「line pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(42ページ目) - Weblio英語例文検索

As a result, even if there is some variation in arrangement of the plurality of light-emitting chips 200, proper light distribution control of a light distribution pattern P can be carried out, and a cutoff line CL with the clear light distribution pattern P can be obtained.例文帳に追加

この結果、この発明は、複数個の発光チップ２００の配列において多少のばらつきがあっても、配光パターンＰの適正な配光制御を行うことができ、かつ、配光パターンＰの明瞭なカットオフラインＣＬを得ることができる。 - 特許庁

To provide a positive resist composition having high resolving power in the production of a semiconductor device, also having a rectangular shape and ensuring low edge roughness of a line pattern and a small shift in dimensions in pattern transfer to a lower layer in an oxygen plasma etching step.例文帳に追加

半導体デバイスの製造において、高解像力を有し、しかも矩形形状を有し、ラインパターンのエッジラフネスが少なく、酸素プラズマエッチング工程での下層へのパターン転写の際に寸法シフトが小さいポジ型レジスト組成物を提供すること。 - 特許庁

Subsequently, a determination frame 406 surrounding the outer frame of the first provisional stop pattern display area 404a by a bold line is displayed and the determination frame 406 moves, sequentially surrounding the provisional stop pattern display areas 404a to 404f.例文帳に追加

続いて、第１の仮停止図柄表示領域４０４ａの外枠を太線で囲い込む決定枠４０６が表示され、この決定枠４０６が各仮停止図柄表示領域４０４ａ〜４０４ｆを順次囲うようにして移動する。 - 特許庁

At the time of operating solder print inspection in a substrate mounting line, normalization correlation method pattern matching is operated, the detection of the normal solder print at a constant position with the normal solder pattern is operated, and the normal solder and defective solder are assigned according to the judgment of validity and invalidity.例文帳に追加

基板実装ラインの中ではんだ印刷検査を行う際、正規化相関法パターンマッチングを行い、正常はんだパターンで定位置での正常はんだ印刷の検出を行い、良否判定により正常はんだと不良はんだを振り分ける。 - 特許庁

Loading effect and/or fogging effect for changing a CD are calculated, mask CD data are corrected in advance by the calculation, and exposure is made by correction pattern data, thus correcting line width in a pattern, without generating process loss due to additional exposures.例文帳に追加

ＣＤを変化させるローディング効果及び／またはフォギング効果を計算し、これによりマスクＣＤデータをあらかじめ補正し、補正されたパターンデータにより露光することにより、追加露光による工程損失の発生なしにパターンの線幅を補正できる。 - 特許庁

To provide a positive photosensitive composition which ensures a good pattern profile and good line edge roughness in normal exposure (dry exposure) and immersion exposure, a pattern forming method using the positive photosensitive composition, and to provide a compound used for the positive photosensitive composition.例文帳に追加

通常露光（ドライ露光）、液浸露光において、パターン形状、ラインエッジラフネスが良好である、ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該ポジ型感光性組成物に用いられる化合物を提供する。 - 特許庁

To decrease resistance by increasing the conductor thickness of a conductor pattern constituting a transmission line equivalently, and to suppress a transmission loss caused by the concentration of an electric field on a bend in the case of a conductor pattern having a bend.例文帳に追加

伝送線路を構成する導体パターンの導体厚を等価的に厚くして抵抗値を下げることができると共に屈曲部分を有する導体パターンであっても屈曲部分での電界集中による伝送損失を抑制できるようにすること。 - 特許庁

To provide a resist pattern formation apparatus using an ink jet method which can easily manage the width of a resist line and can respond to fine pattern formation and can prevent the generation of a satellite (mist) and makes double-sided image formation possible.例文帳に追加

本発明は、レジストラインの幅を管理しやすく、パターンのファイン化に対応でき、また、サテライト(mist)の発生を防止でき、かつ、両面画像形成を可能にするインクジェット方式によるレジストパターンの形成装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

A mesh pattern of resin composition having an average line width of 50 μm or less is formed on a transparent base material by gravure printing method, and a metal layer is provided on that pattern thus producing a transparent electromagnetic wave shielding material imparted with conductivity.例文帳に追加

