「layer processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(52ページ目) - Weblio英語例文検索

The manufacturing method of the semiconductor device has a process A for depositing a low dielectric constant insulating film 15 on an upper layer of a semiconductor substrate 11, a process B for laminating a silicon content insulating film 26 having rich silicon on at least the upper layer of the low dielectric constant insulating film 15, and a process C for plasma-processing a surface of the silicon content insulating film 26.例文帳に追加

半導体基板１１の上層に低誘電率絶縁膜１５を積層する工程Ａと、低誘電率絶縁膜１５の少なくとも上層にシリコンリッチなシリコン含有絶縁膜２６を積層する工程Ｂと、シリコン含有絶縁膜２６の表面をプラズマ処理する工程Ｃとを備える半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the circuit board using the laminate of the metal layer and the polyimide film has a process for cleaning and removing, after a treatment with a chemical etching agent, an altered layer generated by the chemical etching agent and performing treatment with an acid aqueous solution when the polyimide film is subjected to an etching processing.例文帳に追加

金属層とポリイミドフィルムとの積層体を使用しての回路基板の製造方法において、ポリイミドフィルムをエッチング加工する際に、化学エッチング剤での処理後に化学エッチング剤による変性層を洗浄除去し、さらに酸性水溶液で処理するプロセスを有する回路基板の製造方法とこの方法によって得られる回路基板。 - 特許庁

This method of manufacturing a lithographic printing plate includes: exposing, into an image-like manner, a lithographic printing plate precursor including a support, a photosensitive layer containing a binder polymer and a radical polymerizable compound having a viscosity at 25°C of 9000 mPa s, and a protective layer in this order; and developing the exposed lithographic printing plate precursor with a developer without performing heating processing.例文帳に追加

支持体、バインダーポリマーと２５℃における粘度が９０００ｍＰａ・ｓ以下であるラジカル重合性化合物とを含有する感光層、及び、保護層をこの順で有する平版印刷版原版を、画像様に露光し、露光した平版印刷版原版を、加熱処理を経ることなく、現像液により現像する平版印刷版の作製方法。 - 特許庁

In the method for processing a silver halide photographic sensitive material, a silver halide photographic sensitive material having at least one hydrophilic colloidal layer on a support and containing a compound represented by formula (1) in the at least one hydrophilic colloidal layer is processed with 0.5 to 5 l washing water without replenishing the washing water.例文帳に追加

支持体上に少なくとも１層の親水性コロイド層を有し、該親水性コロイド層の少なくとも１層に下記一般式（１）で表される化合物を含有するハロゲン化銀写真感光材料を、水洗水量が０．５〜５リットルで、かつ水洗水無補充で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

An antiferromagnetic layer 24 that can cause a switched connection bias between it and a free magnetic layer 23 of each of the magnetic resistance effect elements to be generated without anneal processing in the magnetic field and the magnetizing directions of the free magnetic layers 23 to be aligned with the sensitivity axis directions in a state permitting variations of magnetization is disposed on the upper faces of the free magnetic layers 23.例文帳に追加

各磁気抵抗効果素子のフリー磁性層２３の上面には、フリー磁性層２３との間で磁場中でのアニール処理を行うことなく交換結合バイアスを生じさせ各フリー磁性層２３の磁化方向を磁化変動可能な状態で感度軸方向に対して直交方向に揃えることができる反強磁性層２４が設けられている。 - 特許庁

The manufacturing method of the electric casting mold has the process (step S11) of processing the surface of the material of a master mold to obtain the master mold having a fine surface uneven shape and the process (step S12) of forming an electrodeposition layer on the surface of the master mold and peeling the electrodeposition layer from the master mold to obtain the electric casting mold as a negative mold.例文帳に追加

電気鋳造金型を製造する方法は、マスター型の素材の表面を加工することにより微細な表面凹凸形状を有するマスター型を得る工程（ステップＳ１１）と、マスター型の表面上に電着層を形成し、当該電着層をマスター型から剥離してネガティブ型としての電気鋳造金型を得る工程（ステップＳ１２）と、を有する。 - 特許庁

To provide a chemically reinforced plate glass which is improved in brittleness inherent in glass, and is prevented from the occurrence of the extension of unavoidable remaining cracks that are formed during processing, and in which a deep surface stress layer is likely to be produced to enable the easy incorporation of the remaining cracks into the surface compression stress layer, and scratches are hardly formed by external forces.例文帳に追加

