| 例文 |
method processの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 35553件
To provide a thin film transistor including an oxide semiconductor whose threshold voltage is controlled, operation speed is high, manufacturing process is relatively easy, and reliability is sufficient, and provide a manufacturing method for the same.例文帳に追加
閾値電圧が制御され、動作速度が速く、製造工程が比較的簡単であり、十分な信頼性を有する、酸化物半導体を用いた薄膜トランジスタ、及び薄膜トランジスタの作製方法を提供することを課題の一つとする。 - 特許庁
Further, the method may include a flattening process for removing the step bunching 3 generated on the surface of the SiC epitaxial film 2 by CMP (chemomechanical polishing), gas etching in a hydrogen atmosphere, or the like, for producing a device.例文帳に追加
また、デバイスを作製するために、このSiCエピタキシャル膜2の表面に発生させたステップバンチング3をCMP(化学的機械研磨)あるいは水素雰囲気中でのガスエッチング等により除去する平坦化工程を追加しても良い。 - 特許庁
To provide a method for firing green body which achieves the desired high porosity in aluminum titanate articles while doing so with reduced firing cycle length and/or without producing cracked parts and/or complicating the drying process.例文帳に追加
未焼成体を焼成する方法において、焼成サイクルの長さを低減しておよび/または亀裂した製品を生じずにおよび/または乾燥プロセスを複雑にせずに、チタン酸アルミニウム物品の所望の高い多孔度を達成する。 - 特許庁
To provide a method for recycle and production of an alloy, by which unnecessary elements can be efficiently removed from a used alloy to reduce the recycle cost and which dispenses with the process for removing attachment materials to enhance a recycle efficiency.例文帳に追加
使用済み合金中から不要元素を効率よく除去してリサイクルコストの低減を図り、且つ付属材除去工程を不要にしてリサイクル効率の向上を図ることを可能にする合金のリサイクル製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method of producing a highly flat epitaxial wafer, by which the epitaxial wafer high in flatness can be obtained and the rate of inferior products can be reduced without adding a new process and causing lowering of flatness after epitaxially growing.例文帳に追加
新たな工程を増やしたり、エピタキシャル成長後の平坦度の劣化を招来することなく、高平坦度を確保でき、製品不良を大きく減少させることが可能な高平坦度エピタキシャルウェーハの製造方法の提供。 - 特許庁
To provide a method for forming an organic conductive thin film capable of preventing formation of a step at the boundary of plural parts without causing deterioration in the organic conductive thin film, with a simple process.例文帳に追加
有機導電性薄膜からなるパターン(配線や半導体パターン)の形成方法として、有機導電性薄膜に劣化を生じさせず、しかも簡単な工程で、前記複数の部分の境界に段差が生じないようにする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a laminated ceramic electronic component that includes a screen printing process in which a cut mark of precision shape can be printed not to cause defective cutting of a laminated body.例文帳に追加
積層セラミック電子部品の製造時において、積層体の切断不良が発生しないように、正確な形状のカットマークを印刷することができるスクリーン印刷工程を含む積層セラミック電子部品の製造方法を得る。 - 特許庁
To provide a method for fabricating a semiconductor device in which nonreaction bonds of silicon atom between a gate oxide and a semiconductor substrate are stabilized and damage on the gate oxide occurring on the fabrication process can be recovered sufficiently.例文帳に追加
ゲート酸化膜と半導体基板との間のシリコン原子未反応手を安定化させ、かつ製造プロセス上生じるゲート酸化膜の損傷を十分に回復させることが可能な、半導体装置製造方法を提供する。 - 特許庁
To form a fine conductor pattern at high accuracy by fully suppressing gelation of a coat on a support in a conductor pattern forming process by the transfer method using a photosensitive conductor paste.例文帳に追加
感光性導体ペーストを用いた転写法による導体パターン形成方法において、感光性導体ペーストのゲル化並びに支持体上塗布物のゲル化を十分に抑制して、高精度に微細な導体パターンを形成すること。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of preventing the hillock occurring in the noble metal lower electrode of a ferrodielectric capacitor and forming a ferrodielectric film having a high orientation rate on the lower electrode according to an MOCVD process.例文帳に追加
強誘電体キャパシタの貴金属下部電極に生じるヒロックを抑制し、MOCVD法により配向率の高い強誘電体膜を前記下部電極上に形成できる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