透明基材上にグラビア印刷法により樹脂組成物からなる平均線幅５０μm 以下の網状パターンが形成され、そのパターン上に金属層が設けられ、導電性が付与されている透明電磁波遮蔽材料が提供される。 - 特許庁

The composite transistors CT10-CT30 are so disposed that gate pads GP are arranged in a line, and the gate pads GP are located closer to a conductor pattern P91 so that a distance between the gate pads GP and the conductor pattern P91 is short.例文帳に追加

複合トランジスタＣＴ１０〜ＣＴ３０は、ゲートパッドＧＰが一列に並び、かつゲートパッドＧＰから導体パターンＰ９１までの距離が短くなるようにゲートパッドＧＰの配列が、導体パターンＰ９１の配設側寄りとなるように配設されている。 - 特許庁

The electric control device 20 displays a guide line 24 set based on the interval of the belt-shaped pattern 12a on the display device 22, and stores a pattern matching image 26 formed on the display device 22 in the volatile storage part 17.例文帳に追加

電気制御装置２０は、帯状パターン１２ａの間隔に基づいて設定された案内線２４をディスプレイ装置２２に表示させるとともに、ディスプレイ装置２２に形成したパターンマッチング画像２６を揮発性記憶部１７に記憶させる。 - 特許庁

The surface side picked-up image obtained by picking up the surface side work pattern of a substrate inspection unit 15 by a line sensor LS1 is collated with a preliminarily prepared surface side reference product pattern, to distinguish a work substrate having defectiveness generated on the surface side thereof.例文帳に追加

基板検査単位１５の表側のワークパターンを、ラインセンサＬＳ１にて撮影して得られた表側撮影画像と、予め用意された表側基準製品パターンとを照合し、表側において、不良が発生しているワーク基板を判別する。 - 特許庁

A CCD image pickup element 1 uses a color coding pattern formed by arranging the unit checkerwise patterns each of which is composed of four lines in which the picture element arrangements on the third and fourth lines in a repetitive two-line two-picture element pattern composed of Ye, Mg, Cy, and G are inverted.例文帳に追加

ＣＣＤ撮像素子１は、Ｙｅ，Ｍｇ，Ｃｙ、Ｇからなる２ライン２画素の繰り返しパターンの内の３，４ライン目の画素配置をそれぞれ逆転した計４ラインからなる市松パターンを単位とした色コーティングパターンを使っている。 - 特許庁

A driving pattern applying different voltages to pixel electrode rows adjacent across a source line of a TFT array is used, and a short circuit defect between adjacent pixel electrodes is detected by potential distribution of the pixel electrodes obtained by the driving pattern.例文帳に追加

ＴＦＴアレイのソースラインを挟んで隣接する画素電極列に異なる電圧を印加する駆動パターンを用い、この駆動パターンによって得られる画素電極の電位分布によって、隣接する画素電極間の短絡欠陥を検出する。 - 特許庁

For this purpose, the drawing data of the basic pattern consisting of one recessed groove 26 and one projected line 27 is formed as a basis, and the patterns consisting of the recessed grooves 26 and the projected lines 27 varying in the pitches are continuously drawn by changing the scale of the drawing data of the basic pattern.例文帳に追加

そのために、１つの凹溝２６と凸条２７からなる基本パターンの描画データを基本とし、その基本パターンの描画データの縮尺を変えてピッチが異なる凹溝２６と凸条２７からなるパターンを連続的に描画する。 - 特許庁

The three dimensional position measurement part selects, among the multiple images, at least two images of rotation positions of the camera giving base line directions different from a direction of a pattern, relative to the pattern of a target, and measures a three dimensional position of the target.例文帳に追加

３次元位置計測部は、対象物の模様に対して、複数の画像から、模様の方向とは異なる方向に基線方向を与えるカメラ回転位置の少なくとも２つの画像を選択して、対象物の３次元位置を計測する。 - 特許庁

To provide an apparatus of forming a resist pattern by a dispenser system for forming double-sided images while easily managing the width of the resist line, coping with the fining of a pattern, and preventing the occurrence of satellites (mist).例文帳に追加

本発明は、レジストラインの幅を管理しやすく、パターンのファイン化に対応でき、また、サテライト(mist)の発生を防止でき、かつ、両面画像形成を可能にするディスペンサー方式によるレジストパターンの形成装置を提供することを目的としている。 - 特許庁

