「performing without a mask」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

To provide a plasma treatment technique performing plasma treatment of a fine region without a mask for narrowing down an irradiation region, in plasma treatment.例文帳に追加

プラズマ処理において照射領域を絞るマスクを用いないで、微小な領域のプラズマ処理を行うプラズマ処理技術を提供する。 - 特許庁

To adjust the mounting length of straps without stages by arranging a clip for a mask and performing continuous change.例文帳に追加

マスク用クリップを装着して、ストラップの装着長さを連続的に変化させて無段で調節する。 - 特許庁

To provide a mask for efficiently performing ventilation without leaking pressure when a tube for tubal feeding, etc., is used in the mask of an invasive artificial respirator by solving the problem that all non-invasive artificial respirators are operated by pressure setting so as to prevent effective ventilation from being attained by leaking the pressure from the tube.例文帳に追加

すべての非侵襲的人工呼吸器は圧設定にて作動するため、圧がチューブの部位より漏れ出ることで効果的な換気を行うことが出来ない。 - 特許庁

To provide a mask auxiliary tool for smoothly performing respiration and a conversation by using an original mask of a type available on the market and covering both a mouth and a nose without impairing the mask function of preventing drying of the nose and the inflow of dust or pollen.例文帳に追加

鼻の乾燥や、埃又は花粉等の流入を防ぐといったマスクの機能を損なうことなく、市販されている口と鼻との両方を覆うタイプのマスクをそのまま利用して、呼吸や会話を円滑に行うことを可能とするマスク補助具を提供する。 - 特許庁

To provide a pattern inspection method and a pattern inspection device for constantly performing accurate pattern inspection to a body to be inspected without being affected by the optical system characteristics or the like of a sensor, and a method for manufacturing a mask.例文帳に追加

センサの光学系特性等に影響されず、被検査体に対して、常に、正確なパターン検査を行なうことができるパターン検査方法及びその装置、ならびにマスク製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a proximity scanning apparatus for highly accurately performing positioning processing between a substrate and a mask at a high speed even when areas without having substrate patterns formed exist on a part of the substrates, and to provide its illuminance control method.例文帳に追加

基板の一部に下地パターンが形成されていない領域があっても、基板とマスクとの位置合わせ処理を高速且つ高精度に行なうことができる近接スキャン露光装置及びその露光方法を提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer print circuit board capable of performing inter-layer connection without manufacturing a mask by eliminating a wet process, and capable of manufacturing a multilayer print circuit board with high reliability.例文帳に追加

湿式工程をなくしてマスクの製造なしで層間接続ができ、信頼性の高い多層印刷回路基板を製造することのできる多層印刷回路基板の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide an optical element which is obtained by using a glass substrate as a material and without performing processes for forming and removing a mask film and which has an arbitrary refractive index distribution; and to provide a method for manufacturing the same.例文帳に追加

ガラス基板を材料として、マスク膜の形成・除去工程を無くし、かつ任意の屈折率分布を持った、光学素子及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a pattern working method and a pattern working device, working the worked base within a mask width to be flat without over-etching by anisotropy working, and performing microprocessing.例文帳に追加

異方性の加工によりオーバエッチングを生じることなくマスク幅内の加工底面を平坦に加工でき、微細加工が可能なパターン加工方法及びパターン加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a processing method and cleaning equipment performing selective removal at a region on a work without using any mask in which cleaning work is not required after processing and environmental influence is suppressed.例文帳に追加

環境影響が少なく、加工後洗浄が不要な、被加工物上のある領域にマスクを用いず選択的に除去加工する加工方法ならびに洗浄装置を提供する。 - 特許庁

Since the opening 15a of the gettering mask film 15 is formed by self-aligment technology utilizing the photoresist 16 as a mask, the opening pattern of the gettering mask film is formed, without being shifted from the opening pattern 16a of the photoresist 16 and a CGS film containing no impurity of catalytic metal can be formed by performing a photolithographic process only once.例文帳に追加