In the method for manufacturing a semiconductor device, an insulating film having a contact hole is formed on a semiconductor substrate, a seed layer is formed in the contact hole by an electroless plating process, and a metal wire is formed in the contact hole on the seed layer.例文帳に追加
本発明の半導体素子の製造方法は、半導体基板上にコンタクトホールを有する絶縁膜を形成し、無電解メッキ工程によりコンタクトホールにシード層を形成し、シード層上のコンタクトホールに金属配線を形成する。 - 特許庁
To provide a harmful gas treating reactor capable of enhancing a harmful gas removing ratio and the selectivity of a reaction process by using the dielectric heat due to low temperature plasma and a catalyst at the same time, and a treatment method for harmful gas.例文帳に追加
本発明は、低温プラズマによる誘電熱及び触媒を同時に使用し、有害ガス除去率及び反応工程の選択性を向上させることができる有害ガス処理用反応器、及びその処理方法を提供する。 - 特許庁
The magnetic resonance imaging method is to collect MR signals generated during an image slicing process of the object to be imaged in accordance with applying an image exciting pulse Pex and to reconfigure an image based on the collected MR signals.例文帳に追加
イメージング用励起パルスPexの印加に応じて撮像対象の撮像スライスで発生したMR信号を収集し、この収集されたMR信号に基いて画像を再構成する磁気共鳴イメージングである。 - 特許庁
Disclosed is a polysilicon film production method where a polysilicon film is formed on a substrate within a pressure-reduced reaction tube 3 by a vapor growth process, wherein the film formation is performed while feeding moisture by a moisture feeding means.例文帳に追加
減圧した反応管3内で気相成長法により基板上にポリシリコン膜を成膜するポリシリコン膜製造方法であって、水分供給手段によって水分を供給しつつ、上記成膜を行うことを特徴とする。 - 特許庁
The film forming method includes a process performed by applying the photosetting type coating material on the base material, hardening the resultant coating film with the irradiation with light without coating the resultant film and further irradiating with light.例文帳に追加
基材に光硬化性塗料を塗布し、得られる塗膜表面を被覆することなく光照射により硬化した後、塗膜表面を被覆し、更に光照射させる工程を含むことを特徴とする塗膜形成方法。 - 特許庁
In a manufacturing process of a semiconductor device having a multilayered wiring structure by the dual damascene method, an opening 260A is formed by removing a second interlayer insulating film 260 with an essential first hard mask layer 270 as a mask.例文帳に追加
デュアルダマシン法を利用した多層配線構造を有する半導体装置の製造方法において、実質的には第一のハードマスク膜270をマスクとして、第二の層間絶縁膜260を除去し、開口部260Aを形成する。 - 特許庁
To provide a video signal processor and a video signal processing method that can easily process synchronization of a television video signal and a graphic video signal.例文帳に追加
この発明は、テレビジョン映像信号とグラフィック映像信号とに対して、両信号を同期させるように処理することを容易に可能とする映像信号処理装置及び映像信号処理方法を提供することを目的としている。 - 特許庁
In the method of manufacturing the wiring substrate K, acrylic dry-film members 22, 23 are applied on nonelectrolytic copper-plating layers 20, 21 after a nonelectrolytic copper-plating process.例文帳に追加
本発明の配線基板Kの製造方法では、無電解銅めっき工程の後、無電解銅めっき層20,21上にアクリル系ドライフィルム材22,23を貼着した後、露光及び現像を行って、所定パターンのめっきレジスト22a,22b,23a,23bを形成する。 - 特許庁
This method for compressing recovered unreacted vinyl chloride monomer comprises compressing the unreacted vinyl chloride monomer recovered from a process for producing a vinyl chloride-based polymer by the use of a compressor 2 under contact with the circulated lubricant which is supplied into the compressor and contains a polymerization inhibitor.例文帳に追加
塩化ビニル系重合体の製造工程から回収された未反応塩化ビニルモノマーを圧縮機2により、該機内に供給された、重合開始剤を含有する循環用潤滑油との接触下に圧縮する。 - 特許庁
To provide a pretreatment method for an electroless plating which employs a wet process low in cost and easy in handleability, can carry a catalyst on the surface of a nonconductive substance while keeping its surface substantially smooth, and can reduce an environmental load.例文帳に追加
安価で取り扱いやすい湿式法で、非導電性物質表面を実質的に平滑のまま密着性良く触媒を担持することができ、しかも環境負荷の少ない無電解めっきの前処理方法を提供すること。 - 特許庁
A method of producing a vertical sidewall on a silicon substrate (110) for an Si/SiGe photodetector comprises a process of preparing a silicon layer (110) in which a silicon surface (110) lies in parallel with an underlying silicon wafer surface.例文帳に追加