ガラスそのものの脆さを改善し加工時に発生する不可避な残存クラックの伸展を防ぎつつ、また深い表面応力層を得やすくすることにより発生した残存クラックを表面圧縮応力層に容易に取り込むことが可能で、かつ外力による傷の発生がしにくい化学強化板ガラスの提供。 - 特許庁

The method of manufacturing the polarizing member includes the steps of: forming a polarizing film by applying a dichroic dye-containing solution on a base material; performing fixing processing of the dichroic dye in the formed polarizing film; forming a primer layer by applying an aqueous resin composition containing a resin component and an aqueous solvent onto the polarizing film after the fixing processing and drying the composition; and forming a functional film on the formed primer layer.例文帳に追加

基材上に二色性色素含有溶液を塗布することにより偏光膜を形成すること、形成した偏光膜に対し、該膜中の二色性色素の固定化処理を施すこと、固定化処理後の偏光膜上に樹脂成分および水系溶媒を含有する水系樹脂組成物を塗布し、該組成物を乾燥させることによりプライマー層を形成すること、ならびに、形成されたプライマー層上に機能性膜を形成すること、を含む偏光部材の製造方法。 - 特許庁

The upper electrode 105 for a parallel-plate plasma processing apparatus includes a substrate 105a formed of a desired dielectric, and a dielectric layer 110 formed at least partially on the lower electrode 210 side surface of the plasma processing apparatus out of the surface of the substrate 105a, the dielectric layer 110 having a sparse and dense pattern where the outside of the lower electrode 210 side surface is denser than the inside.例文帳に追加

平行平板型のプラズマ処理装置用の上部電極１０５であって、所望の誘電体から形成された基材１０５ａと、前記基材１０５ａの表面のうち、少なくとも前記プラズマ処理装置の下部電極２１０側の表面の一部に形成された導電体層１１０と、を含み、前記導電体層１１０は、前記下部電極２１０側の表面の外側が内側より密になるように疎密のパターンを有する上部電極１０５が提供される。 - 特許庁

The photodetector incorporated semiconductor device having a photodetector and a signal processing circuit for the insulated and separated photodetector formed on the same semiconductor is constituted by laminating a 1st semiconductor layer having a 1st photodetector; an insulating layer which varies in reflection factor with the wavelength of light, transmits light, and has a specified film thickness; a 2nd photodetector; and the signal processing circuit in order on the semiconductor substrate.例文帳に追加

受光素子と該受光素子の信号処理回路とが同一半導体基板上に絶縁分離して形成された受光素子内蔵半導体装置において、第１の受光素子を備える第１の半導体層と、光の波長により反射率が変わり、かつ光透過性を有する所定の膜厚の絶縁層と、第２の受光素子及び信号処理回路を備える第２の半導体層とが、順に半導体基板上に積層して形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

After a cavity 11 with a desired product shape engraved on a mold substrate is subjected to carving processing, spherical particles are sprayed on the surface of the cavity 11 to grind the angular vertexes of the unevenness of the surface of the cavity formed by the carving processing to form a satin finish surface, and a plating layer 12 is formed on the surface of the satin finish surface.例文帳に追加

金型基材に所望の製品形状を象ったキャビティ１１の彫り込み加工をした後、キャビティ１１の表面に球状粒子を吹き付けて彫り込み加工によって生じたキャビティ１１の表面の凹凸の角張った頂点部を研削した梨地仕上げ面を形成し、該梨地仕上げ面の表面にメッキ層１２を形成した。 - 特許庁

To reduce fluctuation in characteristics of an element formed in a processing circuit part in spite of installation of the processing circuit part, which processes a value detected by a detection part, in a semiconductor chip in a mechanical quantities detector, in which the semiconductor chip having the detection part detecting impression of a dynamic quantity is connected to a base via a connection layer.例文帳に追加

力学量の印加を検出する検出部を有した半導体チップが接合層を介して台座に接合された力学量検出装置において、検出部が検出した値を処理する処理回路部を半導体チップに設けたとしても、処理回路部に形成された素子の特性が変動してしまうのを抑制すること。 - 特許庁

The adhesive sheet 11 for processing is an adhesive sheet 11 for processing containing at least a base material 12 constituted by containing soft vinyl chloride and an adhesive layer 13 characterized in that it contains a radiation polymerizable compound having at least 2 or more light reactive functional groups in one molecule.例文帳に追加

