「flatness」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide an epitaxial wafer for an AlGaInP-based semiconductor light-emitting element capable of improving surface flatness thereof and yields of emission intensity when manufacturing a diode chip.例文帳に追加

ＡｌＧａＩｎＰ系半導体発光素子用エピタキシャルウェハ表面平坦度およびダイオードチップを製造する際の発光強度の歩留まりを向上できるＡｌＧａＩｎＰ系半導体発光素子用エピタキシャルウェハを提供する。 - 特許庁

Thus the high frequency vibration piezoelectric device 105 can keep the parallelism of the vibrator array, heighten the flatness of the vibrator array, and make a piezoelectric body 107 thin, because the vibrator array is integrally formed as the lattice window.例文帳に追加

このように高周波振動圧電素子１０５は、振動子アレイが連子窓状に一体形成されているため、振動子アレイの平行度を保ち、平面度を高くし、かつ圧電体１０７を薄くすることが可能になる。 - 特許庁

To provide a polyester-based laminated film and a vapor deposition film using the polyester-based laminated film excelling in gas barrier property and also excelling in flatness and interlayer adhesion force in spite of laminating different polyester.例文帳に追加

本発明の目的は、ガスバリア性に優れ、異なるポリエステルを積層しているにも関わらず平面性及び層間接着力に優れるポリエステル系積層フィルム、及びそれを用いた蒸着フィルムを提供することである。 - 特許庁

To prevent resin burr irrespective of the accuracy of flatness of a heat sink in a semiconductor device which exposes the surface on the opposite side to the semiconductor element of a heat sink bonded to a semiconductor element from a mold resin.例文帳に追加

半導体素子に接合されたヒートシンクの半導体素子とは反対側の面をモールド樹脂より露出させてなる半導体装置において、ヒートシンクの平面度の精度に関係なく、樹脂バリ防止を行う。 - 特許庁

It is preferable that the frame deformation due to the temperature change is suppressed so that the flatness is 3 μm or less, the heat treatment temperature is 140 to 250°C and the constitutional material has a Young's modulus of 1 to 80 GPa.例文帳に追加

温度変化によるフレーム変形が平坦度３μｍ以下であること、前記加熱処理温度が１４０〜２５０℃であること、ヤング率が１〜８０ＧＰａである材料で構成されたものであること、がそれぞれ好ましい。 - 特許庁

To manufacture a magnetic recording medium having excellent surface flatness by applying the distribution of a coating thickness according to the lamination deformation of a wound support so as to obtain a coated original sheet in which the lamination deformation is suppressed.例文帳に追加

支持体の巻き状態の積層変形に応じた塗布厚分布を適用して積層変形が抑制された塗布済み原反を得ることによって表面平坦性に優れる磁気記録媒体を製造する。 - 特許庁

To solve the problem wherein, under poor flatness of a floor on which a pallet is placed, when forks are withdrawn from inside the pallet, lower surfaces of the forks press on an upper surface of a bottom deck board of the pallet, and if withdrawn in the state, the forks drag the pallet.例文帳に追加

パレットを設置する床面の精度が悪い場合、フォークをパレット内から抜去する際、フォークの下面がパレットの下デッキボード上面を押しつけてしまい、そのままフォークを抜去するとパレットがを引きずられてしまう。 - 特許庁

To provide a forming method of an application film which has good flatness in the wafer surface by suppressing the deposition of a solute component within a chamber and to provide a baking apparatus and a forming apparatus of the application film.例文帳に追加

チャンバ内での溶質成分の析出を抑えつつ、ウエーハ面内での平坦性が良好な塗布膜を形成することができる塗布膜の形成方法、ベーク装置及び塗布膜の形成装置を提供する。 - 特許庁

To provide a color filter in which adhesion between a colored layer formed by a color resist having a high pigment concentration and an overcoat film is sufficient, and which has excellent ITO resistance, high light transmittance and satisfactory flatness.例文帳に追加

