「layer processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(53ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a substrate-mask fixing device which prevents damage to a substrate surface layer by a mask and displacement of a substrate when the substrate and the mask are brought into tight contact with each other and permits the use of the mask of a nonmagnetic substance in subjecting the substrate to a mask processing.例文帳に追加

基板にマスク処理を施す際、基板とマスクを密接させる際のマスクによる基板表面層への損傷および基板の位置ずれを防止するとともに、非磁性体のマスクの使用も可能である基板・マスク固定装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for processing the wooden basis of a wood base to produce coated articles which are smooth and excel in resistance to dry cracking and alkali resistance, with little coating defects such as bubbles and blowouts or the like caused by a trachea holes in a surface layer of a wood base, fluffing and moisture, or the like.例文帳に追加

木質系基材の表層部の導管孔、ケバ、水分等に起因する発泡、吹き出し等の塗膜欠陥の少ない平滑で耐干割れ性及び耐アルカリ性が良好な塗装製品を得るための木地処理方法を提供する。 - 特許庁

An embedded silicon oxide film of a SOI substrate is used as the lower clad 102 and the core 103 is formed by processing the silicon layer of the SOI substrate.例文帳に追加

ＳＯＩ基板の埋め込みシリコン酸化膜を下部クラッド１０２として使用し、このＳＯＩ基板のシリコン層を加工することによってコア１０３を形成し、ＳＯＩ基板の表面にシリコン酸化膜を堆積することによって上部クラッド１０４を形成する。 - 特許庁

The chromium-plated roll on the surface of which the layer of a chromium plate having semispherical projecting shapes of 1-12 μm in diameter and the manufacturing method of the chromium-plated roll by applying chromium-plating after performing blast-processing on the surface of the roll are provided.例文帳に追加

ロール表面にブラスト処理を施した後、クロムめっきを施すことにより、表面に直径１〜１２０μｍの半球状凸形状を有するクロムめっき層を設けることを特徴とするクロムめっきロールと該クロムめっきロールの製造方法。 - 特許庁

To provide a method of forming film which can eliminate a TiN film forming process by thermal CVD method conventionally used for obtaining enough thickness as a barrier layer by using low-temperature processing tungsten film formation process.例文帳に追加

低温のプロセス温度によるタングステン膜の形成工程を用いることで、バリヤ層として十分な膜厚を得るために従来行われた熱ＣＶＤによるＴｉＮ膜の形成工程を省略することが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

A conversion circuit 13 applies interpolation (up-sampling) processing to low-order prediction image data L_PRE generated by the low-order layer encoding circuit 12 to generate low-order prediction data L_PREb having the same resolution (number of scanning lines) as that of the progressive image data S10_1.例文帳に追加

変換回路１３において、下位レイヤ符号化回路１２が生成した下位予測画像データＬ＿ＰＲＥを補間（アップサンプル）処理して、プログレッシブ画像データＳ１０＿１と同じ解像度（走査線数）の下位予測画像データＬ＿ＰＲＥｂを生成する。 - 特許庁

To provide a method of producing a steel plate pair wherein a nonmagnetic layer is formed as desired using a steel material having an insulating film on both sides while shortening the time required for processing, and also to provide a laminated steel plate, and a method of manufacturing the core of a rotary electric machine.例文帳に追加

両面に絶縁被膜を有する鋼材を用いて、要処理時間が短く、非磁性層を所望どおりに形成することができる鋼板対の製造方法、積層鋼板及び回転電機コアの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The rugged shape is formed by plastic processing on the coating bar for forming the coating film of definite thickness on a surface of the base material to be coated and further the outer peripheral surface of the formed rugged shape is formed of a fluorinated resin layer.例文帳に追加

塗工基材の表面に一定の厚さの塗工膜を形成させるコーティングバーが塑性加工により凹凸形状が形成され、さらに形成された凹凸形状の外周表面がフッ素系樹脂層により形成されているコーティングバー。 - 特許庁

The organic thin-film solar cell is manufactured by forming fine grooves with a nano-scale width on a layer on which a bulk hetero junction by a donor and an acceptor is formed by applying nano-imprint processing by using an imprint frame, and forming electrodes in the fine grooves.例文帳に追加

インプリント型を用いてナノインプリント加工することによりドナーとアクセプターによるバルクへテロ接合が形成された層にナノスケール幅の微細な溝を形成し、該微細な溝に電極を形成して有機薄膜太陽電池を製造する。 - 特許庁