本発明に係る加工用粘着シート１１は、少なくとも基材および粘着剤層を有する加工用粘着シート１１であって、前記基材１２は軟質塩化ビニルを含み構成され、前記粘着剤層１３には、一分子中に少なくとも２以上の光反応性官能基を有する放射線重合性化合物が含まれることを特徴とする。 - 特許庁

The distortion compensation circuit 20 includes: a synchronizing processing part 26 which obtains an input signal generated by a higher layer and input to an amplifier 7 and an output signal output from the amplifier 7; and a distortion compensation part 25 which uses the input and output signals obtained by the synchronizing processing part 26 to compensate distortion of the amplifier 7.例文帳に追加

本発明の歪補償回路２０は、上位レイヤにより生成されて増幅器７に入力される入力信号、及び、増幅器７が出力する出力信号を取得する同期処理部２６と、同期処理部２６によって取得された前記入出力信号を用いて増幅器７の歪補償を行う歪補償部２５とを備えている。 - 特許庁

Upon receiving the request of authentication, the source initiates a session according to AKE for a DTCP layer 113 as the sync while utilizing the authentication function of a secret gamut DTCP processing part 1084 of an IT processing part 108 being assigned an isochronous channel which is indicated by the channel notification received from the sync of the request source of authentication and a key setting function.例文帳に追加

認証要求を受け取ったソースは、認証要求元のシンクから受信しているチャネル通知が示すアイソクロナスチャネルを割り当てたＩＴ処理部１０８の秘密域ＤＴＣＰ処理部１０８４の認証機能と鍵設定機能を利用しながら、シンクとなるＤＴＣＰ層１１３との間でＡＫＥに従ったセッションを実行する。 - 特許庁

In the processing method for a silver halide photographic sensitive material having at least one photosensitive silver halide photographic emulsion layer on the base with an automatic processing machine, the sensitive material is processed with a stabilizing solution containing a compound of formula (1).例文帳に追加

支持体上に少なくとも一層の感光性ハロゲン化銀写真乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料の自動現像機による処理方法において、下記一般式（１）によって表される化合物を含有する安定化液で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の自動現像機による処理方法。 - 特許庁

This adhesive sheet for processing semiconductor has antistatic effects and ≤1 s of half-life of a voltage when electrified in the adhesive sheet for processing semiconductor obtained by applying an adhesive layer composed of a base polymer, a radiation polymerizable compound and a radiation polymerizable polymerization initiator on a base material having transparency to ultraviolet ray and/or an electron beam.例文帳に追加

紫外線及び／又は電子線に対し透過性を有する基材面上にベースポリマーと放射線重合性化合物と放射線重合性重合開始剤からなる粘着剤層を塗布してなる半導体加工用粘着シートにおいて、帯電防止効果を有し、帯電時の電圧の半減期が１秒以下である半導体加工用粘着シートである。 - 特許庁

To provide a manufacturing device of an uneven film, which can improve a processing speed by producing no offset to a film substrate or no unpainted portion due to bubbles on a resin layer in manufacturing the uneven film, and further, improve the processing speed without upsizing an equipment such as a recovery apparatus of a resin liquid.例文帳に追加

凹凸フィルムの製造に当たって、フィルム基材への裏移りを生じさせることなく、また樹脂層に泡かみを生じることなく加工速度を向上させることができ、更に樹脂液の回収装置等の設備の大型化を伴うことなく加工速度を向上させることの可能な凹凸フィルムの製造装置を提供する。 - 特許庁

In the processing method for a silver halide color photosensitive material, a silver halide color photosensitive material having at least one silver halide emulsion layer containing at least one coupler represented by formula (1) on a support is processed with a processing solution containing at least one compound represented by formula (W).例文帳に追加

支持体上に下記一般式（１）で表される少なくとも１種のカプラーを含有する少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀カラー感光材料を、下記一般式（Ｗ）で表される化合物を少なくとも一種含有する処理液により処理することを特徴とするハロゲン化銀カラー感光材料の処理方法。 - 特許庁

The laser beam LB1 for processing is irradiated to the second reflection region 6 by a first output based on the switching coordinate value, the laser beam LB1 for processing is irradiated to a first reflection region 5 by a second output which is a higher output than the first output to form an uniform modified layer P on each of the reflection regions 5, 6.例文帳に追加

そして、切り替え座標値に基づき、第２の反射領域６に第１の出力で加工用レーザービームＬＢ１を照射し、第１の反射領域５に第１の出力よりも高い出力である第２の出力で加工用レーザービームＬＢ１を照射し、各反射領域５，６に均一な改質層Ｐを形成する。 - 特許庁

