「layer pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(135ページ目) - Weblio英語例文検索

In the method of manufacturing the semiconductor device having the resistance element 41 comprising a resistance pattern 17b and a metal silicide layer 40 formed on a surface thereof, the method has a step S5 of designing the resistance element 41 so that contact resistance R_c between the resistance pattern 17b and metal silicide layer 40 is included in a design resistance value R_d of the resistance element 41.例文帳に追加

抵抗パターン１７ｂとその表面に形成された金属シリサイド層４０とで構成される抵抗素子４１を備えた半導体装置の製造方法であって、抵抗パターン１７ｂと金属シリサイド層４０との接触抵抗R_cを抵抗素子４１の設計抵抗値R_dに含めて抵抗素子４１を設計するステップＳ５を有することを特徴とする半導体装置の製造方法による。 - 特許庁

The method of producing a patterned body includes an energy irradiation step for forming a wettability change pattern having a reduced contact angle with water on a resin substrate by arranging a photocatalyst containing layer containing a photocatalyst and a photocatalyst containing layer of a substrate on the photocatalyst containing layer side having a base, and a resin base material having water repellency to face each other and then radiating energy in a pattern.例文帳に追加

上記目的を達成するために、本発明は、光触媒を含有する光触媒含有層および基体を有する光触媒含有層側基板の光触媒含有層と、撥水性を有する樹脂製基材とを対向させて配置し、パターン状にエネルギーを照射することにより、前記樹脂製基材上に水との接触角が低下した濡れ性変化パターンをパターン状に形成するエネルギー照射工程を有することを特徴とするパターン形成体の製造方法を提供する。 - 特許庁

Further, the semiconductor package has a semiconductor element mounted on the interposer, and the method of manufacturing the interposer includes a step of forming the conductor pattern on a metal foil of the prepreg formed by bonding the metal foil to the one surface by etching and a step of forming the coating layer so as to cover at least the part of the conductor pattern.例文帳に追加

また、半導体パッケージは、上記インターポーザに半導体素子を搭載しており、インターポーザの製造方法は、片面に金属箔を接合してなるプリプレグの金属箔にエッチングにより導体パターンを形成する工程と、前記導体パターンの少なくとも一部を覆うように被覆層を形成する工程とを有する。 - 特許庁

A common conductive film deposited on the second insulating film 5 is worked so that a second wiring layer 6 that includes an electrode pattern 6a to be used for electric connection with the outside and the coating pattern 6b, arranged directly above the fuse sections 11a and 11b, can be formed on the second insulating film 5.例文帳に追加

第２の絶縁膜５上には、第２の絶縁膜５上に堆積された共通の導電膜を加工することにより、外部との電気的な接続に用いられる電極パターン６ａ、およびヒューズ部１１ａ、１１ｂの直上に配設された被覆パターン６ｂを含む第２の配線層６が形成される。 - 特許庁

In the slab type optical waveguides 20_1 to 20_3 constituted by embedding a core pattern 9 constituting the optical waveguide in a clad 15, at least one end of the core pattern 9 is formed as an inclined surface forming the angle of about 45° to a slab surface, and a reflection layer 8 is formed on the inclined surface.例文帳に追加

光導波路を構成するコアパターン９がクラッド１５中に埋め込まれてなるスラブ型の光導波路２０_１ 〜２０_３ において、コアパターン９の少なくとも一端がスラブ面に対して略４５°の角度をなす斜面に形成され、その斜面に反射層８が形成されている光導波路。 - 特許庁

Two-layer lens structure is obtained by arranging the respective microlenses 13 of a second microlens group arranged as one pattern which constitutes a checker in plane view on the respective microlenses 11 of a first microlens group arranged as the other pattern which constitutes a checker in plane view through a second transparent protection film 12.例文帳に追加

平面視で市松模様状を構成する一方模様として配置された第１マイクロレンズ群の各マイクロレンズ１１上に、第２透明保護膜１２を介して、平面視で市松模様状を構成する他方模様として配置された第２マイクロレンズ群の各マイクロレンズ１３が配置されて２層レンズ構造となっている。 - 特許庁