In the tape inspection device for inspecting the pattern 21 formed on the tape surface by the scanning of a line sensor 11, the line sensor 11 is disposed along the longitudinal direction of a tape 1, and a sensor driving means for driving and sensing the line sensor 11 in the width direction of the tape is provided.例文帳に追加

本発明のテープの検査装置は、テープ面に付されたパターン２１を、ラインセンサー１１で走査して検査するテープの検査装置において、前記ラインセンサー１１を、テープ１の長さ方向に沿って配置するとともに、前記ラインセンサー１１をテープの幅方向に駆動走査するセンサー駆動手段を備えたものである。 - 特許庁

An image is scanned sequentially in a horizontal direction, then a histogram having a line segment length by measuring each length and the number of line segments which are continuous in a scan (vertical or horizontal) direction is produced after each pixel is binarized, then feature amount such as radius etc. is calculated from the histogram and probability distribution of each line segment length of each image pattern to be measured.例文帳に追加

画像を順次横方向に走査し、画素を２値化して走査（縦または横）方向に連続する線分の長さおよび個数を計測して線分長のヒストグラムを作成し、このヒストグラムおよび計測する画像パターンの線分長の確率分布から、半径などの特徴量を算出するようにした。 - 特許庁

An effective line display means 40 is provided for displaying an effective line in the shape of straight or polygonal line while superimposing it on the picture of a variable display means and a picture pattern matching game executing means 110 displays respective picture patterns on the variable display means while fluctuating them for a prescribed period and successively stops these picture patterns later.例文帳に追加

有効ライン表示手段４０は、可変表示手段３０の画面上に重ねて直線又は折れ線状の有効ラインを表示するものであり、図柄合わせゲーム実行手段１１０は、可変表示手段３０上の各図柄を所定期間にわたって変動表示した後にこれらを順次停止表示する。 - 特許庁

As a ground layer with respect to the phase matching line is provided on the mounting surface of the multi layer package, this make it possible to easily and properly set the distance between one of the phase matching line and the ground pattern, to prevent from deterioration of a characteristic impedance of the phase matching line, and to improve the filter characteristic.例文帳に追加

位相整合用線路に対する接地層を多層パッケージの実装面に設けたことにより、位相整合用線路と接地パターンとの間の距離を適切に設定することが容易となり、位相整合用線路の特性インピーダンスの低下を防止でき、フィルタ特性を向上させることができる。 - 特許庁

Furthermore, the padding image 15c is subjected to thinning processing to find a thinned image 15d in which the line width of the line element is one pixel, and a branch point of the line element of the irregular linear pattern is detected by collating a plurality of preregistered branch patterns 30 with the thinned image 15d.例文帳に追加

更に穴埋め画像１５ｃに対して細線化処理を行って前記線要素の線幅が１画素の細線化画像１５ｄを求め、この細線化画像１５ｄに対して予め登録されている複数の分岐パターン３０を照合することにより不規則線状パターンの線要素の分岐点を検出する。 - 特許庁

A colored striped pattern line creating means 1 creates a colored multiple line by bringing a plurality of colored lines of colors of light with greatly different wavelengths in contact with each other and merging them, and outputs the colored multiple line on the present position indicator image display part 2 as an indicator image of the present position.例文帳に追加

色付き縞模様線作成手段１は光の色の波長が大きく異なる複数個の波長の光の色の複数の色付き線を接触合体させて色付き多層線を作成し、その色付き多層線を現在位置の指示子画像として現在位置指示子画像表示部２に出力する。 - 特許庁

Each patch is constituted of a plurality of lines formed by putting line images Bk in black being a reference color and line images C in a color other than the reference color, for example, cyan, one over the other, and an alignment pattern Pm is constituted by continuously forming patches of which the relative positional relations between line images in two colors are shifted from one another by an arbitrary amount.例文帳に追加

位置合わせパターンＰｍは、基準色である黒のライン像Ｂｋと該基準色以外の色、例えばシアンのライン像Ｃとを重ねて形成された複数ラインを１つのパッチとし、２色のライン像の相対的位置関係を任意量ずつずらしたパッチを連続的に形成して構成されている。 - 特許庁

