「flatness」に関連した英語例文の一覧と使い方(51ページ目) - Weblio英語例文検索

The force which the work contact part 12h presses the work 16 can be adjusted every at the respective movable parts 12d by adjusting a degree of tightening of the screw 22 and the flatness of the work 16 can be adjusted and set at a high accuracy.例文帳に追加

ネジ２２の締め具合を調整することで、ワーク接触部１２ｈがワーク１６を押圧する力を各可動部１２ｄ毎に調整することができ、ワーク１６の平坦度を高い精度で調整し設定することができる。 - 特許庁

The plate-shaped glass preform 2 which has ≤0.8 mm thickness and whose principal surface has 0 to 30 μm flatness in 7,088 mm^2 (95 mm×95 mm×π) is formed by lapping the surface of a plate-shaped glass.例文帳に追加

板状ガラスの表面をラッピング加工して、厚さ０．８ｍｍ以下、主表面の平坦度が７０８８ｍｍ^２（９５ｍｍ×９５ｍｍ×π）において０μｍ以上３０μｍ以下である板状のガラス母材２を形成する。 - 特許庁

To increase flatness by restraining warpage generated in a metal mask unit without enhancing rigidity by increasing the thickness of a frame, in a metal mask unit having a structure where a metal mask with tension applied thereto is fixed to a window frame-like frame.例文帳に追加

窓枠形状のフレームにテンションを付加した状態のメタルマスクを固定した構造のメタルマスクユニットにおいて、フレームの厚さを増大させて剛性を高めることなくメタルマスクユニットに生じる反りを抑制して平面度を高める。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an uneven pattern film with good flatness and with less spots when arranging a reflection preventing layer on a formed uneven pattern film by which a uniform uneven pattern can be obtained in continuous production.例文帳に追加

連続生産において、均一な凹凸パターンが得られるとともに平面性にも優れ、更に形成された凹凸パターンフイルム上に反射防止層を設けたとき斑が少ない凹凸パターンフイルムの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The substrate after lapped has a surface state superior in flatness that waviness of 1.0 nm or smaller, minute swelling of 1.5 nm or smaller, dub off of 150 nm or smaller and roll off is 12 nm or smaller.例文帳に追加

研磨後の磁気ディスク用基板は、うねり：１．０ｎｍ以下、微小うねり：１．５ｎｍ以下、ダブオフ：１５０ｎｍ以下、ロールオフ：１２ｎｍ以下の平坦性に優れた表面性状を有する高記録密度、大容量に適した磁気ディスク用基板となる。 - 特許庁

To manufacture a steel sheet such as a thick steel plate, a flat bar and a wide flat bar which is excellent in flatness of the end face of a product at excellent dimensional accuracy by suppressing the generation of meandering during rolling and by a method which is excellent in practicality.例文帳に追加

製品の端面の平坦度に優れた厚鋼板や平鋼さらには広幅平鋼等といった鋼板を、圧延中の蛇行の発生を抑制して優れた寸法精度で、かつ実用性に優れた方法で製造する。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for manufacturing a functional film, preventing the deterioration of flatness of a coating film which causes a defect such as crack/omission of an inorganic film when forming the inorganic film on the coating film with a vacuum film-forming apparatus.例文帳に追加

真空成膜装置によりコーティング膜上に無機膜を成膜する際に、無機膜の割れ／抜け等の欠陥を引き起こすコーティング膜の平滑性悪化を防止する機能性フィルムの製造方法、及び製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polyester film which, while maintaining low moisture absorption property, dimensional stability, flatness and transparency which are the characteristics of a polyester film, combines resistance to pinhole formation by flexing and impact resistance required as a film for a packaging material.例文帳に追加

ポリエステルフィルムの特長である、低吸湿性、寸法安定性、平面性、透明性を維持したままで、かつ、包装材料用フィルムとして要求される耐屈曲ピンホール性、耐衝撃性を併せ持つポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To realize a method for manufacturing an exposure mask which is effective to solve a problem on the lowering of the yield of a product caused by the deterioration of the flatness of a mask base plate by chucking the mask base plate on the mask stage of a wafer aligner.例文帳に追加

ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックすることによりマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効な露光マスクの製造方法を実現すること。 - 特許庁

The excellent sheet face flatness of the very thin cold rolled steel sheet (nearly 0.25 mm or less) can be secured using the hot rolled steel sheet obtained by the above method without adding any special conditions and limitations to the cold rolling operation.例文帳に追加

本発明により得られる熱延鋼板を使用することにより、冷間圧延に特別な条件や制限を付加することなく、極薄厚冷延鋼板(概ね0.25mm以下)の優れた板面平坦性を保証することができる。 - 特許庁

The auxiliary member 51 and the packing pad 29 are installed on a flat film member 33, covered with a weight 34 having a predetermined weight and high flatness, and stored in, for example, in clean room for, for example, at least one or two days.例文帳に追加

この補助部材５１とバッキングパッド２９とを平坦なフィルム部材３３上に設置し、所定の重量を有し平坦度の高い重り３４を被せて、例えばクリーンルームにおいて、例えば少なくとも１日から２日間保管する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition for a protective film, having good adhesiveness to a color layer, high transmittance, excellent flatness and good durability when a transparent electrode is formed, and to provide a color filter having the protective film formed thereon.例文帳に追加

着色層との密着性が良好で、透過率が高く、平坦性に優れ、また、透明電極を形成させる場合の耐性も良好な保護膜用感光性組成物、及びその保護膜を形成したカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a mask substrate by which a degradation problem in the flatness of a mask substrate due to chucking the mask substrate to the mask stage of a wafer exposure apparatus is eliminated and decrease in the production yield can be prevented.例文帳に追加

ウェハ露光装置のマスクステージにマスク基板をチャックすることによりマスク基板の平坦度が悪化することに起因する、製品歩留まりの低下の問題を解決するために有効なマスク基板の製造方法を実現すること。 - 特許庁

To obtain a cylindrical body most suitable to a mandrel for vulcanizing a rubber hose having a complicated shape while securing high precision and high flatness in the necessary portions, in the cylindrical body which is made by continuously stacking different materials also in an axial direction.例文帳に追加

異種材料を軸方向にも継続して筒状体を形成できるようにしたものであり、必要な部位の高精度、高平滑を確保しつつ、複雑な形状のゴムホース加硫用のマンドレルに最適な筒状体を得る。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition excellent in various performances of flatness, heat resistance, transparency, chemical resistance or the like, having good degassing property and excellent low dielectric property which can easily form a hardened film in a fine pattern.例文帳に追加

平坦性、耐熱性、透明性、耐薬品性等の諸性能に優れるとともに、脱ガス性が良く、低誘電性に優れ、微細なパターン状硬化膜を容易に形成することができる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

A host computer 20 approximates actual difficulty data D_j indicating difficulty of a pattern of each of pictures using the ME remainder and the flatness and intra-AC and further calculates a target data amount T_j of compressed video data from the approximated actual difficulty data D_j.例文帳に追加

ホストコンピュータ２０は、ＭＥ残差、フラットネスおよびイントラＡＣにより、各ピクチャーの絵柄の難しさを示す実難度データＤ_j を近似し、さらに、近似した実難度データＤ_j から、圧縮映像データの目標データ量Ｔ_j を算出する。 - 特許庁

To provide a plasma display apparatus in which rigidity and surface flatness, with respect to a bending load or a torsional load, are ensured by a press-type chassis base so as to easily disassemble or couple the chassis base and a plasma display panel.例文帳に追加

本発明は、プレス型シャーシベースによってベンディング荷重またはねじれ荷重に対する剛性及び表面の平坦度を確保して、シャーシベース及びプラズマディスプレイパネルの分解または結合を容易にした、プラズマディスプレイ装置を提供する。 - 特許庁

To provide a straightening method of a metallic sheet by a roll straightening machine by which the damage of equipment by an excessive shaft torque caused by the difference between loads received with work rolls in the roll straightening machine for correcting the flatness of the metallic sheet.例文帳に追加