ゲッタリングマスク膜１５の開口部１５ａは、フォトレジスト１６をマスクとして利用して、セルフアラインにより形成されるので、フォトレジスト１６の開口部１６ａのパターンに対して、ゲッタリングマスク膜の開口部のパターンがずれることなく形成され、１回のフォトリソグラフィ工程によって、触媒金属による不純物を含まないＣＧＳ膜を形成することができる。 - 特許庁

To provide a dual photomask used in photolithography in the case of producing an integrated circuit and capable of performing double exposure operation on a semiconductor wafer without mask tooling.例文帳に追加

集積回路製造でのフォトリソグラフィーにおいて使用され、マスクリツーリングなしに半導体ウエハ上に２重露光操作を行なうことができる、デュアルフォトマスクを提供すること。 - 特許庁

To provide a data transfer device capable of writing data without performing read modify write processing with a memory which has no mask write function.例文帳に追加

マスクライト機能を有しないメモリに対して、リード・モディファイ・ライト処理を行うことなく、データの書き込みを行えるデータ転送装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of fabrication for semiconductor device, and a semiconductor device thus fabricated, in which the fabrication cost can be reduced while reducing the size by performing gettering without using any mask.例文帳に追加

マスクを用いることなくゲッタリングを行って製造コストを低減でき、半導体装置を小型化できる半導体装置の製造方法およびその半導体装置を提供する。 - 特許庁

To provide a reflective exposure mask or reticle capable of performing exposure and transfer accurately without causing light to be reflected from an area other than a circuit pattern area being an exposure target.例文帳に追加

露光対象となっている回路パターン領域以外から光が反射することなく、精度よく露光転写ができる反射型露光用マスクもしくはレチクルを提供する。 - 特許庁

To carry out inspection with high accuracy without causing any pseudo defects by performing the pattern data collation corresponding to a small change of the pattern generated by an etching process of the pattern formed on a photo mask.例文帳に追加

フォトマスク上に形成されるパターンのエッチングプロセスによって生じるパターンの微妙な変化に対応したパターンデータの合わせを行い、疑似欠陥の発生を招くことなく精度良い検査を行う。 - 特許庁

The distribution of dot data to the plurality of nozzle arrays can be performed in a simple constitution without performing a special data distribution processing such as mask processing.例文帳に追加

これにより、マスク処理などの特別なデータ振り分け処理を行わずに、簡易な構成で複数のノズル列に対するドットデータの振分けを行うことができる。 - 特許庁

More specifically, in the inspection of the mask RM, it is possible to perform the defect inspection without performing a comparison inspection that requires a great amount of measuring time and advanced techniques.例文帳に追加

すなわち、マスクＲＭの検査において、多くの測定時間と高度な技術が要求される比較検査を行わないで、欠陥検査を行うことができる。 - 特許庁

Thus, the dicing mask can be formed without performing a complicated processing step with high process cost, and the plasma dicing can be realized with the low cost.例文帳に追加

これにより、工程コストの高い複雑な処理工程を行うことなくダイシングマスクを形成することができ、低コストでプラズマダイシングを実現することができる。 - 特許庁

To provide an ion milling device capable of easily manufacturing a sample without performing parallel processing in the case where the mask surface side and loading surface of the sample are non-parallel, and to provide an ion milling method.例文帳に追加

本発明の目的は、試料のマスク面側と搭載面とが非平行の場合に、平行に加工する必要が無く試料作製を容易に行うことができるイオンミリング装置及びその方法を提供することにある。 - 特許庁

According to this constitution, the distance of 25 can be determined without performing mask overlay, and a constitution, wherein the resistance of the source/drain region causes no trouble, can be accomplished.例文帳に追加