An exposure condition calculation host 100 reads each data from the databases 111, 121 and 105, and a shape of the circuit pattern formed to be exposed through a mask by the aligners 141 and 142 is calculated by an exposure pattern calculation means 102 on the exposure layer of the semiconductor device on the basis of conditions by these data.例文帳に追加

露光条件算出ホスト１００は、データベース１１１，１２１，１０５から夫々のデータを読み出し、これらデータによる条件の基に、半導体デバイスの露光層に露光装置１４１，１４２でマスクを介して露光して形成される回路パターンの形状を露光パターン計算手段１０２で算出する。 - 特許庁

To provide a magnetic recording medium in which a recording layer is formed in a prescribed recessed and projecting pattern, a recording element is formed as a projecting part of the recessed and projecting pattern to have high surface recording density and a crash of a magnetic head hardly occurs to have high reliability, and a magnetic recording and reproducing device provided with such a magnetic recording medium.例文帳に追加

記録層が所定の凹凸パターンで形成され、記録要素が凹凸パターンの凸部として形成されて面記録密度が高く、且つ、磁気ヘッドのクラッシュが生じにくく信頼性が高い磁気記録媒体及びこのような磁気記録媒体を備える磁気記録再生装置を提供する。 - 特許庁

Disclosed is the letterpress for pattern formation characterized in that a protective layer 205 is provided by a vacuum thin-film forming method to resin-made projection portions 201 of the letterpress 200 for pattern formation, wherein: the protective film is a mixed thin film of an organic substance and an inorganic substance; and the vacuum thin-film forming method is a chemical vapor deposition method.例文帳に追加

パターン形成用凸版２００の樹脂製凸部２０１に真空薄膜形成法により保護層２０５を設けたことを特徴とするパターン形成用凸版であって、前記保護層が有機物と無機物の混合薄膜であって、前記真空薄膜形成法が、化学気相成長法であることを特徴とする。 - 特許庁

To provide an electromagnetic wave shielding material with a pattern line width further miniaturized to prevent moire even if a contrast improving layer is also used when the material is used for a front filter for display where electric resistance is low irrespective of the miniaturization and permeability is prevented from being deteriorated due to the scumming of a pattern opening.例文帳に追加

ディスプレイ用前面フィルタに用いるときにコントラスト向上層を併用してもモアレが出ないよう、パターンの線幅をより一層微細化した電磁波シールド材であって、そのように細線化しても低い電気抵抗であり、かつパターン開口部の地汚れによる透過率の低下がない電磁波シールド材を提供する。 - 特許庁

To provide an electroformed body which has a concave part on the surface thereof and in which a metal layer comprising a metallic material different from that of the electroformed body is formed on the bottom of the concave part so that a pattern of the concave part has optional design properties such as a letter and a picture pattern, decorative properties and visibility and to provide a method for producing the electroformed body.例文帳に追加

表面に凹部を有する電鋳体であり、電鋳体とは異なる金属材料からなる金属層が前記凹部底部に形成されており、前記凹部のパターンを文字、絵模様等任意のデザイン性、装飾性、視認性を有する0ものとする電鋳体とその製造方法を提供する。 - 特許庁

A wiring circuit board includes the metal support substrate 30, a first insulating layer 21 arranged on the metal support substrate 30 and provided with a through-hole 21a, and a conductor pattern 10 for conductive connection arranged in a predetermined pattern and formed in contact with the metal support substrate 30 in the through-hole 21a.例文帳に追加

配線回路基板は、金属支持基板３０と、金属支持基板３０上に配置され、貫通孔２１ａが設けられた第一絶縁層２１と、所定のパターンで配置されるとともに貫通孔２１ａ内で金属支持基板３０に接触するように形成された導電接続用の導体パターン１０と、を備えている。 - 特許庁

To provide a sufficient optical transmission capability and sufficiently high pattern forming accuracy in a method for producing an optical waveguide to form a pattern of the optical waveguide by means of photolithography in which predetermined parts of a photosensitive resin layer are irradiated with light and then the parts which are not irradiated with light are removed by a developing solution.例文帳に追加