高顔料濃度のカラーレジストにより形成された着色層とオーバーコート膜の密着性が十分であり、かつＩＴＯ耐性に優れ、光線透過率が高く、平坦性の良好なカラーフィルタを提供する。 - 特許庁

Since a build-up wiring layer can be formed on the surface of a low thermal expansion substrate 50 featuring excellent flatness, a conductor circuit 38 featuring fine wiring and excellent thickness accuracy can be formed, achieving a fine pitch.例文帳に追加

平坦性に優れた低熱膨張基板５０の表面にビルドアップ配線層を形成できるので、細い配線や厚み精度に優れた導体回路３８を形成することができ、ファインピッチ化が実現できる。 - 特許庁

To provide a negative type resist composition excellent in transparency particularly to radiation and dry etching resistance as a chemical amplification type resist and giving a resist pattern excellent in sensitivity, resolution, flatness, heat resistance, etc.例文帳に追加

化学増幅型レジストとして特に放射線に対する透明性、ドライエッチング性に優れ、さらに感度、解像度、平坦性、耐熱性等に優れたレジストパターンを与えるネガ型レジスト組成物を提供することにある。 - 特許庁

To provide a polishing device for obtaining a plate glass superior in flatness by evenly polishing the whole surface of a plate glass requiring special rigorous surface accuracy such as a glass substrate for liquid crystal.例文帳に追加

特に厳しい表面精度が要求される液晶用ガラス基板のような板ガラスの全面を均等に研磨でき、平坦性に優れた板ガラスを得ることが可能な研磨装置を提供することを目的とする。 - 特許庁

The flatness ratio (L/H) as a ratio of an axial length L to a radial length H of the torus is less than 0.8, and the impeller 21 has 37 or more impeller blades 27 at a side opposite to the turbine 22.例文帳に追加

トーラスの半径方向長さＨに対する軸方向長さＬの比である偏平率（Ｌ／Ｈ）が０．８未満であり、さらにインペラ２１は、タービン２２に対向する側に３７枚以上のインペラブレード２７を有する。 - 特許庁

To provide a substrate for a vertical magnetic recording medium being superior in flatness, patterning accuracy, and mechanical strength, and its manufacturing method, and a vertical magnetic recording medium using the substrate and its manufacturing method.例文帳に追加

平坦性、パターニング精度および機械的強度に優れた垂直磁気記録媒体用基板およびその製造方法、並びに、その基板を用いた垂直磁気記録媒体およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device excelling in surface flatness by improving uniformity of a polishing speed in polishing an isolation oxide film by a CMP method, in a semiconductor device using a trench type isolation oxide film for element isolation.例文帳に追加

素子分離にトレンチ型分離酸化膜を用いた半導体装置において分離酸化膜をＣＭＰ法で研磨する際の研磨速度の均一性を向上して表面平坦性の良好な半導体装置を得る。 - 特許庁

To provide a flattened film-forming composition suppressing generation of striation of a film surface and forming a flattened film with excellent flatness in a coating by spin coating without using a surfactant.例文帳に追加

界面活性剤を用いることなく、スピンコーティングによる塗布において、膜表面のストリエーションの発生を抑え、また、平坦性に優れた平坦化膜を形成する平坦化膜形成用組成物を提供すること。 - 特許庁

According to a selectively pattern forming method, a conductive film is formed on openings formed in an insulation film, i.e., between recesses and protrusions to provide a flatness over the surfaces of the conductive film and the insulation film.例文帳に追加

選択的にパターンを形成可能な方法により、導電膜を絶縁膜に形成された開口部、つまり凹部と凸部の間に形成し、導電膜と絶縁膜の表面が平坦性を有することを特徴とする。 - 特許庁

The transparent adhesive 11 is in a sheet form and prevents misalignment and distortion of the sheets 13 to 15 by laminating the respective members as well as improves the rigidity of the light controlling sheet material 16 to maintain the flatness degree.例文帳に追加