Si/SiGe光検知器用のシリコン(110)基板上の垂直側壁の製造方法には、下層のシリコンウェハー表面に対してシリコン(110)面が平行であるシリコン(110)層を準備する工程を含んでいる。 - 特許庁
To provide a method of forming simply and in high reproducibility a conductive metal film which can be substituted for various plating films for various uses in an electronic component material field having process accuracy and reliability comparable to a plating film.例文帳に追加
電子材料分野において、各種用途に利用される種々のメッキ膜と代替可能な、メッキ膜に匹敵する加工精度と信頼性を有する導電性金属皮膜を簡便に、高い再現性で形成する方法の提供。 - 特許庁
To obtain a paper processing roll having improved qualities of roll and forming the shape or roundness of roll most suitable for a process in a calender under a production condition and a method for producing the same.例文帳に追加
紙加工ロール及びその製造方法において、ロールの品質を改善させ、生産条件のもとでロールがカレンダー内においてプロセスに最適な形状または真円度を得るような紙加工ロール及び製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for producing an α,β-unsaturated carboxylic acid and an acid anhydride having an α,β-unsaturated carboxylic acid backbone in a high yield by using a catalytic reaction which is easily handleable in terms of process and is industrially advantageous.例文帳に追加
プロセス面で取り扱いやすく、工業的に有利な触媒反応を用いて、α,β−不飽和カルボン酸およびα,β−不飽和カルボン酸骨格を有する酸無水物を収率高く製造する方法を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate in which specifications on a wiring board for mounting an IC element can made common without increasing constraint being imposed on the IC element along with a method for production thereof, and to provide a semiconductor device and its manufacturing process.例文帳に追加
IC素子に課せられる制約を増やすことなく、IC素子を搭載する配線基板の仕様を共通化できるようにした基板及びその製造方法、並びに半導体装置及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a laser thermal transfer device and a laser thermal transfer method of applying a laser thermal transfer process by bonding a base plate and a donor film, with the use of a bonding frame formed of an electromagnet and a base plate stage equipped with the electromagnet.例文帳に追加
電磁石で形成された密着フレームと,電磁石を備えた基板ステージとを利用して,基板とドナーフィルムとを密着し,レーザ熱転写工程を施すレーザ熱転写装置及びレーザ熱転写方法を提供すること。 - 特許庁
This method for producing the organic sheet-shaped particles having 0.1-1,000 μm mean particle diameter comprises a process of holding the crystalline polyester particles having ≤1,000 μm mean particle diameter in sub-critical or super-critical state fluid.例文帳に追加
平均粒子径が1000μm以下の結晶性ポリエステル粒子を亜臨界状態または超臨界状態の流体中に保持する工程を有する、平均粒子径0.1〜1000μmの有機板状粒子の製造方法。 - 特許庁
To provide a method of time scheduling capable of assigning much more power to mobile stations and assigning channel resources to much more mobile stations in a stop-and-wait (SAW) hybrid automatic retransmission request (ARQ) process.例文帳に追加
ストップアンドウェイト(SAW)ハイブリッド自動再送要求(ARQ)プロセスにおいて、より多くの電力を各移動局に割当て、チャネル資源をより多くの移動局に割当ることができるタイムスケジューリングの方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method by which a fine structure, particularly a high-accuracy fine structure having an inclined side wall and utilizable as a fine metal mold after electroforming can be mass-produced by an easy production process at a low price.例文帳に追加
微細構造体、特に電鋳加工し微細金型として利用可能な傾斜した側壁を有する高精度な微細構造体を、簡易な製造工程により、安価に大量生産できる方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a golf club shaft capable of improving the productivity and the quality by hardening a laminated body and facilitating polishing a braided layer, an object to be polished, in just proportion when using a braiding process.例文帳に追加
ブレーディング製法を用いた際に、積層体を硬化させた後に研磨対象となる編組層を過不足なく研磨し易くして、生産性と品質の向上を図ることができるゴルフクラブ用シャフトの製造方法を提供する。 - 特許庁
In particular, suitably, the continuously manufacturing method has a process of laminating resin sheets with metal foil obtained by forming an electrical insulating resin layer comprising a resin composition on metal foil on both faces of a base material.例文帳に追加