感光性を有する樹脂層の所定箇所に光照射した後に光照射されていない箇所を現像液で除去するフォトリソグラフィーにより光導波路のパターンを形成する光導波路の製造方法において、十分な光伝送能力及び十分に高いパターン形成精度を提供する。 - 特許庁

To provide a colored curable composition, which has excellent color purity, heat resistance and light resistance and which can be formed into a thinner layer: a color resist having favorable pattern formability; inkjet ink having excellent jetting stability; and a color filter having a favorable pattern shape and a method for producing a color filter using the composition.例文帳に追加

色純度に優れ、耐熱性、耐光性に優れ、薄層化が可能な着色硬化性組成物を提供し、パターン成形性の良好なカラーレジスト、吐出安定性に優れたインクジェット用インク、およびこれを用いたパターン形状の良好なカラーフィルタおよびカラーフィルタの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a reflective mask blank for EUV lithography having a low reflecting layer which has a low reflectivity in the wavelength band of EUV light and inspection light of a mask pattern, having especially low reflection characteristic in the entire wavelength band (190-260 nm) of the inspection light of mask pattern, while keeping excellent adhesion to a resist.例文帳に追加

ＥＵＶ光およびマスクパターンの検査光の波長域に対する反射率が低く、特に、マスクパターンの検査光の全波長域（１９０〜２６０ｎｍ）に対して低反射特性を示し、かつレジストとの密着性が良好な低反射層を有するＥＵＶリソグラフィ用反射型マスクブランクの提供。 - 特許庁

To provide an embedded pattern board having more rigidity than an exposed pattern board having the same insulating thickness while using a carrier-insulating layer joint for satisfying a predetermined thickness required by roll transfer equipment using a conventional thick board.例文帳に追加

同一の絶縁厚みを有する露出パターン基板に比して向上した剛性を有することができ、従来の厚い基板を対象としたロール移送装備を用いるために、装備から要求される所定厚みをキャリア−絶縁層の結合体を使用することにより満足させることができる埋め込みパターン基板を提供する。 - 特許庁

A light shielding pattern 54 having a plurality of arrayed polygonal light shielding portions 53 and a light transmitting portion 55 of a resolution limit or lower disposed at the center of the array is formed in the light transmitting region of a photomask, as a unit light shielding pattern for forming a projection 56 for alignment control in a photosensitive composition layer.例文帳に追加

感光性組成物層に配向制御用突起５６を形成するための単位の遮光パターンとして、フォトマスクの光透過領域中に、多角形状の遮光部５３が複数個配列され、その配列の中心部に解像限界以下の光透過部５５を有する遮光パターン５４を形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive adhesive composition sufficiently excellent in all of adhesion property, high-temperature adhesiveness, pattern forming property, thermo-compression bonding property, heat resistance, and moisture resistance; and to provide a film adhesive, an adhesive sheet, an adhesive pattern, a semiconductor wafer with an adhesive layer, and a semiconductor device using the photosensitive adhesive composition.例文帳に追加

貼付性、高温接着性、パターン形成性、熱圧着性、耐熱性及び耐湿性の全ての点で十分に優れた感光性接着剤組成物、並びにそれを用いたフィルム状接着剤、接着シート、接着剤パターン、接着剤層付半導体ウェハ及び半導体装置を提供すること。 - 特許庁

To provide nonslip tape capable of imparting excellent projection-and- depression-following properties by using metallic foil as a base and achieving a great nonslip effect without deteriorating visibility of a pattern, etc., depicted on a display layer or deforming and destroying the pattern itself.例文帳に追加

金属箔をベースとして使用して優れた凹凸追従性をもたらすことができる滑り防止テープにおいて、表示層に描かれた模様等の視認性を低下させたり模様そのものを変形、損壊させたりすることなく高い滑り防止効果を発揮することのできる滑り防止テープを提供すること。 - 特許庁

The image pattern formation layer (image pattern forming medium) 1 divides the three images into a number of the linear bands 11 with substantially the same width respectively, extracts the linear band 11 of each image, in response to the number of the images at random, successively mutually adjoins them one by one alternately and arranges them in one row on the same face.例文帳に追加