透明粘着剤１１はシート状であり、各部材を貼り合わせることで、シート１３〜１５の位置ズレ及び撓みを防止すると共に、調光シート材１６の剛性を向上して平面度を維持する。 - 特許庁

To provide a mirror surface grinding method of a semiconductor wafer to improve the flatness of the semiconductor wafer by preventing the grinding of only an outer circumferential surface to be mirror-ground of the semiconductor wafer from being promoted.例文帳に追加

半導体用ウエハの鏡面加工面が外周部のみ研磨が促進されされないようにすることによって、半導体用ウエハの平坦度を向上させる半導体用ウエハの鏡面研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing solution with which a polyimide film on a semiconductor substrate is polished fast while damage such as a scratch is suppressed to achieve high flatness after the polishing, and a chemical mechanical polishing method using the same.例文帳に追加

半導体基板上のポリイミド膜を、スクラッチなどの傷の発生を抑制しつつ、高速で研磨することができ、研磨後の高い平坦性を達成しうる研磨液及びそれを用いた研磨方法を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for vapor phase growth for improving flatness and cleanliness of the film formed on a silicon wafer substrate.例文帳に追加

シリコンウェーハ基板上の形成膜の平坦度を向上させるための気相成長装置及び気相成長方法、また、清浄度を向上させるための気相成長装置及び気相成長方法を提供する。 - 特許庁

To improve display quality of a liquid crystal display by suppressing level difference in the contact part between a source electrode and a pixel electrode to improve flatness of the outermost surface and reducing the area of the contact part.例文帳に追加

ソース電極と画素電極のコンタクト部の段差を抑制して最表面の平坦性を改善し、当該コンタクト部の面積を小さくすることによって液晶表示装置の表示品質を向上させる。 - 特許庁

To provide a method for producing an aluminum alloy thick plate in which productivity is excellent, the control of surface conditions and flatness is facilitated, and plate thickness precision is improved, and to provide an aluminum alloy thick plate.例文帳に追加

生産性に優れ、表面状態および平坦度の制御が容易であり、板厚精度を向上させたアルミニウム合金厚板の製造方法およびアルミニウム合金厚板を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor laminated film in which flatness is obtained at an interface between an Si substrate and a metal layer formed adjacent thereto so as to reduce junction leakage at the Si/metal interface in a semiconductor device or the like.例文帳に追加

半導体デバイスなどにおけるＳｉ／金属界面では接合リークを抑制すべく、Ｓｉ基板と、これに隣接して形成される金属層との界面平坦性を確保した半導体積層膜を提供する。 - 特許庁

To provide the subject apparatus and method for producing a laminated sheet or a thick single-layered sheet made of a polyolefinic resin having no warpage and good flatness within a short cooling time with good workability.例文帳に追加

ポリオレフィン系樹脂製の積層シート又は厚物単層シートを、反りがなく、平面性が良好に、かつ冷却時間が短縮され、生産性よく製造するためのプラスチックシート製造装置及び製造方法を提供する。 - 特許庁

The thick steel plate to be laser-cut having the scale layer of 10 to 60 μm on the surface of the steel plate can be produced through the steps of slab forming, heating, descaling, rolling, water cooling, flatness conditioning and radiational cooling.例文帳に追加

スラブ形成、加熱、スケール除去、圧延、水冷、平坦度調整、放冷の工程を経ることによって、鋼板の表面に１０〜６０μｍのスケール層を形成されたレーザー切断用厚鋼板を製造することができる。 - 特許庁

To enhance the end face flatness of the hollow fiber membrane module by a simple method, in manufacturing the hollow fiber membrane module for blood treatment by potting the end parts of hollow fiber membranes using a thermosetting resin to bundle and fix them.例文帳に追加

