「line pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(43ページ目) - Weblio英語例文検索

To provide a laser marking label which can cover the pattern and opening of a work with respect to design properties and the prevention of the malfunction of an optical sensor and be used also as a display, that is, has excellent light shielding properties in both of an image line part and a non-image line part.例文帳に追加

デザイン性や光学センサーの誤作動防止に対してワークのパターンや開口部を目隠しすることができ、かつ表示を兼ねることができる、即ち、画線部、非画線部ともに良好な遮光性を有するレーザーマーキングラベルを提供する。 - 特許庁

When the left figures and the right figures line up identical on a valid line and are temporarily stopped to present a ready-to-win display pattern (S402 and S403), the display figures are reduced and moved from the base display position to the first reduction display position (S404).例文帳に追加

左図柄と右図柄を同一図柄で有効ライン上に揃った状態で仮停止させてリーチ表示態様となると（Ｓ４０２、Ｓ４０３）、表示図柄を縮小させ、基本表示位置から第一縮小表示位置へ移動させる（Ｓ４０４）。 - 特許庁

The dividing pattern determining section 204 of a line thermal printer 100 takes out next one dot line data stored in a print buffer 212 and determines logical block data corresponding to the print data for logical blocks subjected to divided printing based on physical block data.例文帳に追加

ラインサーマルプリンタ１００の分割パターン決定部２０４は、印字バッファ２１２に格納された次回の１ドットラインデータを取り出し、物理ブロックデータに基づいて、分割印字するための論理ブロック分の印字データに対応する論理ブロックデータを決定する。 - 特許庁

A pattern display means 21 displays the formation of the ready-to-win by stopping a plurality of same types of symbols on the effective line and displays that the big win symbol combination occurs by stopping the big win symbols Za on the effective line.例文帳に追加

図柄表示手段２１は、有効ライン上に同種類の図柄が複数停止することでリーチの形成を表示し、大当り図柄Ｚａが有効ライン上に停止することで大当りの図柄組み合わせが生起されたことを表示する。 - 特許庁

The windshield wiper motor control circuit includes a first current feeder line 17 connected with a battery 9 through an IG switch 16 and a second current feeder line 18 connected with the battery 9 without passing through the IG switch 16 and connecting between a pattern switch 5 and the battery 9.例文帳に追加

ＩＧスイッチ１６を介してバッテリ９に接続された第１給電ライン１７と、ＩＧスイッチ１６を介さずにバッテリ９に接続されると共にパターンスイッチ５とバッテリ９との間を接続する第２給電ライン１８とを設ける。 - 特許庁

The carbon electrode includes carbon powder having a wood tar as a raw material and a diffraction line near 2θ=26° and 2θ=44° in a powder X-ray diffraction pattern using CuK_α for a line source as a claim 1.例文帳に追加

本発明の炭素電極は、請求項１として、木タールを原料とし、線源にＣｕＫαを用いた粉末Ｘ線回折パターンにおいて、２θ＝２６°付近と２θ＝４４°付近に回折線を有する炭素粉末を含有することを特徴とする。 - 特許庁

Each special pattern independently moves respectively at different moving speed along a moving path shown by a continuous line or a dashed line in the figure and disappears from an unfixed position in a disappearance region E1 set to the lower end on the screen.例文帳に追加

各特別図柄は図中において実線または一点鎖線で示す移動経路に沿って、それぞれ単独で、かつ、それぞれ異なる移動速度で移動し、画面上の下端に設定された消失領域Ｅ１の中の不定位置から消失する。 - 特許庁

The game machine judges whether a combination of symbols displayed in one line (effective line 8 for example) connecting specific pattern display positions (middle stage positions for example) of a plurality of display parts is a combination of symbols relating to the granting of a privilege.例文帳に追加