Even when the marking line 1a described on the workpiece is assimilated to the workpiece depending on the hue, pattern, or the like of the workpiece or the marking line 1a is extremely hard to see due to the reflection of light, the marking line 1a is luminous on the workpiece and easily visible to permit accurate cutting work.例文帳に追加

被加工材の色合い、模様等によって被加工材に描かれた墨線（１ａ）が被加工材に同化したり、光の反射により墨線（１ａ）が非常に見難くなる場合であっても、墨線（１ａ）が被加工材上で発光して視認しやすくなり、正確な切断作業を行うことができる。 - 特許庁

A data line 212x is stretched in a column direction in a folding pattern with four pixels extending from A line to D line as a cycle, is shared by use and surrounds periphery of the pixel electrode 234 which is shared by use at every pixel electrode and is connected with the pixel electrode 234 via a TFD element 220.例文帳に追加

データ線２１２ｘは、Ａ〜Ｄ行にわたる４個の画素を１周期とする折返しパターンにて列方向に延在して共用されるとともに、共用する画素電極２３４の周辺を画素電極毎に囲んで、画素電極２３４に対してＴＦＤ素子２２０を介して接続されている。 - 特許庁

This microscope where observation data are acquired by irradiating an observation object with the deep ultraviolet light has a control part measuring the line width of a pattern provided at the prescribed position of the observation object and stopping the irradiation of the observation object with the deep ultraviolet light when the line width of the pattern attains a prescribed limiting value.例文帳に追加

観察対象に深紫外光を照射して観察データを取得する顕微鏡において、該観察対象の所定の位置に設けられたパターンの線幅を測定し、該パターンの線幅が所定の制限値に達した場合に、該観察対象への深紫外光の照射を停止する制御部を有することを特徴とする。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which satisfies high sensitivity, high resolution, a good pattern shape, good line edge roughness (LER) and good dependence on a density distribution particularly in lithography using electron beams, X-rays or EUV light as an exposure light source, and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

特に露光光源として電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いるリソグラフィーにおいて、高感度、高解像性、良好なパターン形状、良好なラインエッジラフネス（Line edge roughness: LER）、及び良好な疎密依存性を満足する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物およびそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

A time ratio of the first time t1 and the second time t2 is adjusted such that a line width CD1 of the first resist pattern is equal to a first predetermined value CD1t, and the total time T of the first time t1 and the second time t2 is adjusted such that a line width CD2 of the second resist pattern is equal to a second predetermined value CD2t.例文帳に追加

第１の時間ｔ１と第２の時間ｔ２との時間比率は、第１のレジストパターンの線幅ＣＤ１が第１の所定値ＣＤ１ｔに等しくなるように調整され、第１の時間ｔ１と第２の時間ｔ２との合計時間Ｔは、第２のレジストパターンの線幅ＣＤ２が第２の所定値ＣＤ２ｔに等しくなるように調整される。 - 特許庁

At a contact point P where the line-shaped pattern 121, the negative electrode collector layer 11 and the solid electrolyte layer 13 are brought into contact with one another, a gradient θ of a line-shaped pattern surface is made smaller than 90°, thereby configuring a battery of which the capacity with respect to the quantity of active materials to be used is great and charging/discharging characteristics are also improved.例文帳に追加

ライン状パターン１２１、負極集電体層１１および固体電解質層１３が互いに接する接触点Ｐにおいてライン状パターン表面の勾配θを９０度より小さくすることで、活物質の使用量に対する容量が大きく、かつ充放電特性も良好な電池を構成することができる。 - 特許庁

When relative line density distribution features between strokes based upon the pen moving directions at respective coordinate points are extracted by using two-dimensional pattern information and coordinate point information, the distances between the relative line density distribution features and relative position distribution features of respective standard characters stored in a standard pattern dictionary 58 are calculated to discriminate an object character to be recognized.例文帳に追加

２次元パターン情報と座標点情報を用いて、各座標点の運筆方向を基準とする相対線密度分布特徴を抽出すると、その相対線密度分布特徴と標準パターン辞書５８に格納されている各標準文字の相対線密度分布特徴との距離を計算して、認識対象文字を識別する。 - 特許庁

In the first stop control table, stop data for preferentially drawing a pattern display mode of the BB symbol combination onto an effective prize winning line is set, whereas in the second stop control table, stop data for preferentially drawing a pattern display mode of the watermelon symbol combination onto the effective prize winning line is set.例文帳に追加