By adding the water soluble polymer into the alkaline aqueous solution, the friction coefficient and LPD density of processing origin generated on the mirror-polished wafer surface layer part can be reduced, whereby the low LPD density epitaxial silicon wafer can be manufactured.例文帳に追加

水溶性高分子をアルカリ性水溶液に添加したので、摩擦係数を低下させ、鏡面研磨されたウェーハ表層部に発生する加工起因のＬＰＤの密度を低減でき、ＬＰＤ密度が低いエピタキシャルシリコンウェーハを製造できる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus that performs selenization or sulfurization process for forming a light absorbing layer of a CIS-based solar cell, which includes a furnace body whose machining is easier than that of a quartz chamber, and also provide a chamber whose handling is easier than that of the quartz chamber.例文帳に追加

ＣＩＳ系太陽電池の光吸収層形成のためのセレン化又は硫化処理を行う基板処理装置において、石英製のチャンバーと比較して、加工が容易な炉体を有する基板処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a three dimensional porous structure suitably applicable to a semiconductor device, a light transmissive substrate, and a micro-electromechanical mechanism, etc. by processing a non-porous layer into a structure capable of selectively and finely having a composite function; and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

選択的に且つ微細に複合機能を持ちえる構造に非多孔質層を加工し、半導体素子、光透過性基板、微小電気機械機構等に好適に応用可能な三次元多孔質構造体及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a variable program and a variable program (a) of electronic commerce capable of varying a price of a transaction by analyzing a noticing degree from access information of a potential customer layer who browses a WEB transaction site, digitizing the noticing degree, and performing processing.例文帳に追加

ＷＥＢ取引サイトを閲覧した潜在顧客層のアクセス情報から注目度を解析し、数値化し加工処理することによって取引の価格を可変させられる電子商取引の可変プログラムおよび可変プログラムａを提供する。 - 特許庁

To solve a problem that sufficiently prediction processing can not be performed for an image frame obtained from a base layer or the quantity of information for representing differential information increases in an area where comparatively great high-frequency components are continued, in an image frame.例文帳に追加

画像フレーム中の比較的大きな高周波数成分が連続した領域においては、ベースレイヤから得られる画像フレームでは十分な予測処理を行うことができないか、差分情報を表現するための情報量が増大する。 - 特許庁

A connecting hole 27 is perforated in the insulating layer 26 so that the terminal faces 22a and 23a of the circuit parts 22 and 23 can be exposed, and the connection with the circuit parts can be operated in a batch by the through-hole formation with the connecting hole 27 and etching processing.例文帳に追加

当該絶縁層２６に接続孔２７を穿設して前記回路部品２２、２３の端子面２２ａ、２３ａを露出させ、前記接続孔２７によるスルーホール形成とエッチング処理により前記回路部品への接続を一括して行う。 - 特許庁

In this yarn package, a winding yarn layer 1a is formed on the yarn winding bobbin 1, and these yarn end processing method and device of the yarn package cut and remove the bunch winding 1b by installing the yarn winding bobbin 1 on a chucking shaft 12.例文帳に追加

糸条パッケージは、上記糸条巻取ボビン１に巻糸層１ａを形成したもの、また糸条パッケージの糸端処理方法及び装置は、上記糸条巻取ボビン１をチャッキング軸１２に装着して、バンチ巻１ｂの切断除去などを行う。 - 特許庁

To provide a color cathode ray tube which prevents the increment of the contact resistance due to the damage of conductive layer contacted to bulb spacer when processing withstand voltage needed application of high voltage, and the occurrence of mis-convergence synchronized with parabola voltage.例文帳に追加

高電圧を印加する耐電圧処理時にバルブスペーサが接触する導電層が損傷して接触抵抗が増加するのを防止し、パラボラ電圧に同期したコンバージェンスずれが発生するのを防止したカラー陰極線管を提供する。 - 特許庁

To provide a film-shaped semiconductor chip adhesive agent which can be easily divided into a chip size by an expand process after being adhered to an adherend such as a semiconductor wafer or a semiconductor chip, or a semiconductor processing adhesive sheet including an adhesive agent layer.例文帳に追加

半導体ウエハや半導体チップなどの被着体に貼着された後、エキスパンド工程により、容易にチップサイズに分割できる半導体チップ用フィルム状接着剤あるいは接着剤層を有する半導体加工用接着シートを提供する。 - 特許庁

In a multi-layer network, in which the router of a packet network NW3 and the switch of a circuit-exchange network NW2 cooperate and communicate data, a traffic information processing device 1 creates a traffic matrix composed from traffic quantities which flow between arbitrary routers.例文帳に追加