遊技機は、複数の表示部の各々における特定の図柄表示位置（例えば、中段位置）を結ぶ一のライン（例えば、有効ライン８）に表示された図柄の組合せが特典の付与に係る図柄の組合せであるか否かを判別する。 - 特許庁

To provide a forming method of high productivity for a metal pattern hard to cause the thickening of a dotted line or a fine line even in the case that plating is applied to the surface of an extremely thin silver film and not showing a copper color in a color phase when looked from its back.例文帳に追加

本発明の課題は、きわめて薄い銀膜上にめっきした場合も、断線や細線の太りを起こしにくく、かつ裏面からみて色相が銅色を呈さない金属パタンの生産性の高い形成方法を提供することである。 - 特許庁

After that, the film thicknesses of the first and second portions are measured and the measured film thicknesses of the first and second portions are converted into the line width of a resist pattern on the basis of the correspondence relation between a film thickness and a line width which are previously obtained.例文帳に追加

その後，当該第１の部分と第２の部分の膜厚を測定し，予め求められている膜厚と線幅との相関により，前記測定された第１の部分の膜厚と第２の部分の膜厚をレジストパターンの線幅に換算する。 - 特許庁

In a text shaping part 2, a storage means for specifying conditions for paragraph start pattern phrase stores specifying conditions for a paragraph start pattern phrase to specify a phrase corresponding to a start pattern of a paragraph, a line feed adding means detects the phrase in the text based on the conditions stored into the storage means to add a line feed at a immediately preceding position of the detected phrase.例文帳に追加

テキスト整形部２では、段落開始パターン語句特定条件記憶手段が段落の開始パターンに相当する語句を特定する段落開始パターン語句特定条件を記憶し、改行追加手段が、段落開始パターン語句特定条件記憶手段に記憶された段落開始パターン語句特定条件に基づいて段落の開始パターンに相当する語句をテキスト中で検出し、検出した語句の直前の位置に改行を追加する。 - 特許庁

To provide a multi-layered printed wiring board which solves the problem that a copper wiring pattern is given large damage in a final soft etching process and inter-line insulation reliability is low since a base copper layer between copper wiring pattern which becomes unnecessary can not be completely removed.例文帳に追加

最後のソフトエッチング工程では銅配線パターンに強いダメージを与え、しかも銅配線パターン間の不要となった下地銅層を完全に除去できず、線間絶縁信頼性が低かったという問題を解決多層プリント配線板を提供する。 - 特許庁

To provide a selecting method of an exposing method in which selection of an exposing technique corresponding to a real chip layout design is realized and required gate line width control is attained, when the exposing method is selected to perform pattern transfer for a mask pattern by the selected exposing method.例文帳に追加

露光方法を選択し、選択した露光方法によりマスクパターンのパターン転写を行う際、実チップレイアウト設計に対応した露光技術の選択を可能にし、要求されるゲート線幅制御を達成できる、露光方法の選択方法を提供する。 - 特許庁

To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition that excels in roughness property, exposure latitude, depth of focus and development defect performance and that allows to form a fine isolated line pattern of favorable shape, and to provide a pattern forming method using the same.例文帳に追加

ラフネス特性、露光ラチチュード、焦点深度及び現像欠陥性能に優れ且つ良好な形状の微細な孤立ラインパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁

As shown in the figure, in the transparent conductive film 4, no electrode pattern boundary lines 4 are present at an emission section that is the independent region 3' formed by the resin coating 3 ((A) in Figure), and display quality is blocked by the pattern line, thus displaying a high-quality image.例文帳に追加

透明導電性膜４は樹脂皮膜３によって形成される独立した領域３’である発光部に、電極パターン境界線４が存在せず（図６（Ａ））、そのパターン線によって表示品質が阻害されることがないので、高品位な画像表示ができる。 - 特許庁

In the hologram pattern 40 formed in the hologram optical element, the diffracted beam is twisted by a pattern 1a in the clockwise direction to form a semicircular spot Sa of the converging light on the light detecting parts A, B, crossing the division line LX of a quadripartite light detecting part 60.例文帳に追加