熱硬化性樹脂を用いて中空糸膜の端部をポッティングして集束、固定する血液処理用中空糸膜モジュールの製造において、簡単な方法で、中空糸膜モジュールの端面平坦性を向上させる。 - 特許庁

To provide a method for inexpensively producing a copper alloy having a satisfactory flatness which is suitable as the stock for a heat radiation sheet having compatibility between a low thermal expansion coefficient and a high thermal conductivity rate, and also having excellent workability.例文帳に追加

低熱膨張率と高熱伝導率とを両立させ、かつ優れた加工性を有する放熱板の素材として好適な平面度の良好な銅合金板を安価に製造する方法を提供する。 - 特許庁

To provide an electrosurgical instrument designed to take into account gap tolerances and/or parallelism and flatness requirements, cauterize or coagulate tissue and create an effective or a uniform seal.例文帳に追加

ギャップ寛容度ならびに／または平行および平坦の要件を考慮し、組織を焼灼するかまたは凝固し、有効なシールまたは均一なシールを作製するために設計された電気外科機器を提供すること。 - 特許庁

Thus, the self-weight of the susceptor is not loaded perpendicular to the main surface of the susceptor, but loaded in the extending direction of the main surface of the susceptor, and the susceptor is not deflected by its self-weight, and the susceptor excellent in flatness is manufactured.例文帳に追加

したがって、サセプタの自重は、サセプタの主表面に垂直に負荷されず、サセプタの主表面が延びる方向に負荷されるので、サセプタが自重で撓むことがなく、平坦度の優れたサセプタが製造される。 - 特許庁

The carbon fiber bundle with adhering seizing agent, and having drape value of 4-8cm at 25°C, flatness degree of 1-20, has reduced twisting, and a package comprises wound up carbon bundles.例文帳に追加

サイジング剤が付着しており、２５℃におけるドレープ値が４〜８ｃｍの範囲内にあり、扁平度が１〜２０の範囲内にあり、かつ、撚りのない炭素繊維束であり、かかる炭素繊維束が巻き上げられたパッケージである。 - 特許庁

To provide a detergent for silicon wafer producing processes expressing an excellent detergency to soil on a surface of a silicon wafer without impairing flatness of the silicon wafer in washing after slicing of a silicon ingot.例文帳に追加

シリコンインゴットのスライス後の洗浄において、シリコンウエハ表面の平坦性を損ねることなく、シリコンウエハ表面の汚れに対し優れた洗浄性を実現するシリコンウエハ製造工程用洗浄剤を提供する。 - 特許庁

The use of alkaline etching enables etching to be accomplished with a high degree of flatness achieved on the wafer top surface, and the use of acid cleaning after etching prevents the wafer top surface from heavy metal pollution.例文帳に追加

アルカリエッチングを採用したことによりウェーハ表面の高い平坦度を確保しつつエッチング行うことができ、エッチング後に酸洗浄を実施することによりウェーハ表面の重金属による汚染を防止できる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a semiconductor package and the semiconductor package which reduce the thickness and have excellent surface flatness of a resin part formed so as to cover a semiconductor chip.例文帳に追加

薄型化可能であるとともに、半導体チップを被覆するように形成される樹脂部の表面平坦性に優れた半導体パッケージの製造方法及び半導体パッケージを提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a method of forming an organic EL element by supporting a flexible substrate with high flatness and of manufacturing an organic electroluminescent light-emitting panel without damaging the surface of the substrate.例文帳に追加

可撓性基板を高い平坦度で支持して有機ＥＬ素子を形成することができるとともに、基板の表面にキズを付けずに有機エレクトロルミネッセンス発光パネルを製造することができる方法を提供する。 - 特許庁

By using the roller, the convergence density of the thread (fiber bundle) can be increased without degrading the flatness of the thread, resulting in an improvement of productivity alone without degrading quality, integrity, and safety.例文帳に追加

