「line pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(41ページ目) - Weblio英語例文検索

In the backing 10, a plurality of contacts 22 are provided in a sparse array pattern on a first face 12A of a backing material 12, and a plurality of contacts 26 are provided in a signal line connecting pattern on a second face 12B.例文帳に追加

バッキング１０において、バッキング材料１２の第１面１２Ａ上にはスパースアレイパターンをもって複数のコンタクト２２が設けられ、一方その第２面１２Ｂ上には信号ライン接続用のパターンをもって複数のコンタクト２６が設けられる。 - 特許庁

Moreover, a stepping area absorbing layer 30 is formed to a region where a prescribed cutting line preset based on the location of an internal electrode pattern 20 is removed among the regions where the internal electrode pattern 20 is not formed at one surface of the ceramic green sheet 11.例文帳に追加

更に、セラミックグリーンシート１１の一面において内部電極パターン２０が形成されない領域のうち、内部電極パターン２０の位置に基づいて設定される切断予定線を除いた領域に、段差吸収層３０を形成する。 - 特許庁

To provide a photosensitive composition which can provide good pattern shape and line-edge roughness in normal exposure (dry exposure), liquid immersion exposure and double exposure, a pattern-forming method using the photosensitive composition, and a compound used in the photosensitive composition.例文帳に追加

通常露光（ドライ露光）、液浸露光、二重露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物を提供する。 - 特許庁

To provide a method and a device for adjusting a drawing condition to reliably decrease changes in the line width of an image pattern when the image pattern is drawn on an image recording medium by using a plurality of two-dimensionally arranged drawing elements.例文帳に追加

二次元状に配列された複数の描画要素を用いて画像記録媒体に画像パターンを描画する際、画像パターンに生じる線幅変動を確実に低減させることのできる描画状態調整方法及び装置を提供する。 - 特許庁

At a position away from above the light emitting part 11 and also at a position that a cleavage 19 which is off a desired cleavage line 22 intersecting the light emitting part 11 is in contact, a dummy pattern 18 (first dummy pattern) is formed on the single crystal wafer 12.例文帳に追加

発光部１１の上方から離れた位置であり、かつ発光部１１を横切る所望の劈開ライン２２から外れた劈開１９が接する位置において単結晶ウェハ１２上にダミーパターン１８（第１のダミーパターン）を形成する。 - 特許庁

An inspection pattern forming part prints an inspection pattern in which straight line groups G1-G8 each composed of 32 straight lines L1-L32 arranged by an interval of 75 dpi in a main scan direction of an inkjet head extending in a paper conveyance direction are formed.例文帳に追加

検査パターン形成部が、用紙搬送方向に延在しつつインクジェットヘッドの主走査方向に７５ｄｐｉの間隔で配列された３２個の直線Ｌ１〜Ｌ３２からなる直線群Ｇ１〜Ｇ８が形成された検査パターンを印刷する。 - 特許庁

To provide a printed circuit board reduced in the pattern area of a wiring pattern of a power supply line for distributing power supply, in the printed circuit board with electronic components mounted on the board and operated by power supplied from the outside and distributed.例文帳に追加

外部から電源が供給され、当該電源が分配されることにより動作する電子部品が実装されるプリント基板であって、電源を分配する電源ラインの配線パターンのパターン面積の削減が図られたプリント基板の提供。 - 特許庁

In the semiconductor package board corresponding to an IC chip having bonding pads arranged on a straight line, each bonding pattern is narrowed on a bonding position and widened on a position separated from the bonding position to generate differences of heat capacity in the bonding pattern at the time of reflow.例文帳に追加

直線上のボンディングパッドを持つＩＣチップに対応した半導体パッケージ基板において、ボンディングパターンをボンディング位置で狭いパターンとし、離れた位置で幅広のパターンとすることで、リフロー時ボンディングパターンの中で熱容量の差を持たせる。 - 特許庁

To provide a resist composition which is suitable for ArF excimer laser lithography and has preferable line edge roughness in addition to performances such as resolution, sensitivity and a pattern shape, and to provide a chemically amplified positive resist composition in which the pattern can be more finely divided in a reflow process.例文帳に追加