ホログラム光学素子に設けられるホログラムパターン４０において、パターン１ａは回折光束を時計回りにねじり、４分割光検出部６０の分割線ＬＸを跨ぐように光検出部Ａ，Ｂ上に半円形状の集光スポットＳａを形成する。 - 特許庁

With this constitution, in low-beam irradiation, the region near the cutoff line of the low-beam light distribution pattern in the on-coming vehicle lane side is not illuminated unnecessarily brightly, while sufficiently securing the luminous intensity in the above-mentioned region in the hot zone in high-beam light distribution pattern.例文帳に追加

これにより、ロービーム照射時には、ロービーム配光パターンの対向車線側におけるカットオフライン近傍の領域が必要以上に明るくならないようにした上で、ハイビーム配光パターンのホットゾーンにおける上記領域の部分の光度を十分に確保する。 - 特許庁

In applying the application liquid onto the substrate and forming a line-like pattern, discharging of the application liquid is initiated from an inward position X0 which is inward from an originally intended start position X1, while keeping the amount of the gap between a nozzle and the substrate to a smaller value G0 than the height of the pattern.例文帳に追加

基板上に塗布液を塗布してライン状パターンを形成するのに際して、本来の始端位置Ｘ1よりも内側の位置Ｘ0から、しかもノズルと基板とのギャップ量をパターン高さよりも小さな値Ｇ0にして塗布液の吐出を開始する。 - 特許庁

When a gear change from the neutral to the first speed gear or the reverse gear is achieved, a first shift pattern for supplying the controlled pressure from the control valves to the friction engagement elements and a second shift pattern for supplying the line pressure are set in sequence to achieve the gear change.例文帳に追加

ニュートラルから１速及び後進の変速段を達成する際に、同変速段を達成するための摩擦係合要素にコントロールバルブからの制御圧を供給する第１のシフトパターンと、同ライン圧を供給する第２のシフトパターンとが順次、設定される。 - 特許庁

A coil region 23d consists of an arc region 26 formed so that the conductor pattern 25 becomes an arc centered at a position G_1 separated by a winding pitch P from the position G_0, and a linear region 27 formed so that the conductor pattern 25 becomes a straight line.例文帳に追加

コイル領域２３ｄは、導体パターン２５が位置Ｇ_０から巻きピッチＰ分だけ離れた位置Ｇ_１を中心とした円弧となるように形成された円弧領域２６と、導体パターン２５が直線となるように形成された直線領域２７とからなっている。 - 特許庁

To provide a stream dot technique with excellent convenience which defines two or more pieces of information by a dot pattern formed on the basis of benchmark dots disposed in sequence in a line on the surface of a medium without being dependent on the shape of a rectangular region that configures a dot pattern.例文帳に追加

ドットパターンを構成する矩形領域の形状に依存せず、媒体表面上に線状に連続して配置された基準ドットに基づいて形成されたドットパターンにより複数の情報を定義して、利便性に富んだストリームドットの技術を実現する。 - 特許庁

In a phase difference servo burst pattern contained in servo information buried and recorded in the servo area of a disk medium by a DTR method, the tilting state of the burst pattern is set in the same direction as that of the in-line angle of a head in a single tilting direction.例文帳に追加

ＤＴＲ方式により、ディスク媒体上のサーボ領域に埋め込み記録されたサーボ情報に含まれる位相差サーボバーストパターンにおいて、当該バーストパターンの傾斜状態を単一傾斜方向で、ヘッドのインライン角と同一方向に設定した構成である。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that simultaneously satisfies high sensitivity, high resolution, good pattern profile and good line edge roughness, to provide a pattern forming method using the composition and a resin purifying method used for the composition.例文帳に追加

高感度、高解像性、良好なパターン形状及び良好なラインエッジラフネスを同時に満足させる、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、該組成物を用いたパターン形成方法及び該組成物に用いられる樹脂の精製方法を提供する。 - 特許庁