像パターン形成層（像パターン形成媒体）１は、３種類の像のそれぞれをほぼ同一幅の多数の線状帯１１に分割し、各像の線状帯１１を像の数に応じて飛び飛びに抽出して順次１本ずつ互い違いに隣接させて同一面上に１列に配列したものである。 - 特許庁

Either one of the anode and cathode of the semiconductor laser element 5 is connected to the wiring pattern 2c of the flexible wiring board 2 abutted to the upper surface 1a of the base 1, and the wiring pattern 2c is electrically connected to the base 1 through an opening 7 provided on the part to be abutted to the base 1 of the insulating layer 2b.例文帳に追加

半導体レーザ素子５のアノードまたはカソードの何れかは、基台１の上面１ａに当接されたフレキシブル配線基板２の配線パターン２ｃに接続されており、配線パターン２ｃは、絶縁層２ｂの基台１に当接する部位に設けられた開口部７を介して、基台１に電気的に接続されている。 - 特許庁

An interlayer insulating material 12 formed on a core substrate 1 is softened, and a mold 20 having protrusions corresponding to the respective recessed part for wiring pattern formation and recessed part for viahole formation is fitted with pressure to the softened interlayer insulating layer, thereby imprinting a trench 14 for wiring pattern formation and a trench 16 for viahole formation.例文帳に追加

コア基板１上に形成された層間絶縁材１２を軟化させ、次いで、配線パターン形成用の凹部およびバイアホール形成用の凹部にそれぞれ相当する凸部を有するモールド２０を軟化した層間絶縁層に圧入して、配線パターン形成用の溝１４およびバイアホール形成用の溝１６を転写する。 - 特許庁

In a dry etching process of the fine mask pattern of a membrane mask, a radical and an ion, containing at least one of nitrogen, carbon, and oxygen that do not contribute to pattering, are generated by plasma for supplying to the upper and side surfaces and foundation of the mask pattern, and a layer (membrane) for restraining the generation of stress is reliably formed on the side.例文帳に追加

メンブレンマスクの微細マスクパターンのドライエッチング工程において、パターニングに寄与しない窒素、炭素もしくは酸素の少なくとも一つ以上を含むラジカルやイオンをプラズマにより発生させて、マスクパターンの上面、側面および下地に供給し、側面に応力発生を抑制する層（膜）を確実に形成する。 - 特許庁

By using a photomask or a reticle installed with an auxiliary pattern with a function of light intensity reduction, which consists of diffraction grating pattern or semi-translucent film, a barrier rib having portions with different heights is formed on pixel electrodes (also called first electrodes) in a display region and around a pixel electrode layer.例文帳に追加

回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置したフォトマスクまたはレチクルを用いることにより、工程を増やすことなく、表示領域における画素電極（第１の電極とも呼ぶ）上、及び画素電極層周辺に膜厚が異なる部分を有する隔壁を形成する。 - 特許庁

To provide a material with high etching selection rate and etching speed against resist, a pattern formation method providing an antireflection film layer on a base plate using the material and a pattern formation method using the antireflection film as a hard mask on the base plate processing.例文帳に追加

レジストに対してエッチング選択比が高い、即ちレジストに対してエッチングスピードが速い反射防止膜の材料を提供し、且つこの反射防止膜材料を用いて基板上に反射防止膜層を形成するパターン形成方法及び、この反射防止膜を基盤加工のハードマスクとして用いるパターン形成方法も提供する。 - 特許庁

To mainly provide an optical waveguide which is free of the possibility of deterioration since the need for postprocessing after exposure when a lyophilic pattern is formed on a wettability changing layer is eliminated, the pattern is precisely formed, and the optical waveguide itself contains no light catalyst.例文帳に追加

本発明は、濡れ性変化層上に親液性のパターンを形成する際の露光後の後処理を不要とし、かつこのパターンが精度良く形成されたものであり、また光導波路自体に光触媒を含まない構成であることから、劣化の心配がない光導波路を提供することを主目的とするものである。 - 特許庁