ＡｒＦエキシマレーザーリソグラフィに適した、解像度、感度、パターン形状などの性能に加えて、ラインエッジラフネスが良好であるレジスト組成物、リフロー工程においてパターンをより微細化できる化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive composition and a pattern forming method that uses identical satisfying high sensitivity, high resolution, proper pattern shape, proper line edge roughness and dry etching resistance, at the same time.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状及び良好なラインエッジラフネス、さらには耐ドライエッチング性を同時に満足する感活性光線性又は感放射線性低分子化合物含有組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which has improved DOF (Depth Of Focus), storage stability, resolution and pattern features and suitable even for a liquid immersion process for a line width of not more than 45 nm, and to provide a pattern forming method using the composition.例文帳に追加

ＤＯＦ、保存安定性、解像性、パターン形状が改良され、線幅４５ｎｍ以下の液浸プロセスにも適合した感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a resist material having high sensitivity while having high resolution, attaining a proper pattern shape after exposure, and decreasing line edge roughness, in particular, a chemically amplified positive resist material, and to provide a pattern forming method that uses the material.例文帳に追加

高解像度でありながら高感度であり、なおかつ露光後のパターン形状が良好でラインエッジラフネスが小さいレジスト材料、特に化学増幅ポジ型レジスト材料、及びこれを用いたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide an intermediate layer composition for a multilayer resist process which is soluble in an organic solvent and is excellent in preservation stability and also in a trailing shape during upper layer patterning, line edge roughness and pattern peeling of an upper resist and to provide a a method for forming a pattern.例文帳に追加

有機溶剤に可溶であり、保存安定性に優れ、かつ上層レジストパターニング時の裾引き形状、ラインエッジラフネス、上層レジストのパターン剥れに優れた多層レジストプロセス用中間層組成物及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a colored photosensitive resin composition for a UV ray laser, the composition capable of forming a pattern having high sensitivity of line width and excellent linearity and heat resistance, and to provide a pattern forming method, a method for manufacturing a color filter, a color filter and a display device.例文帳に追加

線幅感度が高く、直線性、および耐熱性に優れるパターンを形成しうる紫外光レーザー用着色感光性樹脂組成物、パターン形成方法、カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ及び表示装置を提供する。 - 特許庁

Further, the second lens makes emit the direct light from the planar light source as the light diffusing in the horizontal direction and is configured to form a second light distribution pattern having a horizontal cut-off line which is irradiated superimposed on the first light distribution pattern.例文帳に追加

また、第２レンズは、面状光源からの直射光を水平方向に拡散する光として出射させ、第１配光パターンに重畳して照射される、水平カットオフラインを有する第２配光パターンを形成するように構成される。 - 特許庁

To provide an exposure apparatus and a control method thereof capable of sufficiently coping with furthermore fining of a pattern by preventing alteration of the resist so as to suppress variations in the line width of the pattern, even when exposure such as electronic beam exposure takes much processing time per one substrate.例文帳に追加

電子ビーム露光のように、基板１枚あたりの処理時間が非常に長い場合でも、レジストの変質を防止してパターンの線幅変動を抑止し、パターンの更なる微細化に十分対応可能な信頼性の高い露光を実現する。 - 特許庁

A resistor Ra is connected between a copper foil pattern 5 and 11 where the collector of a transistor Tr with a large calorific value is connected, and heat is released to a ground line 9 where the copper foil pattern 11 is connected.例文帳に追加

発熱量の大きいトランジスタＴｒのコレクタが接続される銅箔パターン５と銅箔パターン１１との間に抵抗Ｒａを接続し、この抵抗Ｒａを放熱経路として、銅箔パターン１１が接続するグランドライン９に放熱する。 - 特許庁

The parts of the region 11 respectively consist of the white ground of a paper in a highlight calibration part 7, the highest density of a solid pattern in a shadow calibration part 8 and a network point of a resolution rougher than that of the region 10 or tens of thousand-line pattern in an intermediate calibration part 9.例文帳に追加

参照領域１１は、それぞれハイライト校正部７では紙の白地、シャドウ校正部８ではは最大濃度のベタパターン、中間校正部９では連続領域よりも解像度の荒い網点あるいは万線パターンからなる。 - 特許庁

To solve a problem that, in a conventional headlamp for a vehicle, such portion of a cut-off line of a light distribution pattern as shielded by a sub fixed shade is not clear, or the light of the portion shielded by the sub fixed shade of the light distribution pattern is greatly lost.例文帳に追加