In the method for manufacturing the electrooptical device, a tantalum film 6 is patterned to form a first tantalum pattern 6a and a second tantalum pattern 6b having a data line 2, a lower electrode 62 for a holding capacitor, and a common electrode 63.例文帳に追加

電気光学装置の製造方法において、タンタル膜６をパターニングし、非線形素子用下電極６１を備えた第１のタンタルパターン６ａと、データ線２、保持容量用下電極６２、および共通電極６３を備えた第２のタンタルパターン６ｂとを形成する。 - 特許庁

To provide a resist developing solution which is reduced in a permeability into a gap between polymer aggregates and has a sufficient dissolution rate, and to provide a pattern forming method by which a pattern low in line edge roughnessby can be formed by using the resist developing solution.例文帳に追加

高分子集合体と高分子集合体との隙間への浸透力を弱め、十分な溶解速度を有するレジスト現像液と該レジスト現像液を使用して、低いラインエッジラフネスのパターンを形成可能としたパターン形成方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Then, in the case that a pattern combination executed on respective drums 30, 31 and 32 stopped by a stop button operation is matched on the selected valid line and a pattern color is the color corresponding to the selected irradiation light color, a coin put-out operation is performed.例文帳に追加

そして、停止ボタン操作によって停止された各ドラム３０、３１、３２に施された図柄組合せが、選定された有効ライン上で揃うものであって、且つ、図柄色が選定された照射光色に対応する色の場合にコイン払出し動作を行う。 - 特許庁

After making a desired wiring pattern and a pattern plating for depositing a metal on the minimum required part by opening the protective resist and applying an electricity in the vicinity thereof, the protective resist is removed, and unnecessary seed layers including a scribe line are collectively removed by a wet etching.例文帳に追加

所望の配線パターン、及び、その近傍で保護レジストを開口して通電し、必要最小限の部分に金属を堆積させるパターンめっきを行った後に、保護レジストを除去し、ウエットエッチングによりスクライブラインを含めた不要なシード層を一括して除去する。 - 特許庁

A vehicle headlamp apparatus includes a lamp unit operable to form an additional light distribution pattern including a region above a cutoff line of a low beam light distribution pattern, and a controller which controls a light irradiation of the lamp unit in accordance with the vehicle ahead.例文帳に追加

車両用前照灯装置は、ロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方の領域を含む付加配光パターンを形成可能な灯具ユニットと、前方車両の存在に応じて灯具ユニットによる光の照射を制御する制御部と、を備える。 - 特許庁

The manufacturing method of an electronic component implements a wiring pattern forming process of forming an internal pattern wiring as a wiring at a remote place from a cut line 3 for cutting a base material frame 1 on the surface of the base material frame 1 as the substrate.例文帳に追加

この発明に従った電子部品の製造方法では、基板としての基材フレーム１の表面において、基材フレーム１を切削するための切削線３から離れた位置に配線としての内部パターン配線を形成する配線パターン形成工程を実施する。 - 特許庁

When a BB and an RB are internally gained at the same time, and the player performs stopping operation of a reel to stop a BB winning pattern and an RB winning pattern on a prize winning line, a control part 30a operates a lot drawing part 45 of winning role distribution.例文帳に追加

ＢＢとＲＢが同時に内部入賞した状態で、遊技者が、ＢＢ当選絵柄とＲＢ当選絵柄とが入賞有効ライン上に停止するようにリールの停止操作を行うと、制御部３０ａは当選役振り分け抽選部４５を作動させる。 - 特許庁

A slit-like dummy pattern 7 is provided at the cell plate ends of a DRAM having a CUB(capacitor under bit line) structure with inner wall type cylinders, and the same material as that of stacked electrodes 8 is buried in the slit-like dummy pattern 7 as dam blocks for preventing the cylinder deformation at the cell plate ends.例文帳に追加