In the processing method for a black-and-white silver halide photographic sensitive material having a photosensitive silver halide photographic emulsion layer on the base, development is carried out with a processing solution containing a cyclohexanedione compound, not substantially containing dihydroxybenzene and its derivative and containing an ascorbic acid compound.例文帳に追加

支持体上に感光性ハロゲン化銀写真乳剤層を有する黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法において、シクロヘキサンジオン化合物を含有し、実質的にジヒドロキシベンゼン及びその誘導体を含まず、且つ、アスコルビン酸化合物を含有する処理液で現像処理することを特徴とする黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

In the developer for processing the silver halide photographic plate which has on a glass support at least a layer of silver halide emulsion and a method for processing it, pH is kept between 9 or more and less than 11, and static surface tension 40×10^-5 N/cm to 65×10^-5 N/cm.例文帳に追加

ガラス支持体上に少なくとも１層のハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀写真乾板を処理するための現像剤が、ｐＨ９以上１１未満であり、静的表面張力が４０×１０^−５Ｎ／ｃｍ〜６５×１０^−５Ｎ／ｃｍであることをを特徴とするハロゲン化銀写真乾板用現像剤及びその処理方法。 - 特許庁

The method of manufacturing the multilayer printed wiring board includes the steps of forming, by laser irradiation, a via hole 5 in an insulating layer 4 formed by a prepreg 3 comprised of a glass cloth 1 impregnated with a thermosetting resin composition 2, subjecting the via hole 5 to a glass etching processing with a glass etching solution, and then subjecting the via hole to a desmear processing with an oxidizing agent solution.例文帳に追加

本発明の多層プリント配線板の製造方法は、ガラスクロス１に熱硬化性樹脂組成物２を含浸させたプリプレグ３により形成された絶縁層４に、レーザー照射によりビアホール５を形成し、該ビアホール５にガラスエッチング溶液によるガラスエッチング処理を施した後、酸化剤溶液によるデスミア処理を施す。 - 特許庁

In the processing method for a silver halide photographic sensitive material having at least one photosensitive silver halide photographic emulsion layer on the base, the sensitive material is processed with a processing solution containing a compound of formula (1) and a compound having 200-500 mV redox potential E.例文帳に追加

支持体上に少なくとも一層の感光性ハロゲン化銀写真乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料の処理方法において、下記一般式（１）で示される化合物を含有し、かつ酸化還元電位Ｅが２００〜５００ｍＶである化合物を含有する処理液で処理されることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料の処理方法。 - 特許庁

To obtain the metal-bonded super-abrasive used for processing of a hard material such as cutting and drilling at a wet or dry processing, to obtain two or more kinds of super-abrasives with different brittleness without differentiating an amount of diamond or CBN and kinds of base bonds, and to obtain a super abrasive having a backing layer and using the soft base bond.例文帳に追加

硬質材料の湿式・乾式での切断・穿孔等の加工に使用されるメタルボンド超砥粒を得ること、脆弱性の度合いが二種類以上の超砥粒をダイヤモンド又はＣＢＮの量とベースボンドの種類を異ならしめることなく得ること、バッキング層を備えかつ軟らかいベースボンドを用いることができる超砥粒を得ることを課題とする。 - 特許庁

The surface-emitting laser device comprises: a calculation processing unit that executes a calculation on an instruction from outside and outputs a voltage signal in accordance with a calculation result; a surface emission laser element that is directly connected to the calculation processing unit and has an active layer which is provided with a driving voltage signal generated by superimposing a bias voltage common to a supply voltage to the calculation processing unit on the voltage signal.例文帳に追加

外部からの指令に従って演算を行い、該演算結果に従って電圧信号を出力する演算処理装置と、前記演算処理装置に直接的に接続し、活性層を有し、前記演算処理装置に対する供給電圧と共通の電圧をバイアス電圧として前記電圧信号に重畳して生成した駆動電圧信号が前記活性層に供給される面発光レーザ素子と、を備える。 - 特許庁

To provide an image recording device avoiding an image failure or peeling of a water repelling layer of a printing head, and carrying out stable printing processing, by minimizing waving generated on recording paper absorbing ink on a carrying belt.例文帳に追加

搬送ベルト上のインクを吸収した記録紙に発生する波打ちを極力低減させることによって、画像不良や印字ヘッドの撥水処理層の剥離を回避し、安定した印字処理が可能な画像記録装置を提供すること。 - 特許庁