The photomask is classified into photomasks mounted with mask patterns 1, 2, 5, and 7 having pattern characteristics of a line system used principally to form a wiring layer of a semiconductor device and photomasks mounted with mask patterns 3, 4, 6, and 8 having pattern characteristics of a hole system used principally to form a connection hole of the semiconductor device.例文帳に追加

上記フォトマスクを、半導体装置の主に配線層の形成に用いられるライン系のパターン特性を持つマスクパターン１、２、５、７を搭載したフォトマスクと、半導体装置の主に接続孔の形成に用いられるホール系のパターン特性を持つマスクパターン３、４、６、８を搭載したフォトマスクとに分類する。 - 特許庁

In an optical plate, its manufacturing method, a display device, and its manufacturing method, an optical plate is formed on the polarizing plate transmitting polarization among incident light, and includes a phase delay layer containing a first pattern providing 3 lambda/4 phase delay of the polarization and a second pattern providing λ/4 phase delay of the polarization.例文帳に追加

光学板及びその製造方法と表示装置及びその製造方法において、光学板は入射光のうち、偏光を透過させる偏光板上に形成され、偏光を３λ／４位相遅延させる第１パターン及び偏光をλ／４位相遅延させる第２パターンを含む位相遅延層を含む。 - 特許庁

A conductor pattern is disposed on the sheet-like structure via an insulating layer, thus generating coupling of an electromagnetic field between the sheet-like structure and the conductor pattern, and hence reducing the in-phase reflection frequency of the sheet-like structure and expanding the frequency bands operable as the leak antenna.例文帳に追加

シート状構造体の上に絶縁層を介して、導体パターンを配置することにより、シート状構造体と導体パターンとの間に電磁界の結合が生じ、それにより、シート状構造体の同相反射周波数を低下させると共に、リークアンテナとして動作可能な周波数帯域を拡張することができる。 - 特許庁

This antenna forming method applies an adhesive 9 with an antenna-shaped pattern on a holding base substance 2, sticks a metal evaporated transfer sheet 6 to the substance 2 through the adhesive 9, strips the sheet 6 after the adhesive cures and transfers the metal evaporated layer of the sheet 6 on the substance 2 with the antenna-shaped pattern.例文帳に追加

保持基体２に接着剤９をアンテナ形状のパターンで塗布し、接着剤９を介して金属蒸着転写シート６を保持基体２に貼り合わせ、接着剤の硬化後に金属貼着転写シート６を剥離してアンテナ形状のパターンで金属蒸着転写シート６の金属蒸着層を保持基体２に転写する。 - 特許庁

In the disposable wet towel with a picture pattern, a nonwoven fabric layer containing a cellulose fiber and a hot melting synthetic fiber is bonded to overlie both surfaces of a thermoplastic synthetic resin film with the picture pattern printed on at least one simultaneously with being embossed by the heating embossing to make a laminate, which is soaked with wetting water.例文帳に追加

少なくとも片面に絵柄印刷を施した熱可塑性合成樹脂フィルムの両面に、セルロース系繊維及び熱融着型合成繊維を含有する不繊布層が加熱エンボス加工によって型付と同時に接着して積層されている積層体に湿し水を含有させてなる絵柄付使いすておしぼり。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing an element built-in substrate which can form a fine-pitch conductor pattern on an insulating layer with high precision while securing the size stability of the conductor pattern and to provide the element built-in substrate, and a method for manufacturing a printed wiring board and the printed wiring board.例文帳に追加

導体パターンの寸法安定性を確保して絶縁層上にファインピッチな導体パターンを高精度に形成でき、転写シートの除去も適正に行うことができる素子内蔵基板の製造方法および素子内蔵基板、ならびに、プリント配線板の製造方法およびプリント配線板を提供すること。 - 特許庁

To provide a color filter obtained by forming a diaphragm (light shielding pattern) by light shielding ink having ink repellency and forming color layers in areas divided by the diaphragm (light shielding pattern) by an ink jet procedure, the color filter having a uniform and highly adhesive overcoat layer free from defective color mixture and peeling or crack.例文帳に追加