内壁型シリンダーを持つＣＵＢ（Ｃａｐａｃｉｔｏｒ ＵｎｄｅｒＢｉｔｌｉｎｅ）構造のＤＲＡＭのセルプレート端にスリット状のダミーパターン７を設け、このスリット状のダミーパターン７には、スタック電極８と同種の材質を埋め込んで、セルプレート端のシリンダー変形を防ぐ堤防としたことを特徴とする。 - 特許庁

According to the current system pattern, a voltage-state index creation means 250 acquires the voltage of each monitoring point from the on-line database 210, retrieves the knowledge base 220 based on the current system pattern, and creates the index value data of a voltage state for indicating the voltage value of each voltage monitoring region.例文帳に追加

電圧状態指標作成手段２５０は、オンラインデータベース２１０から各監視点の電圧を取得し、該現在の系統パターンを基に、知識ベース２２０を検索して各電圧監視領域の電圧値を示す電圧状態の指標値データを作成する。 - 特許庁

The length L of the shadow of the pattern 82 is calculated by extracting intensity distribution of the secondary electron on a line X-X perpendicular to, for example, edges 82a, 82b of the pattern 82, and as distance between two points where a recess of the intensity distribution of the secondary electron crosses a predetermined threshold I.例文帳に追加

パターン８２の影の長さＬは、例えばパターン８２のエッジ８２ａ、８２ｂと直交するラインＸ−Ｘ上の二次電子の強度分布を抽出し、その二次電子の強度分布の凹部が所定のしきい値Ｉと交差する２点間の距離として求める。 - 特許庁

When password step-out is recognized and the re-transmission processing of a password synchronous pattern for password re-synchronism is executed on a reception side, the reception side outputs password pattern data to a communication line 7 instead of sound encoding data which is transmitted till then.例文帳に追加

また、タイマーを起動して、一定時間内に音声フレーム同期が再確立したかを判定することで、送受信側双方の回線で暗号同期外れが発生しても、一定時間後に、双方の暗号再同期を確立して、暗号通話を再開する。 - 特許庁

To provide a method for forming a resist pattern, with which the reciprocal problem between the resolution and the depth of focus can be solved and a microresist pattern be accurately formed at a sufficiently practical depth of focus than a line width which is sufficient to obtain the depth of focus.例文帳に追加

解像度と焦点深度の相反する問題を解決し、充分に焦点深度が得られる線幅よりも微細なレジストパターンを十分な実用焦点深度をもって高精度に形成することができるレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

When the determination result is positive, the machine obtains a first stop pattern number in a next first stop determination and refers to the table to determine (a first stop determination) whether the predetermined pattern is actually displayed or not on the line.例文帳に追加

判定結果が肯定的である場合には、次の第１停止判定において、第１停止図柄番号を取得し、図柄配列テーブルを参照して所定図柄が実際に有効入賞ライン上に表示されなかったかを判定（第１停止判定）する。 - 特許庁

To provide a resist pattern forming method which is capable of making the best of a merit of a silylation process although width of a line can be precisely and uniformly controlled through a plane independently of size and density of a pattern, a method of manufacturing a semiconductor device, and a silylation device.例文帳に追加

パターンの粗密やサイズに関係なく、高精度且つ面内均一に線幅制御が可能でありながら、シリル化プロセスの利点を生かすことができるレジストパターンの形成方法、半導体装置の製造方法およびシリル化装置を提供すること。 - 特許庁

Although they were put in this category because they had a different pattern of stops on the Osaka Loop Line than regional rapid trains, by a timetable revision made on March 15, 2008, trains with this stopping pattern came to be called 'rapid trains' once again (Kyuhoji was added as a stop for rapid trains in the past). 例文帳に追加