前記第１の停止制御テーブルには前記ＢＢ役の図柄表示態様を優先的に有効入賞ライン上に引き込み可能とする停止データが設定され、前記第２の停止制御テーブルには前記スイカ役の図柄表示態様を優先的に有効入賞ライン上に引き込み可能とする停止データが設定されている。 - 特許庁

The branching filter formed by providing a SAW apparatus 2 having a reception filter region with an exciting electrode on a piezoelectric substrate on a package 3 is configured such that a line pattern 6 connected to an external antenna is formed to the side face of the package 3 and the line pattern 6 and the reception filter region are connected to each other.例文帳に追加

圧電基板上に励振電極を有する受信用フィルタ領域を備えたＳＡＷ装置２をパッケージ３上に備えた分波器において、パッケージ３の側面に、外部アンテナに接続させる線路パターン６を形成するとともに、この線路パターン６と前記受信用フィルタ領域とを接続したことを特徴とする分波器とする。 - 特許庁

Part of the array wiring pattern formed in the light emitting element array board 20 is a plurality of data line patterns sequentially alternately drawn out to both ends of the subsidiary scanning direction B of the light emitting elements of a 2^N array from one end of a main scanning direction A every other pattern and a plurality of data line patterns are connected with the first and second flexible boards 60A and 60B.例文帳に追加

発光素子アレイ基板２０に形成されたアレイ配線パターンの一部は、主走査方向Ａの一端より順次一つおきに、２^Ｎ列の発光素子の各々から副走査方向Ｂの両端の端部に交互に引き出される複数のデータ線パターンであり、複数のデータ線パターンが第１，第２のフレキシブル基板６０Ａ，６０Ｂに接続される。 - 特許庁

The interface board has one side laid on a second layer surface of the MCM board and the other side extruding into the waveguide hole to guide high frequency signals generated by a high frequency circuit to the waveguide and high frequency signal from the waveguide to the high frequency circuit according to a transmission line pattern 3a connected to a transmission line pattern 1a corresponding to the waveguide hole on the MCM board.例文帳に追加

インタフェース基板は、一方の側がＭＣＭ基板の第２層表面上に載置され、他の側が導波管穴にはみ出し、ＭＣＭ基板の導波管穴対応の伝送線路パターン１ａと接続された伝送線路パターン３ａによって、高周波回路が発生する高周波を導波管へ、導波管からの高周波を高周波回路へ導く。 - 特許庁

The three-dimensional shape measuring apparatus 10 comprises: a line sensor 16 for reading the measurement object, onto which the optical pattern is projected as an image; and an image analysis section for calculating three-dimensional shape information of the measurement object, by analyzing the optical pattern in the image read by the line sensor 16, on the basis of a spatial fringe analysis method.例文帳に追加

ここで、三次元形状測定装置１０は、光パタンが投影された計測対象を画像として読み取るためのラインセンサ１６と、ラインセンサ１６により読み取られた画像における光パタンを空間縞解析法に基づいて解析して、計測対象の三次元形状の情報を算出する画像解析部とを備えている。 - 特許庁

This aligner is provided with a lump exposure mechanism 4 forming a circuit by collectively exposing the entire surface by a mask M masking the part of the high density and high thin line pattern Wa, and a partial exposure mechanism 7 (17) forming a circuit by partially exposing the part of the high density and high thin line pattern by an optical system more excellent in resolution.例文帳に追加

高密度・高細線パターンＷａの部分をマスキングしたマスクＭにより全面一括露光し、回路を形成する一括露光機構４と、前記高密度・高細線パターンの部分を、より解像力の優れた光学系により部分露光し、回路を形成する部分露光機構７（１７）と、を兼備する露光装置として構成した。 - 特許庁

The Ethernet-HSD converter includes: an HSD line termination section; a speed conversion section; and an Ethernet frame termination section, and the HSD line termination section has: a means that detects LOOP 2 bits received at the loop test and capsulates a random pattern for the loop test to an Ethernet frame; and a means that uncapsulates the capsulated random pattern for the loop test from the Ethernet frame.例文帳に追加