撥インキ性を有する遮光インキにて隔壁（遮光パターン）を形成し、この隔壁（遮光パターン）に仕切られた領域にインクジェット方式で着色層を形成したカラーフィルタにおいて、混色不良がなく、かつ均一で密着性がよく、剥がれやクラックのないオーバーコート層を有するカラーフィルタを提供することを目的とする。 - 特許庁

The coating film forming powder 15 can be bonded to a product surface 14A by electrostatic coating and the pattern forming powder 16 has a function for forming a pattern on the coating film layer 13, and is held to a state almost closely bonded to the coating film forming powder 15 accompanied by the adhesion of the coating film forming powder 15.例文帳に追加

塗膜形成粉体１５は、静電塗装で製品面１４Ａに付着可能となっている一方、模様形成粉体１６は、塗膜層１３の模様形成を担うとともに、塗膜形成粉体１５の付着に伴って当該塗膜形成粉体１５に略密着した状態で保持されるようになっている。 - 特許庁

A circuit pattern part, which is covered with an insulating layer 31 of a second circuit board 3 among a first circuit pattern 7, is covered with a conductive film 15B to 15F which has the same material as a conductive film 15A and strong dielectric films 17B to 17F having the same material as a strong dielectric film 17a.例文帳に追加

第１の回路パターン７のうち第２の回路基板３の絶縁層３１によって覆われる回路パターン部分を導電膜１５Ａと同じ材質の導電膜１５Ｂ〜１５Ｆによって覆い且つその上に強誘電体膜１７Ａと同じ材質の強誘電体膜１７Ｂ〜１７Ｆを形成する。 - 特許庁

The conductive pattern manufacturing method irradiates a laser beam L of an ultrashort pulse whose width is less than 1 picosecond in a predetermined pattern to a light-permeable conductive layer a including an ultrafine inorganic conductive fiber provided in at least one side of an insulating base material 11 via condensing means 42.例文帳に追加

本発明の導電パターンの製造方法は、絶縁性基材１１の少なくとも一方の面に設けられた、極細の無機導電繊維を含む光線透過性導電層ａに、集光手段４２を介してパルス幅１ｐ秒未満の極短パルスのレーザ光Ｌを所定のパターンで照射する。 - 特許庁

This antenna is provided with a balanced antenna part 12 constituted of the pattern of conductive layers symmetrically formed on one face side of a substrate 10 of a dielectric and a microstrip line 20 formed on the other face side of the substrate 10 and constituted of a conductive layer in a prescribed pattern connected with the balanced antenna part 12 at a power feeding point 62.例文帳に追加

誘電体の基板１０の一面側に対称に形成された導体層のパターンより構成される平衡型アンテナ部１２と、基板１０の他面側に形成され、給電点６２で平衡型アンテナ部１２と接続された所定パターンの導体層よりなるマイクロストリップライン２０とを備える。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of a thin film magnetic head, wherein when formation of a narrow pattern exceeding a limit of resolution of an imaging layer is required, a lift-off resist of a narrow pattern is applied and an angle of an end part of a GMR film is made steep so as to be ≥45° by a lift-off method to form a GMR element.例文帳に追加

イメージング層の解像度の限界を超える狭いパターンを形成する必要がある場合に、狭いパターンのリフトオフレジストを適用し、リフトオフ方法によって,ＧＭＲ膜端部の角度を４５度以上に急峻にして、ＧＭＲ素子を作成する薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁

A luster adjusting layer 4 which has a different luster from the surfaces of regions 2 and has a gradation on the lustrous condition in the neighborhood of the contours of the regions 2 is provided on the surface of parts except the regions 2 of a base material 1 with a picture pattern 3 contg. a pattern 32 corresponding to the recessed part or projected part expressing regions 2.例文帳に追加

凹部又は凸部表現領域２に対応する模様３２を含む絵柄３を有する基材１の前記領域２以外の部分の表面に、前記領域２の表面とは異なる艶を有し且つ前記領域２の輪郭の近傍で艶状態に階調を有する艶調整層４を設ける。 - 特許庁