従来の車両用前照灯では、配光パターンのカットオフラインのうちサブ固定シェードにより遮蔽される部分が不明瞭となり、あるいは、配光パターンのうちサブ固定シェードにより遮蔽される部分の光が大きく抜ける。 - 特許庁

As a different dot pattern is printed on every tool for designing the electronic form on the slip 3 for the ruled line, the design system 100 specifies a tool used for the design based on positional coordinates on the dot pattern included in the entered data.例文帳に追加

罫線用帳票３は電子フォームを設計するツール毎に異なるドットパターンが印刷されているため、設計システム１００は、記入データに含まれるドットパターン上の位置座標に基づいて設計の際に使用するツールを特定する。 - 特許庁

Since the horizontal line intervals of the adjusting pattern are made in the number of lines different from the number of electron guns and a multiple of the number of the electron guns, deviation of the electron beams is visually recognized as the shape change of an adjusting pattern image.例文帳に追加

調整用パターンの横線間隔を電子銃の本数およびその倍数と異なるライン数にしているので、電子ビームのずれをスクリーン部７上に表示された調整用パターン画像の形状変化として視覚的に認識できる。 - 特許庁

To provide a substrate treatment method and a substrate treatment device in which the line width or the like of a resist pattern really formed in a photo-lithography process can be precisely measured and a desired circuit pattern can be finally formed after etching.例文帳に追加

フォトリソグラフィ工程で実際に形成されたレジストパターンの線幅等を精密に測定でき、エッチング処理後において最終的に所望の回路パターンを形成することができる基板処理方法及び基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a semiconductor device fine patterning method of forming by one photolithography step the same fine pattern as that by a conventional double patterning method to attain uniformity of pattern line widths and production cost reduction.例文帳に追加

１回のフォトリソグラフィ工程により、従来の二重パターニング法と同程度の微細パターンを形成することが可能で、パターンの線幅の均一性の確保及び製造コストの節減が可能な半導体素子の微細パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

Then, at the time of winning in the drawing, stop control is performed so as to stop and display pattern parts (the patterns of a left reel part and a right reel part) matched with the role of the pattern combination corresponding to the ready-to-win prize on the winning line.例文帳に追加

そして、この抽選で当選したとき、上記リーチ賞に対応した図柄の組合せのうち上記役と一致する図柄部分（左リール部分と右リール部分の図柄）が入賞ライン上に停止表示するように停止制御する。 - 特許庁

The shape of a pattern to be exposed is rendered to be a bit map, the pattern data in the bit map format is rearranged and stored for every scanning line 401, 402, 403, and 404, and exposure beam scanning on the sample 108 is subjected to on/off control based on the stored data.例文帳に追加

露光すべきパターンの形状をビットマップ化し、該ビットマップ形式のパターンデータを走査線４０１、４０２、４０３、４０４毎に並べ替えて記憶し、記憶したデータに基づいて試料１０８上を走査する露光ビームをオンオフ制御する。 - 特許庁

Photogravur rolls 3a and 3b are installed above a path line of a carrier film 1, and platens 4a and 4b are installed below, thus forming a pattern of an internal electrode and a pattern of a step cancellation dielectric on the upper side of the carrier film 1.例文帳に追加

グラビア印刷ロール３ａ、３ｂを、キャリアフィルム１のパスラインよりも上側に設置し、圧胴４ａ，４ｂを下側に設置することにより、キャリアフィルム１の上側に内部電極用パターンおよび段差解消誘電体用パターンを形成する。 - 特許庁

As a result, even if there is some variation in arrangement of the plurality of light-emitting chips 200, proper light distribution control of a light distribution pattern P can be carried out, and a cutoff line CL with the clear light distribution pattern P can be obtained.例文帳に追加

この結果、この発明は、複数個の発光チップ２００の配列において多少のばらつきがあっても、配光パターンＰの適正な配光制御を行うことができ、かつ、配光パターンＰの明瞭なカットオフラインＣＬを得ることができる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having high resolving power in the production of a semiconductor device, also having a rectangular shape and ensuring low edge roughness of a line pattern and a small shift in dimensions in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、しかも矩形形状を有し、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Subsequently, a determination frame 406 surrounding the outer frame of the first provisional stop pattern display area 404a by a bold line is displayed and the determination frame 406 moves, sequentially surrounding the provisional stop pattern display areas 404a to 404f.例文帳に追加