The MPLS switch section 13 searches a database on the basis of a value of a label of a received MPLS packet to decide an output port and rewrites the label into a new label and transfers the resulting packet to layer processing sections 14-1 to 14-n of the corresponding output port.例文帳に追加

ＭＰＬＳスイッチ部１３は受信したＭＰＬＳパケットのラベルの値を基にデータベースを検索して出力ポートを決定し、新しいラベルに書換えた後で該当する出力ポートのレイヤ処理部１４−１〜１４−ｎに転送する。 - 特許庁

In this manufacturing method of a quartz glass member, a quartz glass substrate 1 of which surface has been mirror-finished is pasted on a laser processing bench and a laser beam is irradiated focused on the surface layer or the inside of the substrate 1, and the product is cut by moving the focus along its contour.例文帳に追加

表面を鏡面加工した石英ガラス基板１をレーザー加工台に貼り付け、基板１の表層又は内部に焦点を結ばせてレーザービームを照射し、焦点を製品の輪郭に沿って移動させて切断加工する。 - 特許庁

Since the determination result in the step S29 is YES when an occupant completes selection/determination up to a sixth layer 31f, the device body 11 outputs a route retrieval instruction to a route retrieval part in step S31 and completes destination retrieval processing.例文帳に追加

乗員が第６階層３１ｆまで選択／確定を終えると、ステップＳ２９の判定がＹＥＳとなるため、検索装置本体１１は、ステップＳ３１でルート検索部にルート検索指令を出力して目的地検索処理を終了する。 - 特許庁

Further, a digital processing of the signal current outputted from the X-ray photoelectric converter 10 is becoming easy since a noise current is becoming small if a charge collecting electrode 5 is provided at the location between a charge collecting electrode 2 and the X-ray photoconductive layer 3.例文帳に追加

また、電荷収集電極２とＸ線光導電層３との間に電荷収集電極５を設けると、ノイズ電流が小さくなるので、Ｘ線光電変換器１０から出力される信号電流のディジタル処理が容易になる。 - 特許庁

In a high layer in a control software of the image processing device, allocated is an interpreter 45 which executes transmission, reception, coding, decoding, interpretation of mobile agents, to execute the mobile agents 41, 42... that have moved from a client device such as a computer and a word processor.例文帳に追加

画像処理装置の制御ソフトウェアの上位層に、モバイルエージェントを送受信、符号／復号化、解釈、実行するインタープリタ４５を配し、コンピュータやワードプロセッサなどのクライアント装置から移動してきたモバイルエージェント４１、４２…を実行する。 - 特許庁

To provide a useful film which reduces curling due to the thermal history undergone in the annealing treatment and processing steps for improving antistatic properties, the prevention of dust and the like from attaching thereto, and dimensional stability and excels in workability and the adhesion to a hard coat layer.例文帳に追加

帯電防止性、ごみ等の付着防止、寸法安定性向上のためのアニール処理や加工工程中に受ける熱履歴によるカールが少なく、作業性に優れ、ハードコート層との接着性に優れた有用なフィルムを提供する。 - 特許庁

A plated layer 15 is formed in a thickness less than 0.1 μm by conducting first non-electrolytic plating processing to a wiring pattern 12 formed on a base board 10 utilizing a plating solution 20 including at least one of thiourea and its derivative.例文帳に追加

チオ尿素及びその誘導体の少なくとも一方を含有するめっき液２０を利用して、ベース基板１０に設けられた配線パターン１２に第１の無電解めっき処理を行って、厚みが０．１μｍ未満のめっき層１５を形成する。 - 特許庁

The method of manufacturing the electrode for the electrochemical element has steps of: performing warming processing on a collector; and forming on the collector an electrode active material layer comprising an electrode compound constituted by containing an electrode active material, a conductive agent and a binder.例文帳に追加

集電体を加温処理する工程、電極活物質、導電剤および結着剤を含んでなる電極組成物からなる電極活物質層を集電体上に形成する工程とを有する電気化学素子用電極の製造方法。 - 特許庁

The production process of a silicon single crystal wafer comprises a first heat treatment process performing heat treatment on a silicon wafer obtained by processing a single crystal grown by Czochralski method, and a step for polishing the heat treated wafer surface until a device active layer becomes a predetermined thickness.例文帳に追加