本発明のローラーを用いることで、糸の扁平性を妨げることなく糸条（繊維束）の収束密度を上げることができ、その結果、品質、品位、安全性を下げることなく生産性だけを向上させることができる。 - 特許庁

To provide a method of preparing ceramic slurry by which ceramic particles are excellently dispersed, ceramic powder having excellent dispersibility, a method of manufacturing the same and a method of forming a ceramic green sheet having excellent packing property and flatness.例文帳に追加

セラミック粒子の分散性のよいセラミックスラリーの調製方法、分散性の良好なセラミック粉末、その製造方法、およびパッキング性，平滑性の良好なセラミックグリーンシートの形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an ink for forming an insulation film forming, in a desired form capable of keeping surface flatness after solidification by a heat treatment or ultraviolet light irradiation, the insulation film being formed on a substrate by an ink jet method.例文帳に追加

インクジェット法により基板上に形成する絶縁膜を、熱処理または紫外光照射による固化後も表面平坦性を保持可能で所望の形状に形成できる絶縁膜形成用インクを提供する。 - 特許庁

To provide a means for achieving a gettering capability which provides a gettering region even in a thin silicon wafer or a silicon on insulator (SOI) wafer, preventing deterioration of flatness or particle contamination harmful to a device.例文帳に追加

薄いシリコンウェーハであっても、あるいはSOIウェーハであっても、ゲッタリング領域を設けることができ、かつ平坦度の悪化やデバイスに有害な粒子汚染を発生させることもない、ゲッタリング能力の付与手段を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an epitaxial wafer that prevents the epitaxial wafer from decreasing in flatness owing to presence of a lift pin while reducing strain of a reverse surface of the epitaxial wafer due to sticking between the wafer and a susceptor.例文帳に追加

ウェーハとサセプタとの間のスティッキングによるエピタキシャルウェーハの裏面の歪みを低減しながら、リフトピンの存在によるエピタキシャルウェーハの平坦度の低下を防止するようなエピタキシャルウェーハの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical film which can be formed by a melt film process and has excellent saponification property and flatness, and to provide a method for manufacturing an optical film, and a polarizing plate and a liquid crystal display apparatus using the film.例文帳に追加

本発明の目的は、溶融製膜可能で、ケン化性に優れ、かつ平面性に優れた光学フィルム、光学フィルムの製造方法、及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide an apparatus and a method for manufacturing a coating object, capable of maintaining a drying rate faster than that at least in a natural seasoning while suppressing occurrence of even a few drying spot, and improving the flatness and the productivity.例文帳に追加

わずかな乾燥ムラの発生をも抑制しながら少なくとも自然乾燥よりも乾燥速度を早く維持できる面性も生産性も向上できる塗布膜の製造装置および製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a straightening method of a thick steel plate with scale by which defects in shape in the flatness or the like of the thick steel plate with the scale can be straightened without peeling off the scale stuck to the surface of the steel plate.例文帳に追加

スケール付き厚鋼板の平坦度等の形状不良を、鋼板表面に付着しているスケールを剥離させることなく矯正することができるスケール付き厚鋼板の矯正方法を提供すること。 - 特許庁

A locally high temperature portion is formed by intentionally generating a temperature difference in a metallic mold when the resin component is formed, thus the flatness of the surface of the component corresponding to the high temperature portion is enhanced rather than other portions.例文帳に追加

樹脂部品の形成時の金型温度について、意図的に温度差を発生させて局部的な高温部を設け、該高温部に相当する部分の部品表面の平滑性を、他の部分より向上させる。 - 特許庁

To provide a polishing apparatus for polishing one side of a plate-like work such as a silicon wafer or a glass sheet, which can polish a plurality of works different in thickness and flatness at the same time with high accuracy.例文帳に追加

シリコンウェハや硝子板等の板状ワークの片面を研磨する研磨装置で、厚みや平面度等のバラツキの異なる複数のワークを同時に高精度に研磨加工出来る装置の提供を目的とする。 - 特許庁