金属板平坦度矯正用ロール矯正機において、作業ロールの受ける負荷の相違に起因して発生する過大軸トルクによる設備破損を防止するロール矯正機での金属板の矯正方法を提供する。 - 特許庁

To easily realize a perpendicular magnetic recording medium having high reliability and a high density magnetic recording apparatus by improving magnetic characteristics and surface flatness of a soft magnetic underlayer and enhansing adhesiveness of the soft magnetic underlayer to a substrate.例文帳に追加

軟磁性下地層の磁気特性や表面平坦性を改善し、さらに基板との密着性を高めることで信頼性の高い垂直磁気記録媒体及び高密度磁気記録装置の実現を容易にすることを目的とする。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an IC medium, such as an IC card capable of freely transmitting/receiving data, an IC tag or a noncontact type IC module built in a mobile terminal, and to improve the flatness and quality of the IC medium.例文帳に追加

本発明は、データ授受の自在なＩＣカード、ＩＣタグ又はモバイル端末内蔵の非接触型ＩＣモジュール等のＩＣメディアの製造方法及びＩＣメディアに関し、平坦化、品質の向上を図ることを目的とする。 - 特許庁

The search processing part 10 individually evaluates the ground surface states (such as planarity, flatness, a degree of inclination and an existing state of an obstacle) of the landing candidate point based on the distance information dij when the landing candidate point is extracted.例文帳に追加

探索処理部１０は、着陸候補地点が抽出された場合、距離情報に基づいて、着陸候補地点の地表状態（例えば、平面性、平坦性、傾斜の度合い、障害物の存在状況等）を個別に評価する。 - 特許庁

By sufficiently lowering the temperature just before winding, the plate-like materials after winding hardly cause warp in a width direction even when the number of winding is high, and besides hardly have winding tendency and thus has excellent flatness even when the winding diameter is small.例文帳に追加

巻き取り直前に十分に低温にすることで、巻き取り後の板状材は、巻回数が多い場合でも幅方向の反りが生じ難い上に、巻き取り径が小さい場合でも巻き癖がつき難く平坦性に優れる。 - 特許庁

To provide a method and an apparatus for manufacturing a two-piece can, by which the two-piece can of which the flatness of the central panel on the can bottom is kept stably even when it is a thin-walled can and which is excellent in the properties of internal pressure inspection is manufactured.例文帳に追加

薄肉缶であっても安定して缶底の中央パネルの平坦度を保つことができ、内圧検査特性に優れた２ピース缶を製造することができる２ピース缶の製造方法及び製造装置を提供する。 - 特許庁

By the structure design of the connection cable 22, bending or entangling deteriorating flatness is prevented, and flexibly of the connection cable 22 facilitates its spread from the housing recess 210 and its housing in the housing recess 210, and consequently, convenience in use is increased.例文帳に追加

接続ケーブル２２の構造設計により、フラットではない反りや絡まりを回避すると同時に、弾力性に富むことで、収納凹部２１０からの展開または収納凹部２１０への収納が容易で、使用上の利便性を高める。 - 特許庁

To provide a color filter substrate in which the retardation is properly adjusted and which has excellent flatness, is formed precisely with a small number of steps and is the most suitable for a transreflective-type liquid crystal display device, and to provide the transreflective-type liquid crystal display device.例文帳に追加

適切な位相差調整が行われており、平坦性に優れ、少ない工程で精度よく形成可能な半透過型液晶表示装置に最適なカラーフィルタ基板及び半透過型液晶表示装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a laser beam machining method capable of executing the efficient scribing work or dividing work of a base material in which its flatness exceeds the permissible range to the focal position of the laser beam due to its deformation by an apparatus of a simple structure.例文帳に追加

変形により平面度がレーザ光の焦点位置に対して許容範囲を超えた基材について、簡単な構造の装置により、効率的なスクライブ加工或いは分断加工を可能とするレーザ加工方法を提供する。 - 特許庁

To provide a built-up spiral contactor having spiral contacts which have a very large contraction rate and have a small mounting area by retaining depth of a yield point in a structure capable of absorbing large variations of flatness of a connection terminal.例文帳に追加