ＨＳＤ回線終端部と、速度変換部と、イーサネットフレーム終端部とを備え、ＨＳＤ回線終端部は、ループ試験時に送信されるＬＯＯＰ２ビットを検出し、ループ試験用のランダムパターンをイーサネットフレームにカプセリング化する手段と、当該カプセリング化されたループ試験用のランダムパターンをイーサネットフレームからアンカプセリング化する手段とを有する。 - 特許庁

The display panel 17, mounted with peripheral drive circuits, such as scanning line driving circuits 13 and 14, a data line drive circuit 15, and a precharge circuit 16 together with a pixel array part 12, has pattern wirings 20A spirally formed by two or more turns at its outer peripheral part (peripheral edge part), and the pattern wirings 20A are used as a coil.例文帳に追加

画素アレイ部１２と共に、走査線駆動回路１３，１４、データ線駆動回路１５およびプリチャージ回路１６等の周辺駆動回路を搭載した表示パネル１７において、その外周部（周縁部）にパターン配線２０Ａを２周巻き以上の巻数で渦巻き状に形成し、当該パターン配線２０Ａをコイルとして用いるようにする。 - 特許庁

The first index 11 is so labeled that a tip 11a close to a first virtual center line CL1 of the pattern is inclined toward a first end portion 1a, and the second index 12 is so labeled that a tip end 12a close to the second virtual central line CL2 of the pattern is inclined toward a longitudinal edge 1bz of a second end portion 1b.例文帳に追加

第１指標１１は、その前記図柄の第１仮想中心線ＣＬ１寄りの先端１１ａが第１端部１ａに向けて斜行するように表示されており、第２指標１２は、その前記図柄の第２仮想中心線ＣＬ２寄りの先端１２ａが第２端部１ｂの長手方向端縁１ｂｚに向けて斜行するように表示されている。 - 特許庁

Through holes 32, 33 are bored through each piezoelectric sheet 21a-21g, 22, 23 while suitably shifting respective sheets so that the sheets adjacent each other in the direction parallel with the pattern line direction of the respective electrodes 24 are not arranged in a line along the parallel direction.例文帳に追加

そして、各圧電シート２１ａ〜２１ｇ，２２，２３には、スルーホール３２，３３を、個別電極２４のパターンの並び方向と平行な方向に隣接するもの同士が前記平行な方向に沿って一列状に整列しないように適宜ずらして穿設する。 - 特許庁

A training data conversion means 105 converts training data of a line B stored in a B2 training data storage means 106 by using conversion parameters stored in a conversion parameter storage means 104 so that they approximates the data distribution of a line A, and passes the data to a standard pattern generating means 108.例文帳に追加

105は、変換パラメータ記憶手段104に格納された変換パラメータを用いて、B2訓練データ記憶手段106に格納された回線Bの訓練データを、回線Aのデータ分布に近くなるように変換して標準パタン作成手段108に渡す。 - 特許庁

In the heat shrinkable film with the perforated line made of a row of fine and small holes, the perforated line (1) is made of a row of the fine and small holes constructed by repeating a unit pattern (U) in which the hole pitches of the fine and small holes (2) roughly closely change.例文帳に追加

微小孔の列からなる切取り線が形成された切取り線付き熱収縮性フィルムであって、該切取り線（１）は、微小孔（２）の孔ピッチが粗密に変化して並ぶ単位パターン（Ｕ）の繰り返しで構成された微小孔の列からなる。 - 特許庁

In a local interconnection type element having open bit line cell arrangement where a pattern interval of 1F is formed by an element having minimum line width of 1F, a hard mask is formed on each conductive layer and an insulation spacer is formed on the sidewall thereof.例文帳に追加

１Ｆの最小線幅を有する素子でパターン間隔を１Ｆに形成したオープンビットラインセル配列されたローカルインターコネクション方式の素子において、それぞれの導電層上にハードマスクを形成しその側壁に絶縁スペーサを形成する。 - 特許庁

In this frame relay line test method, a test packet generated by an identification code, a sequence number, and test data by a different pattern is outputted to one end line 2a test data of this output packet and the sequence number are stored.例文帳に追加

試験用パケットであることを示す識別コード、シーケンス番号、異なるパターンの試験用データによって生成した試験用パケットを一方の末端回線２ａに出力するとともに、この出力パケットの試験用データとシーケンス番号とを記憶する。 - 特許庁