layer ground such as the artificial lawn ground without performing asphalt pavement.例文帳に追加

アスファルト舗装を行わずに、人工芝グランド等の下層地盤の再改良を施して地盤支持力を増強し、表面の平坦性を維持する経済的で施工性に優れた平坦なグランド又はコートの施工方法及び構造を提供する。 - 特許庁

To improve working efficiency, to improve a yield of a material, to reduce weight, to secure flatness of a mounting surface with a car body even when arc welding is adopted, to reduce the number of processes and to shorten working time.例文帳に追加

作業効率を向上させ、材料の歩留りをよくすると共に、重量を軽減させ、さらに、アーク溶接を採用しても車体との取付面の平面が確保でき、かつ、工程数を減少させて作業時間を短縮したサスペンションフレームを得る。 - 特許庁