極めて収縮率が大きく、接続端子の平坦性の大きなばらつきを吸収可能な構成で、降伏点の深さを維持して設置面積の小さいスパイラル状接触子を備えたビルトアップスパイラルコンタクタを提供する。 - 特許庁

To provide a polishing pad which prevents a supporting body from being peeled from a polishing layer even if polishing for a long time, suppresses the occurrence of a scratch to a semiconductor wafer as compared with a conventional polishing pad, and polishes a surface into high flatness and smoothness.例文帳に追加

本発明は、長時間研磨しても研磨層と支持体が剥がれることなく、従来の研磨パッドに比べて半導体ウエハへのスクラッチが起こりにくく、高平坦・高平滑に研磨することが可能な研磨パッドを提供する。 - 特許庁

To provide an inkjet recording medium which shows excellent flatness, favorable ink absorption, high quality-image formation, and especially, high glossiness, and further can inhibit the generation of a blur of a formed image over time.例文帳に追加

平面性に優れ、良好なインク吸収性を有し、高画質な画像を形成することができ、特に光沢度が高く、更に、形成された画像の経時ニジミの発生を抑制することができるインクジェット記録媒体を提供する。 - 特許庁

This composition is applied to a copper foil and cured to provide a polyimide laminate having a desired coefficient of thermal expansion (CTE), and exhibiting desired characteristics in film flatness, dimensional stability, peel strength, tensile strength, elongation, and so on.例文帳に追加

この組成物は銅箔上に塗布され、硬化されて、所望の熱膨張係数（ＣＴＥ）を有し、かつフィルムの平坦性、寸法安定性、剥離強度、引張強度、伸びなどが所望の特性を示すポリイミド積層板が提供される。 - 特許庁

To provide a polishing composition with which a polyimide film on a semiconductor substrate is polished at high speed while damage such as a scratch is suppressed and which achieves high flatness after the polishing, and to provide a chemical mechanical polishing method using the same.例文帳に追加

半導体基板上のポリイミド膜を、スクラッチなどの傷の発生を抑制しつつ、高速で研磨することができ、研磨後の高い平坦性を達成しうる研磨用組成物及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a molded substrate for a circuit in which initial flatness is superior, deformation by heat can be prevented and the surface can be formed smoothly by reducing anisotropy of coefficient of linear expansion and coefficient of contraction of molding.例文帳に追加

線膨張率や成形収縮率の異方性を小さくして、初期平面度に優れると共に熱による変形を防止することができ、また表面を平滑に形成することができる回路用成形基板を提供する。 - 特許庁

To provide a sheet unit for printed circuit boards capable of mounting processing by securing flatness of FPC as well as capable of reducing the cost by suppressing working hours and raising usability, and to provide a substrate attachment method using this.例文帳に追加

作業時間を抑えてコストを低減して利便性を高めることができ、ＦＰＣの平坦度を確保して実装処理を行うことができるプリント配線基板用シートユニットおよびこれを用いた基板取付方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing method by which a surface with a high flatness can be stably and certainly obtained at a high polishing speed, using an aqueous solution for chemical mechanical polishing and a polishing pad having a polishing part where abrasive grains are dispersed.例文帳に追加

砥粒が分散された研磨部を有する研磨パッドと化学機械研磨用水系溶液とを用い、大きな研磨速度で且つ高い平坦性を有する面を安定して、確実に得ることができる研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a glass string which can manufacture a thin bar shaped glass string excellent in flatness when forming a glass string by heating and softening a base material glass sheet and by stretching it to a desired thickness.例文帳に追加

母材ガラス板を、加熱炉内で加熱して軟化させ、所望の厚さに延伸してガラス条を成形する場合に、平坦度の優れた薄肉棒状のガラス条を製造することができるガラス条の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a thin flexible wiring board in which the flatness of entire board is appropriate, adhesion between a base film and a metallic wiring is superior, reliability such as bending life or the like is high, micro wiring is formed in high density.例文帳に追加

基板全体の平坦性が良好であるとともに、ベースフィルムと金属配線との密着性に優れ、屈曲寿命等の信頼性が高く、微細な配線が高密度に形成された薄型のフレキシブル配線基板を提供する。 - 特許庁