パケットネットワークＮＷ３のルータと、回線交換ネットワークＮＷ２のスイッチとが連携してデータを通信するマルチレイヤネットワークにおいて、トラヒック情報処理装置１が、任意のルータ間を流れるトラヒック量から構成されるトラヒックマトリックスを作成する。 - 特許庁

In the adhesive sheet for semiconductor processing having an adhesive layer (2) on at least one surface of a base film (1), the base film contains polyethylene having a density of 0.915 g/cm^3 or lower.例文帳に追加

基材フィルム（１）の少なくとも片面に粘着剤層（２）を有する半導体加工用粘着シートにおいて、前記基材フィルムが、密度０．９１５ｇ／ｃｍ^3 以下の低密度ポリエチレンを含有してなることを特徴とする半導体加工用粘着シート。 - 特許庁

In a halftone processing of the digital image, all the dots are obtained by using a raster of the same matrix structure, irrelevantly to the respective colors thereof, in the same layer, while the dots relating to the different layers are obtained by using rasters of different matrix structures.例文帳に追加

デジタル画像の中間調処理では、同一層内では、全てのドットがそれぞれの色と無関係に同じマトリクス構造のラスタを使用して得られ、一方、異なった層に関連したドットは異なるマトリクス構造のラスタを使用して得られる。 - 特許庁

The base film of a film for processing a semiconductor wafer includes the base film and an adhesive layer formed on the base film, and the softening point of the base film is equal to or less than 60°C.例文帳に追加

本発明の半導体ウエハ加工用フィルムの基材フィルムは、前記基材フィルムと前記基材フィルム上に設けられた粘着剤層とを有する半導体ウエハ加工用フィルムの基材フィルムであって、前記基材フィルムの軟化点が６０℃以下である。 - 特許庁

In the daytime, the user's urgent image formation processing request in the time zone is responded while suppressing an amount of use of power with high usage fees by using the power accumulated in the electric double layer capacitor.例文帳に追加

日中は、この電気二重層コンデンサＣｃに蓄えられた電力を使用することにより、使用料金が高価な電力の使用量を抑制しながらも、この時間帯におけるユーザの緊急な画像形成処理要求に応えることを可能にする。 - 特許庁

A specified pattern is presented to a data input layer 101 to perform learning needed for detecting a new feature class by a non-learning processing module comprising a plurality of neurons having a reception field structure for learning an unlearned feature class.例文帳に追加

所定のパターンをデータ入力層１０１に提示することにより、未学習の特徴クラスを学習すべき受容野構造が不定な複数ニューロンからなる未学習処理モジュールにおいて新規な特徴クラスの検出に必要な学習を行う。 - 特許庁

The deposition and processing of the layer is carried out under thermal condition in which one or a plurality of layers deposited and processed underneath, particularly an organic material, is not subjected to a static temperature or a dynamic temperature excessively exceeding limitation for stability.例文帳に追加

層の蒸着及び処理は、すでに蒸着されて処理された下にある単数又は複数の層、特に有機材料を、安定のための限界を超える過度な静的又は動的温度に晒さないような熱的条件下で行われる。 - 特許庁

In the case of preparing the photographic print from the photographic film on which photographing is performed by the film unit with a lens 10, the print designation data is read out from the magnetic recording layer so as to add image processing for applying the special filter effect to the original image data of the photographic film.例文帳に追加

このレンズ付きフイルムユニット１０で撮影した写真フイルムから写真プリントを作成する際には、磁気記録層からプリント指示データを読み出して、写真フイルムの原画像データに特殊フイルタ効果を施す画像処理を加える。 - 特許庁

This is a support 1 for hot processing which is composed of base material 2 consisting of sintered substance of a silicon carbide, a silicon nitride, or a silicon carbide impregnated with silicon metal, and a support layer 3 for supporting material 4 to be processed.例文帳に追加

炭化珪素質、窒化珪素質、若しくは金属珪素含浸炭化珪素質の焼結体からなる基材２と、基材２の表面に形成された、被加工材４を支持するための支持層３とから構成された熱間加工用の支持体１である。 - 特許庁

An interpreter 45 which transmits, receives, encodes, decodes, interprets or executes mobile agents is arranged on an upper layer of control software of the image processing device, and mobile agents 41, 42, ... and so on transferred from client devices such as a computer and a word processor are executed.例文帳に追加