大阪環状線直通の区間快速と停車パターンが違うのはこのことの名残であったが、2008年3月15日のダイヤ改正で同種の停車パターン（過去の快速に久宝寺を停車駅に加えたもの）の列車は再び「快速」を名乗ることとなった。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス

Thereby, brightness of a hot zone of a light distribution pattern for a low beam is remarkably increased as compared with the case where the light distribution pattern for a low beam is formed only by light reflected from a reflector 16, and the highest luminance position thereof is positioned and set in the vicinity of a cutoff line.例文帳に追加

これにより、ロービーム用配光パターンのホットゾーンの明るさを、リフレクタ１６からの反射光のみによりロービーム用配光パターンを形成するようにした場合に比して大幅に増大させ、その最高光度位置をカットオフライン近傍に位置設定する。 - 特許庁

The wiring 90 passes a region interposed between a region having signal lines, such as a data line 52a and a wiring pattern 82 formed therein and an outer peripheral edge 31 of a sealant 30 and passes positions close to signal lines, such as the wiring pattern 82.例文帳に追加

基板割れ診断用配線９０は、データ線５２ａや配線パターン８２などの信号線が形成されている領域とシール材３０の外周縁３１とによって挟まれた領域内を通っており、配線パターン８２などの信号線に近い位置を通っている。 - 特許庁

To provide a method of forming a pattern with a desirous pattern resolution and line width roughness (LWR) using a positive resist composition suitable for multiple exposure in a multiple exposure process of exposing the same photo-resist film two or more times.例文帳に追加

本発明の目的は、同一のフォトレジスト膜上に複数回露光を行う多重露光プロセスにおいて、パターン解像性とライン幅ラフネス（ＬＷＲ）が良好である、多重露光に好適な、ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法を提供することである。 - 特許庁

To surely prevent extension and contraction of a printed pattern and a shift thereof consequent upon a change in a feed speed of a metal web of long lengths, in a continuous printing line wherein a pattern is printed on the surface of the metal web by a gravure printing method, while the metal web is fed in one direction.例文帳に追加

長尺の金属ウエブを一方向へ送りながら、その表面に模様をグラビア印刷法によって印刷する連続印刷ラインにおいて、金属ウエブの送り速度の変動に伴う、印刷模様の柄伸縮や柄ずれを確実に防止する。 - 特許庁

The image reading apparatus has an encoder pattern 31 formed at a predetermined position, and includes arithmetic processing means 23 and 24 for detecting an abnormal operation of the scanner motor 11 from the encoder pattern 31 read by a one-dimensional line sensor 10 as well as performing a scale factor error correction.例文帳に追加

所定の位置にエンコーダパターン３１が設けられ、一次元ラインセンサ１０によって読み取られたエンコーダパターン３１からスキャナモータ１１の動作異常を検知すると共に、倍率誤差補正を行う演算処理手段２３、２４を備えた画像読み取り装置。 - 特許庁

To provide a polymer excellent in solubility in a resist solvent, to provide a resist composition capable of forming a resist pattern having few defects and a small line edge roughness and to provide a production process capable of producing a substrate having formed thereon a highly accurate fine pattern with few defects.例文帳に追加

レジスト用溶媒への溶解性に優れた重合体；ディフェクトが少なく、ラインエッジラフネスが小さいレジストパターンを形成できるレジスト組成物；および、欠陥の少ない高精度の微細なパターンが形成された基板を製造できる方法を提供する。 - 特許庁

At the time of transferring a pattern by using a complementarily divided mask 4, alignment marks 3a and 3b are put on the scribed line 2 of a wafer 1 to be exposed and, at the same time, commonly used by adjacent original pattern regions in a shared state.例文帳に追加

相補分割マスク４を用いてパターン転写を行うのにあたり、被露光体であるウエハ１のスクライブライン２上にアライメントマーク３ａ，３ｂを配するとともに、隣り合う原パターン領域同士でスクライブライン２上のアライメントマーク３ａ，３ｂを共有する。 - 特許庁