To form a thin film having excellent flatness by properly releasing a base material from an adhered material obtained by adhering the base material to a substrate by relatively pressing a thin film on the base material to the substrate.例文帳に追加

基材上の薄膜を基板に対して相対的に押圧することによって基材と基板とが相互に密着された密着物から前記前記基材を良好に剥離して優れた平坦性を有する薄膜を形成する。 - 特許庁

The rib 21 for reinforcement is provided to effectively suppress deformation of the mirror substrate 101 in vibration and then the flatness of the mirror surface 115 is maintained, so the optical scan with the stable beam shape can be made.例文帳に追加

この補強用リブ１２１を設けることによって、ミラー基板１０１の振動時における変形が効果的に抑えられてミラー面１１５の平坦性が維持されるため、安定したビーム形状での光走査が可能である。 - 特許庁

To provide a wiring board having a ceramic insulating layer high in flatness, a method for producing the wiring board, and a carrier sheet for forming a green sheet which uses it and can precisely and surely form via holes only in the green sheet.例文帳に追加

平坦度の高いセラミック製の絶縁層を有する配線基板およびその製造方法ならびにこれを用いられグリーンシートにのみビアホールを精度良く確実に形成できるグリーンシート成形用キャリアシートを提供する。 - 特許庁

To sufficiently give the effect of reducing a core loss due to the surface flatness and to improve adhesion of a film to the steel plate surface by effectively removing concentrated oxide near the surface of a grain oriented silicon steel plate.例文帳に追加

一方向性けい素鋼板の表面近傍に濃化した酸化物を効果的に除去して、表面平滑化による鉄損の低減効果を十分に発現させると共に、鋼板表面に対する被膜密着性を高める。 - 特許庁

To provide a comparatively inexpensive belt twist prevention structure for preventing lowering of flatness at the time of extension of a carrying belt within an image forming device such as a PPC, a FAX, an LP and a printer when applying tension force and improving image quality.例文帳に追加

ＰＰＣ，ＦＡＸ，ＬＰ，プリンタ等の画像形成装置内の搬送ベルトのテンション力作用時の延び時における平面性の低下を防止し、画像品質の向上を図る比較的安価なベルト寄り止め構造を提供する。 - 特許庁

According to this constitution, high flatness can be ensured on every divided body 20A, and the pressure force of a conical spring is approximately uniformly added to each divided body 20A through a fixed disc, so that the surface pressure of the rotary disc 20 can be approximately unified.例文帳に追加

この構成によれば、各分割体２０Ａ毎に高い平面度を確保することができ、皿ばねの押圧力が固定ディスクを介して各分割体２０Ａに略均等に加わるため、回転ディスク２０の面圧を略均一にできる。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate with an SOI structure having a very thin strain relief SiGe layer with a very low transition density and with excellent flatness of its surface even if a strained Si channel structure or a strained SiGe structure is employed.例文帳に追加

歪Ｓｉチャネル又は歪ＳｉＧｅチャネル構造を採用するも、転移密度が極めて低く表面の平坦性に優れた極薄の歪緩和ＳｉＧｅ層を有するＳＯＩ構造の半導体基板を提供する。 - 特許庁

This manufacturing method for the substrate comprises a working process for correcting flatness, a working process for correcting surface undulation for polishing the surface of the substrate 1 by a polishing pad 3 having hardness of 70 or more according to JIS K 6253, and a working process for finishing surface roughness.例文帳に追加

平面度修正加工工程と、ＪＩＳ Ｋ ６２５３における硬度が７０以上の研磨パッド３により基板１の表面を研磨する表面うねり修正加工工程と、表面粗さ仕上げ加工工程とからなる。 - 特許庁

To provide a method for closing a through hole which is intended to enhance reliability in products or a flatness of an upper layer, and further in which a problem of contamination does not occur, by not forming so large recesses in a vertical direction of a filler.例文帳に追加

充填物の上下にさほど大きな凹みができないようにして，製品の信頼性や上層の平坦性の向上を図り，また汚染の問題も生じないようにしたスルーホールの閉鎖方法を提供すること。 - 特許庁