After carbon dioxide being gas having a plasticizing effect is infiltrated in the surface layer of the molten resin 1, the fine pattern 2 of a die core 3 having the fine pattern 2 on its surface is pressed to the surface of the carbon dioxide-infiltrated molten resin 1 to be transferred to the surface of the carbon dioxide-infiltrated resin.例文帳に追加

溶融樹脂１の表層に可塑化効果のあるガス体としての二酸化炭素を含浸させた後、二酸化炭素が含浸した溶融樹脂１の表面に、表面に微細パターン２を有する金型入れ子３の微細パターン２を加圧して、二酸化炭素が含浸した樹脂の表面に微細パターン２を転写する。 - 特許庁

To provide a thermosensible magnetic recording medium, with which the regular pattern and dummy pattern of magnetic bar code can not be visually identified, improved in forgery prevention property in the thermosensible magnetic recording medium provided with the magnetic bar code for forgery prevention and having a formed hidden layer, which contains an aluminum powder, on the magnetic bar code.例文帳に追加

偽造防止のための磁気バーコードを設け、該磁気バーコード上にアルミニウム粉末を含有した隠蔽層を形成した感熱磁気記録媒体において、磁気バーコードにおける正規パターンとダミーパターンとが目視で識別される事のできない偽造防止性に優れた感熱磁気記録媒体を提供する。 - 特許庁

To provide a wiring board in which an abnormal wiring pattern rarely occurs by forming a wiring pattern in a conductor layer on a film of the film base material for a wiring board which is manufactured by restraining air from mixing in between the film base material and a photosensitive resin laminate when the photosensitive resin laminate is laminated on the film base material.例文帳に追加

フィルム基材に感光性樹脂積層体にラミネートする際に、両者の間にエアが混入することを抑制しながら、配線板製造用のフィルム基材を製造し、そのフィルム上の導体層に配線パターンを形成することによって、配線パターンの異常発生が少ない配線板を製造する。 - 特許庁

In the conductor patterns 21 and 22, respective centers of sides 21ya and 21yb in the widthwise direction that extend in the Y-axis direction of the conductor pattern 21 are located above the respective inner edge ends e_2a and e_2c of the side 22ya and 22yb extending in the Y-axis direction of the conductor pattern 22 with the insulating layer 12 sandwiched therebetween.例文帳に追加

導体パターン２１，２２は、導体パターン２１のＹ軸方向に延在する辺２１ｙａ，２１ｙｂのそれぞれの幅方向の中心が、セラミック絶縁層１２を間にして、導体パターン２２のＹ軸方向に延在する辺２２ｙａ，２２ｙｂのそれぞれの内側縁端ｅ_２ａ，ｅ_２ｃ上に位置するように形成されている。 - 特許庁

A polysilicon layer 105 is formed on a wafer, with which a P well 102 and an N well 103 are formed, and after a gate electrode 105A is formed on the P well 102 with a photoresist pattern 106 as a mask, the LDD region of N-channel MOS is formed by conducting ion implantation, in a state of the photoresist pattern 106 being left.例文帳に追加

Ｐウェル１０２、Ｎウェル１０３の形成された基板上にポリシリコン層１０５を形成し、フォトレジストパターン１０６をマスクとして、Ｐウェル１０２上にゲート電極１０５Ａを形成した後、フォトレジストパターン１０６が残存した状態でイオン注入を行ってＮチャネルＭＯＳのＬＤＤ領域を形成する。 - 特許庁

The process for producing an electromagnetic wave shielding layer comprises a step 10 for preparing a base film, and a step for forming a conductive pattern by printing metal paste (one kind of powder or nanoparticles of gold, silver, copper, aluminium, nickel and carbon nanotube) onto the base film using at least one of screen print method and ink jet method and then calcinating the metal paste to form a conductive pattern.例文帳に追加

ベースフィルムを用意するステップ１０と、前記ベースフィルム上にスクリーンプリント法またはインクジェット法の少なくともいずれか一方を用いて、金属ペースト（金、銀、銅、アルミニュウム、ニッケル、カーボンナノチューブのパウダー又はナノパーティクルの内、一種）を印刷し、焼成することにより、導電性パターンを形成するステップを含む。 - 特許庁