画像処理装置の制御ソフトウェアの上位層に、モバイルエージェントを送受信、符号／復号化、解釈、実行するインタープリタ４５を配し、コンピュータやワードプロセッサなどのクライアント装置から移動してきたモバイルエージェント４１、４２…を実行する。 - 特許庁

An ATM cell is reproduced by providing this ATM transmission line monitoring device with a monitor signal fetching part 1 that picks up a signal at an optional point of a communication cable, amplifying the picked up signal by an input signal amplification part 21 and performing a frame synchronization processing by a physical layer synchronization part 22.例文帳に追加

通信ケーブルの任意の点で信号をピックアップするモニタ信号取込み部１を設け、このピックアップされた信号を入力信号増幅部２１で増幅し、物理レイヤ同期部２２でフレーム同期処理を行ってＡＴＭセルを再生する。 - 特許庁

In an exemplary embodiment, the oxide layer may be a graded structure formed using two distinct processing operations, a first operation at a relatively low temperature, and a final operation at a temperature above the viscoelastic temperature of the oxide film.例文帳に追加

例示的な実施形態では酸化層を、比較的に低い温度での第１の操作と酸化膜の粘弾性温度よりも高い温度での最終操作との２つの異なった処理操作を使用して形成された傾斜構造とすることができる。 - 特許庁

The storage controller is provided with a logical format management module 21 provided with a bit map 34 for managing progress information indicating whether the prescribed respective format processing areas of logical volume are not formatted yet or already formatted, and a low-order layer module 22 actually accessing the physical disk 2.例文帳に追加

論理ボリュームの所定の各フォーマット処理領域が未フォーマットかフォーマット済かの進捗情報を管理するためのビットマップ３４を有する論理フォーマット管理モジュール２１と、物理デイスク２を実アクセスする下位層モジュール２２とを有する。 - 特許庁

To form a laminated body prepared for thermal transcription, including a peeling protection layer having a stable easy peeling property, improving film peeling between a transcription part and a non-transcription part while satisfying basic characteristics such as a magnetic characteristic, heat resistance and solvent resistance and having high processing suitability.例文帳に追加

安定な軽剥離性を持ち、磁気特性、耐熱性、耐溶剤性等の基本的特性を満たしつつ、転写部分と非転写部分との膜切れ性がよく、加工適正に優れた剥離性保護層を有する熱転写用積層体を形成する。 - 特許庁

A porous material, obtained by dry distillation of a refuse- derived solid fuel obtained by processing refuse into a specified shape by crushing, drying and molding, is scattered on a fallow paddy field and subsequently the scattered porous material and a surface layer portion of the fallow paddy field are mixed.例文帳に追加

ごみの破砕、乾燥および成形を経て所定の形状に加工された、ごみ固形燃料を乾留して得られる多孔質体を、休耕田に撒布したのち、撒布した多孔質体と休耕田の表層部分とを混合処理する。 - 特許庁

A silicon nitride film 115 is formed as an etching stop layer for the processing of a bottom borderless contact on a control gate electrode 105 of a memory cell so that a hydrogen (H_2) concentration in the film is in a range of 1.5×10^21 to 2.6×10^21 atoms/cm^3.例文帳に追加

メモリセルの制御ゲート電極１０５上にボトムボーダレスコンタクト加工用のエッチングストップ層として窒化珪素膜１１５を、膜中水素（Ｈ_２）濃度が１．５×１０^２１〜２．６×１０^２１ａｔｏｍｓ／ｃｍ^３の範囲内となるように形成する。 - 特許庁

To provide an image protecting film capable of smoothly performing thermal transfer processing and capable of forming a protective layer excellent in image protecting properties, blocking resistance or the like on an image surface, an image protecting method using the same and overcoated recorded matter.例文帳に追加

熱転写処理をスムーズに行うことができ、且つ画像保護性能、耐ブロッキング性などに優れた保護層を画像面上に形成し得る画像保護フィルム、並びにこれを用いた画像保護方法及びオーバーコート記録物を提供すること。 - 特許庁

To improve a usual method for controlling the resistance of a resistor path buried in a composite layer of a measuring sensor to a reference value so as to provide a method capable of dispensing with an excess processing step of sealing an opening.例文帳に追加

本発明の課題は、測定センサの複合層内に埋め込まれた抵抗体路の抵抗を基準値に調整するための従来の方法を改善し、開口部をシーリングする余分な処理ステップが不要な方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a film forming method capable of dispensing with a process of forming a TiN film by a hot CVD method that is usually utilized for obtaining a barrier layer of enough thickness because a tungsten film forming process of low processing temperature is used.例文帳に追加