特に、樹脂組成物からなる絶縁樹脂層を金属箔上に形成してなる金属箔付き樹脂シートを、基材の両面に積層する工程を有する積層板の連続的製造方法に好適に用いることができる。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a sensor of semiconductor structure at a low cost capable of preventing trouble such as insufficient etching or over etching in etching of a sacrificial layer and dispensing with complicated processes in a semiconductor sensor manufacturing process.例文帳に追加
半導体センサ製造工程において、犠牲層エッチング時の問題である、エッチング不足、もしくは過剰エッチングを防止すること、並びに複雑なプロセスを必要とせず、低コストで半導体構造を用いたセンサを製造すること。 - 特許庁
To provide a semiconductor chip surface mounting method which requires no packaging material for intermediate stage movement of the semiconductor chips, and simplifies the processes without additional underfill process required, to reduce the separation between components.例文帳に追加
半導体チップの中間段階移動のための包装材が必要なく、追加的なアンダーフィル工程がないので工程を単純化して部品間の隔離距離を減らすことができる半導体チップ表面実装方法を提供する。 - 特許庁
To provide a maintenance service management system and method that can receive maintenance work schedule information direct from a customer and synchronize the progress of work across a plurality of stores in each process of work according to the schedule.例文帳に追加
保守作業スケジュール情報を顧客から直接受け取り、そのスケジュールに基づいて作業の各工程で複数の店舗における作業の進捗の同期を図ることができる保守サービス管理システム、およびその方法を提供する。 - 特許庁
The method of forming the conductive thin film includes a step in which the ink containing metal nano particles is applied on a substrate to form a thin film, and a step in which the thin film is acted with reducing agent to perform a reducing process.例文帳に追加
金属ナノ粒子含有インクを基板上に塗布して薄膜を形成する工程と、当該薄膜に還元剤を作用させて還元処理を施す工程とを含むことを特徴とする導電性薄膜の形成方法。 - 特許庁
To provide a method and device for decoding images for reducing or suppressing appearing of pseudo lines when compositing a compressed background layer or foreground layer after scaling, in a process for expanding and compositing codes of object base.例文帳に追加
オブジェクトベースの符号を伸張し合成する処理で、圧縮された背景レイヤや前景レイヤをスケーリング後に合成する場合に、擬似的な線の出現を軽減あるいは抑制する画像復号化装置および画像復号化方法を得る。 - 特許庁
To prevent intermixture of moisture in a battery in a manufacturing process under a method to manufacture a battery storing a battery constitutional element in a metal case and sealed by a terminal board and a safety valve through an insulating gasket.例文帳に追加
電池構成要素を金属ケースに収納し、絶縁性ガスケットを介して端子板及び安全弁により封口し密封した電池を製造する方法において、製造工程で電池内に水分が混入するのを防止すること。 - 特許庁
The deodorizing method includes a process of applying at least one type of deodorizing component selected from the group consisting of royal jelly, royal jelly extract, honey and honey extract to the odor component.例文帳に追加
さらには、 少なくとも、ローヤルゼリー、ローヤルゼリー抽出物、蜂蜜および蜂蜜抽出物からなる群より選択される少なくとも1種の消臭成分を臭い成分に作用させる工程を包含する消臭方法を開示する。 - 特許庁
In a multi-function machine including a color copy machine as a base, in which PC(process cartridge) unit is used for an image forming unit in KCMY 4-ream tandem imaging method, a facsimile received image can be outputted in a selected color.例文帳に追加
PC(プロセス カートリッジ)ユニットをKCMY4連タンデム作像方式の画像形成部に用いるカラー複写機をベースにした多機能機において、ファックス受信画像を選択された色で印刷出力することを可能にする。 - 特許庁
To provide a character information extracting method from a CAD picture capable of extracting character information from an optional creation process CAD data of all CAD systems without having dependency on the CAD system and its device.例文帳に追加
CADシステムへの依存性を持つことなく、すべてのCADシステムのCADデータから、任意の作成手順での文字情報を抽出できるCAD画面からの文字情報抽出方法及びその装置を提供する。 - 特許庁
In the method for manufacturingthe polarizing film having a process for immersing a polymer film in solution and stretching it in a TD direction, it is characterized that a crown roll with stretching in the TD direction is 3% or more of curvatures is used.例文帳に追加