続いて、第１の仮停止図柄表示領域４０４ａの外枠を太線で囲い込む決定枠４０６が表示され、この決定枠４０６が各仮停止図柄表示領域４０４ａ〜４０４ｆを順次囲うようにして移動する。 - 特許庁

At the time of operating solder print inspection in a substrate mounting line, normalization correlation method pattern matching is operated, the detection of the normal solder print at a constant position with the normal solder pattern is operated, and the normal solder and defective solder are assigned according to the judgment of validity and invalidity.例文帳に追加

基板実装ラインの中ではんだ印刷検査を行う際、正規化相関法パターンマッチングを行い、正常はんだパターンで定位置での正常はんだ印刷の検出を行い、良否判定により正常はんだと不良はんだを振り分ける。 - 特許庁

Loading effect and/or fogging effect for changing a CD are calculated, mask CD data are corrected in advance by the calculation, and exposure is made by correction pattern data, thus correcting line width in a pattern, without generating process loss due to additional exposures.例文帳に追加

ＣＤを変化させるローディング効果及び／またはフォギング効果を計算し、これによりマスクＣＤデータをあらかじめ補正し、補正されたパターンデータにより露光することにより、追加露光による工程損失の発生なしにパターンの線幅を補正できる。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition which ensures a good pattern profile and good line edge roughness in normal exposure (dry exposure) and immersion exposure, a pattern forming method using the positive photosensitive composition, and to provide a compound used for the positive photosensitive composition.例文帳に追加

通常露光（ドライ露光）、液浸露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物を提供する。 - 特許庁

To decrease resistance by increasing the conductor thickness of a conductor pattern constituting a transmission line equivalently, and to suppress a transmission loss caused by the concentration of an electric field on a bend in the case of a conductor pattern having a bend.例文帳に追加

伝送線路を構成する導体パターンの導体厚を等価的に厚くして抵抗値を下げることができると共に屈曲部分を有する導体パターンであっても屈曲部分での電界集中による伝送損失を抑制できるようにすること。 - 特許庁

To provide a resist pattern formation apparatus using an ink jet method which can easily manage the width of a resist line and can respond to fine pattern formation and can prevent the generation of a satellite (mist) and makes double-sided image formation possible.例文帳に追加

本発明は、レジストラインの幅を管理しやすく、パターンのファイン化に対応でき、また、サテライト(mist)の発生を防止でき、かつ、両面画像形成を可能にするインクジェット方式によるレジストパターンの形成装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

A mesh pattern of resin composition having an average line width of 50 μm or less is formed on a transparent base material by gravure printing method, and a metal layer is provided on that pattern thus producing a transparent electromagnetic wave shielding material imparted with conductivity.例文帳に追加

透明基材上にグラビア印刷法により樹脂組成物からなる平均線幅５０μm 以下の網状パターンが形成され、そのパターン上に金属層が設けられ、導電性が付与されている透明電磁波遮蔽材料が提供される。 - 特許庁

The composite transistors CT10-CT30 are so disposed that gate pads GP are arranged in a line, and the gate pads GP are located closer to a conductor pattern P91 so that a distance between the gate pads GP and the conductor pattern P91 is short.例文帳に追加

複合トランジスタＣＴ１０〜ＣＴ３０は、ゲートパッドＧＰが一列に並び、かつゲートパッドＧＰから導体パターンＰ９１までの距離が短くなるようにゲートパッドＧＰの配列が、導体パターンＰ９１の配設側寄りとなるように配設されている。 - 特許庁

The electric control device 20 displays a guide line 24 set based on the interval of the belt-shaped pattern 12a on the display device 22, and stores a pattern matching image 26 formed on the display device 22 in the volatile storage part 17.例文帳に追加

電気制御装置２０は、帯状パターン１２ａの間隔に基づいて設定された案内線２４をディスプレイ装置２２に表示させるとともに、ディスプレイ装置２２に形成したパターンマッチング画像２６を揮発性記憶部１７に記憶させる。 - 特許庁