低温のプロセス温度によるタングステン膜の形成工程を用いることで、バリヤ層として十分な膜厚を得るために従来行われた熱ＣＶＤによるＴｉＮ膜の形成工程を省略することが可能な成膜方法を提供する。 - 特許庁

By thermally processing the semiconductor chip 103 and a wiring board 140 for flip-chip mounting, the thermo-setting resin 171 with no defects such as cracking is so disposed as to cover the wiring layer 151 and a part of the wiring substrate 140.例文帳に追加

この半導体チップ１０３と配線基板１４０とをフリップチップ実装するための熱処理を行うことで、配線層１５１と配線基板１４０の一部とを覆うようにクラック等の損傷のない熱硬化樹脂部材１７１が配設される。 - 特許庁

A semiconductor wafer-retaining protective hot-melt sheet is a sheet for retaining and protecting semiconductor wafers which is heated and applied to the surface of a semiconductor wafer in processing semiconductor wafers and has at least a hot-melt layer 1 having a melting point of not higher than 105°C.例文帳に追加

半導体ウエハ保持保護用ホットメルトシートは、半導体ウエハ加工時において、半導体ウエハ表面に加熱して貼り付けて半導体ウエハを保持保護するためのシートであって、融点１０５℃以下のホットメルト層Ａを少なくとも有している。 - 特許庁

For inputted layout data 101, the number of the contact holes to be used for connection is calculated from the line segment area of the different layer wiring connected with wiring in a contact number calculation part S101, and contacts are generated in a contact generation processing part S102.例文帳に追加

入力されたレイアウトデータ１０１に対し、配線と接続される異レイヤ配線の線分面積から接続に使用するコンタクトホールの数をコンタクト数算出部Ｓ１０１にて算出し、コンタクト生成処理部Ｓ１０２にてコンタクトを生成する。 - 特許庁

A noise lead-out pattern 4 formed in the front and rear of the signal processing substrate 1 is connected to the frame ground layer 9 through a through-hole 14 and is connected to a metal frame of a control panel 16 through a clip 15.例文帳に追加

また、信号処理基板１の表面及び裏面に形成されたノイズ導出用パターン４がフレームグランド層９とスルーホール１４を通じて接続されていると共に、クリップ１５を通じて制御盤１６の金属フレームと接続されている。 - 特許庁

To provide a wafer processing tape which will not oversoften, in heat treatment which uses a thermosetting-type surface protective film, can be used in an expansion step for splitting an adhesive layer, and has uniform and isotropic expansion property.例文帳に追加

熱硬化タイプの表面保護テープを使用する場合の加熱処理において過剰軟化せず、しかも、接着剤層を分断するエキスパンド工程において使用可能な均一且つ等方的な拡張性を有するウエハ加工用テープを提供すること。 - 特許庁

The activated carbon is obtained by processing the activated carbon material through carbon oxide gas containing low temperature plasma treatment or boric acid containing water vapor low temperature plasma treatment, and the obtained activated carbon is formed and employed as the polarizable electrode for the electric double layer capacitor.例文帳に追加

活性炭は活性炭材料を含炭酸ガス低温プラズマ処理または含ホウ酸水蒸気低温プラズマ処理することによって得られ、得られた活性炭を用いて成形され、電気二重層キャパシタ用分極性電極として用いられる。 - 特許庁

In this case, an OSD controller 24 reads desired OSD images from the ROM 23, obtains positions of the black zones from the microcomputer 20 and gives an instruction of sequentially displaying the black zones for each layer of the OSD images to the image processing section 17.例文帳に追加

このとき、ＯＳＤコントローラ２４は、ＲＯＭ２３から所望のＯＳＤ画像を読み出し、マイコン２０から黒帯部分の位置を求めて、ＯＳＤ画像の階層ごとに黒帯部分を順次表示する指示を画像処理部１７に送出する。 - 特許庁

A bridge function part 12 connects one of a data processing part 13 and a CPU 16 to an Ethernet (R) interface part 11 through a MAC layer by the switch setting contents (authentication input mode/normal communication mode) of a mechanical switch 15.例文帳に追加

ブリッジ機能部１２はメカニカルスイッチ１５のスイッチ設定内容（認証入力モード／通常通信モード）によってデータ処理部１３及びＣＰＵ１６のうち一方をイーサネット（登録商標）インタフェース部１１にＭＡＣレイヤにおいて接続する。 - 特許庁