ポリマーフィルムを溶液中に浸漬するとともに、TD方向に延伸する工程を有する偏光フィルムの製造方法において、TD方向への延伸が曲率3%以上のクラウンロールを用いることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a manufacturing method of a refrigerating cycle device which restrains moisture from entering a compressor from an open part of refrigerating cycle in an assembling process in the case of manufacturing a refrigeration device corresponding to HFC refrigerant.例文帳に追加
HFC冷媒対応の冷凍装置を製造した場合の組組み立て工程途中で、冷凍サイクル開放部から圧縮機内に水分が混入することを抑制できる製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁
To provide a manufacturing method for a semiconductor which hardly causes problems resulting from the curvature of a thickness-reduced lead frame while suitably preventing resin from leaking in a sealing process using an adhesive tape and a lead frame laminate used for it.例文帳に追加
粘着テープにより封止工程での樹脂漏れを好適に防止しながら、しかも薄型化したリードフレームのそりによる問題が生じにくい半導体装置の製造方法、及びそれに用いるリードフレーム積層物を提供する。 - 特許庁
To provide a manufacturing process of a base material of gasoline which, produced by using a wax component such as a synthetic wax by the Fischer-Tropsch synthesis method as a raw material, substantially does not contain aromatic components, naphthenic components and olefinic components and gives a satisfactory octane number.例文帳に追加
フィッシャー・トロプシュ合成ワックスなどのワックス分を原料として製造されたガソリン基材において、実質的にアロマ分、ナフテン分、オレフィン分を含まず、かつ、十分なオクタン価が得られるガソリン基材の製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for concentrating a polymer latex capable of removing scales in a short time in a concentration process for removing volatile material such as unreacted monomer and the like, water and alcohol and the like from the polymer latex.例文帳に追加
重合体ラテックスから、未反応単量体等の揮発性物質、水、アルコール等を蒸発除去する濃縮工程で、スケールの除去作業を短時間で行うことが出来る重合体ラテックスの濃縮方法の提供すること。 - 特許庁
To inexpensively provide a selective reduction catalyst for nitrogen oxide, which can efficiently remove nitrogen oxide contained in an exhaust gas even under such conditions that oxygen and the like coexist in a high concentration, and to provide a process for producing the selective reduction catalyst for nitrogen oxide and a method for removing nitrogen oxide using the catalyst.例文帳に追加
高濃度の酸素等が共存する条件下においても、排ガス中に含まれる窒素酸化物を効率良く除去することができる窒素酸化物の選択的還元触媒を安価に提供すること。 - 特許庁
The manufacturing method of the aqueous solution W has a process of pulverizing aqueous solution with associated bodies of donor molecules and acceptor molecules dispersed into fine particles with a mode of particle sizes of 1 μm or less and a mode value width of 1 μm or less.例文帳に追加
水溶液の製造方法は、ドナー性分子とアクセプタ性分子との会合体が分散した水溶液を粒子径の最頻値が1μm以下であり、かつ、半値幅が1μm以下になるよう微粒子化する工程を有する。 - 特許庁
To provide a flat panel display device and a producing method therefor, capable of increasing the through-put of poly-crystallization when poly- crystallizing amorphous silicon layer formed on a substrate by using a low temperature poly-silicon producing process.例文帳に追加
本発明は、低温ポリシリコン製造プロセスを用いて基板上に形成したアモルファスシリコン層を多結晶化する際、多結晶化のスループットを高くすることができるフラットパネル表示装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor crystal substrate, by which the warpage of crystal axis generated in a semiconductor crystal substrate, obtained by utilizing a process for vapor depositing a semiconductor crystal on a different kind of substrate, can be reduced.例文帳に追加
異種基板上に半導体結晶を気相成長させる工程を利用して得られる半導体結晶基板に生じる結晶軸の湾曲を低減することができる半導体結晶基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
To obtain a management method for nuclear facility decommissioning waste by which management of radioactivity of waste in each work process from decommissioning of nuclear facility to bringing into a disposal facility can be properly done.例文帳に追加
原子力施設の解体作業から廃棄体の処分施設に搬入までの各作業工程で廃棄物の放射能量の管理を適正に行うことができる原子力施設解体廃棄物の管理方法を得ることである。 - 特許庁
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