チョクラルスキー法によって育成された単結晶から加工されたシリコンウェーハに熱処理を施す第１熱処理工程と、熱処理が施されたウェーハ表面を、所定厚さのデバイス活性層を残すように研磨する工程とを有する。 - 特許庁

To simplify a manufacturing process by optimizing a multi-layer metal structure of a wiring pattern and by forming the wiring pattern of main metal and sub-metal by liquid processing such as ink-jet coating.例文帳に追加

配線パターンを有する基板及びそれを用いた液晶表示装置において、配線パターンの多層金属構造を最適化し、インクジェット塗布等の液体プロセスにより主金属と副金属の配線パターンを形成することで、生産工程を簡素化する。 - 特許庁

The objective cinematographic intermediate film has an antihalation undercoat and at least one silver halide emulsion layer in this order on one side of the base and a transparent antistatic back coat that is not impaired by processing on the other side.例文帳に追加

支持体の片側に、順に、ハレーション防止用アンダーコートと少なくとも一層のハロゲン化銀乳剤層とを有し且つ、当該支持体の反対側に、処理によって損なわれない透明な帯電防止裏層を有する映画用中間フィルム。 - 特許庁

To provide a semiconductor device in which a semiconductor chip is mounted on a circuit board containing a conductive core board capable of easily processing with the core board for improved deflection of the core board and adhesion to a resin layer.例文帳に追加

導電性のコア基板を含む回路基板に半導体チップが実装される構造の半導体装置において、コア基板の加工が容易である共に、コア基板の反りや樹脂層との密着性を改善できる半導体装置を提供する。 - 特許庁

The data reference part 101 refers to navigation data 20, and the conversion part 102 layers the navigation data 20 in conformation with attribute information, and performs a predetermined conversion processing for adjusting the display of printing map data to convert the navigation data to layer data.例文帳に追加

データ参照部１０１は、ナビデータ２０を参照し、変換部１０２は、かかるナビデータ２０を属性情報に対応づけてレイヤ化し、印刷用地図データの表示を調整するための所定の変換処理を行いレイヤデータに変換する。 - 特許庁

The other layers, through the communication end/processing methods 103 and 104 of failure recovery information between layers, respond to the information, and the leading layer on the phase actually switches the main signal based on the result of the other layers' responses.例文帳に追加

他レイヤはそれに対してレイヤ間の障害回復情報の通信終端・処理手段１０３、１０４を介し、応答を返し、先に直前段階まで行ったレイヤは、その応答結果に基づき実際の主信号の切り替え動作を行う。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit device which performs ashing processing for a resist film which is cured after high concentration ion implantation under a vacuum at a higher temperature without a popping phenomenon, and therefore does not cause a scattered residue of a degeneration layer etc.例文帳に追加

高濃度イオン注入後の硬化したレジスト膜を温度を上げて真空中でアッシング処理してもポッピング現象がなく、そのため飛散した変質層等の残渣の発生のない半導体集積回路装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

After a sealing film 34 is formed, a surface-processing layer 35 for preventing oxidation is formed on the upper surface of the column type electrode 2, by conducting electrolytic plaing using the auxiliary wiring 32, connection line 33 and re-wiring 31 as the plating current path.例文帳に追加

そして、封止膜３４を形成した後に、補助配線３２、接続線３３及び再配線３１をメッキ電流路として電解メッキを行うことにより、柱状電極２９の上面に酸化防止用の表面処理層３５を形成する。 - 特許庁

The mold 1 for manufacturing the fly-eye lens sheet is equipped with a main body 2 having a cylindrical outer peripheral surface and the ceramics layer 4 provided to the outer periphery of the main body 2 and having a large number of lens forming recessed parts 6 subjected to laser processing.例文帳に追加

本発明のフライアイレンズシート製造用型１は、円筒状の外周面を有する本体２と、該本体の外周に設けられ、レーザ加工された多数のレンズ形成用凹部６を有するセラミックス層４と、を備えていることを特徴とする。 - 特許庁

To provide a copper-clad laminated plate having a low dielectric constant and a low dielectric tangent by a glass epoxy substrate, and is easy of production, molding, adhesion, multi-layer processing, processability, etc., in relation to a polytertrafluoroethylene substrate and a PPE substrate.例文帳に追加

低誘電率、低誘電正接の銅張積層板をガラスエポキシ基板で実現したものであり、テフロン（登録商標）基板やＰＰＥ基板に対して製造性、成形性、接着性、多層化、加工性等が容易である銅張積層板を提供する。 - 特許庁