The surface side picked-up image obtained by picking up the surface side work pattern of a substrate inspection unit 15 by a line sensor LS1 is collated with a preliminarily prepared surface side reference product pattern, to distinguish a work substrate having defectiveness generated on the surface side thereof.例文帳に追加

基板検査単位１５の表側のワークパターンを、ラインセンサＬＳ１にて撮影して得られた表側撮影画像と、予め用意された表側基準製品パターンとを照合し、表側において、不良が発生しているワーク基板を判別する。 - 特許庁

A CCD image pickup element 1 uses a color coding pattern formed by arranging the unit checkerwise patterns each of which is composed of four lines in which the picture element arrangements on the third and fourth lines in a repetitive two-line two-picture element pattern composed of Ye, Mg, Cy, and G are inverted.例文帳に追加

ＣＣＤ撮像素子１は、Ｙｅ，Ｍｇ，Ｃｙ、Ｇからなる２ライン２画素の繰り返しパターンの内の３，４ライン目の画素配置をそれぞれ逆転した計４ラインからなる市松パターンを単位とした色コーティングパターンを使っている。 - 特許庁

A driving pattern applying different voltages to pixel electrode rows adjacent across a source line of a TFT array is used, and a short circuit defect between adjacent pixel electrodes is detected by potential distribution of the pixel electrodes obtained by the driving pattern.例文帳に追加

ＴＦＴアレイのソースラインを挟んで隣接する画素電極列に異なる電圧を印加する駆動パターンを用い、この駆動パターンによって得られる画素電極の電位分布によって、隣接する画素電極間の短絡欠陥を検出する。 - 特許庁

For this purpose, the drawing data of the basic pattern consisting of one recessed groove 26 and one projected line 27 is formed as a basis, and the patterns consisting of the recessed grooves 26 and the projected lines 27 varying in the pitches are continuously drawn by changing the scale of the drawing data of the basic pattern.例文帳に追加

そのために、１つの凹溝２６と凸条２７からなる基本パターンの描画データを基本とし、その基本パターンの描画データの縮尺を変えてピッチが異なる凹溝２６と凸条２７からなるパターンを連続的に描画する。 - 特許庁

The three dimensional position measurement part selects, among the multiple images, at least two images of rotation positions of the camera giving base line directions different from a direction of a pattern, relative to the pattern of a target, and measures a three dimensional position of the target.例文帳に追加

３次元位置計測部は、対象物の模様に対して、複数の画像から、模様の方向とは異なる方向に基線方向を与えるカメラ回転位置の少なくとも２つの画像を選択して、対象物の３次元位置を計測する。 - 特許庁

To provide an apparatus of forming a resist pattern by a dispenser system for forming double-sided images while easily managing the width of the resist line, coping with the fining of a pattern, and preventing the occurrence of satellites (mist).例文帳に追加

本発明は、レジストラインの幅を管理しやすく、パターンのファイン化に対応でき、また、サテライト(mist)の発生を防止でき、かつ、両面画像形成を可能にするディスペンサー方式によるレジストパターンの形成装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

In the tape inspection device for inspecting the pattern 21 formed on the tape surface by the scanning of a line sensor 11, the line sensor 11 is disposed along the longitudinal direction of a tape 1, and a sensor driving means for driving and sensing the line sensor 11 in the width direction of the tape is provided.例文帳に追加

本発明のテープの検査装置は、テープ面に付されたパターン２１を、ラインセンサー１１で走査して検査するテープの検査装置において、前記ラインセンサー１１を、テープ１の長さ方向に沿って配置するとともに、前記ラインセンサー１１をテープの幅方向に駆動走査するセンサー駆動手段を備えたものである。 - 特許庁

An image is scanned sequentially in a horizontal direction, then a histogram having a line segment length by measuring each length and the number of line segments which are continuous in a scan (vertical or horizontal) direction is produced after each pixel is binarized, then feature amount such as radius etc. is calculated from the histogram and probability distribution of each line segment length of each image pattern to be measured.例文帳に追加

画像を順次横方向に走査し、画素を２値化して走査（縦または横）方向に連続する線分の長さおよび個数を計測して線分長のヒストグラムを作成し、このヒストグラムおよび計測する画像パターンの線分長の確率分布から、半径などの特徴量を算出するようにした。 - 特許庁