この構成をとることにより、マスク合わせを行わずに２５の距離を決めることができ、しかもその距離を短くできるので、ソース／ドレイン領域の抵抗があまり問題とならない構成を実現できる。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device in which an overlay vernier can be formed without performing additional drain key open mask and drain key open etch processes by forming a step in a semiconductor substrate when the overlay vernier is formed and forming a hard mask having a stack layer formed thereon so that the shape of the step can be maintained.例文帳に追加

オーバーレイバーニア形成時に半導体基板に段差を形成し、段差の形態が維持され得るように上部に積層膜を形成してハードマスクを形成することで、ドレインキーオープンマスク工程とドレインキーオープンエッチ工程を別途設けるずとも、オーバーレイバーニアの形成が可能な半導体素子の製造方法を提供する。 - 特許庁

An address control/write mask control part 7 performs control so as to sequentially execute instructions following a branch instruction without performing branch control if addresses from the branch instruction to a branch destination instruction are within a prescribed value when an instruction code is a branch instruction and also when it is determined that branching is performed.例文帳に追加

アドレス制御／書き込みマスク制御部７は、命令コードが分岐命令であり、かつ分岐すると判定した場合に、当該分岐命令から分岐先命令までのアドレスが所定値以内であれば、分岐制御を行なわずに分岐命令に続く命令を順次実行するよう制御する。 - 特許庁

To provide an apparatus for performing a resist pattern inspection without deteriorating the performance of the inspection apparatus in which, when inspecting a resist pattern of a mask substrate using a short-wavelength and high output light source, outgas is generated to cause the deterioration of the performance of an optical system of the inspection apparatus.例文帳に追加

マスク基板のレジストパターンを短波長、高出力光源を使用する検査装置を用いて検査するとアウトガスが発生し、検査装置の光学系の性能を劣化させる要因となるため、検査装置の性能を劣化させることなくレジストパターン検査を行う装置を提供する。 - 特許庁

A large quantity of hydrogen ions is implanted into the gate electrode 15 becoming a mask and the gate insulation film 14 by acceleration implanting plasma decomposed ions of phosphorus diluted with hydrogen by a ion doping method without performing mass separation.例文帳に追加

このときイオンドーピング法を用い、燐の水素希釈ガスをプラズマ分解したイオンを質量分離を行わずに加速注入することで、マスクとなるゲート電極１５とゲート絶縁膜１４中に多量の水素イオンが注入される。 - 特許庁

Mass production of the base of the microwave circuit has become possible without using the exposed mask having inferior durability by forming a resist layer by printing a peeling type ink to a area where the electrode films of the base of the microwave circuit is not formed and then performing lift-off by peeling this resist film.例文帳に追加

立体回路基体の電極膜を形成しない部分に剥離型インキを印刷してレジスト層を形成し、このレジスト層を剥離してリフト・オフを行うことにより、耐久性が悪い露光マスクを使用せずに立体回路基体の量産が可能となった。 - 特許庁

To provide pattern width measurement equipment for performing non-destructive measurement without generating seizure on a mask substrate to be measured, and for accurately measuring a pattern width on the substrate to which microfabrication has been performed under the consideration of individual exposure conditions as an effective pattern width in exposure equipment.例文帳に追加

被測定マスク基板に焼き付きを生じさせることなく、非破壊での測定を可能とするとともに、個々の露光条件を考慮して精度良く微細加工処理が施された基板上のパタン幅を露光機における実効的なパタン幅として測定することが可能なパタン幅測定装置を提供する。 - 特許庁

By using such a transfer member 10, an etching mask made of resist is formed on a surface 25 of a body 20 to be transferred without using any photolithography, thus performing etching without forming any films made of chromium (Cr), gold (Au), and the like as before and without using the developer or the like to form a recess 21 on the surface 25 of the body 20 to be transferred.例文帳に追加

このような転写体１０を用いることで、フォトリソグラフィを用いることなく、被転写体２０の表面２５に、レジストからなるエッチングマスクを形成するので、従来のようにクロム（Ｃｒ）および金（Ａｕ）などからなる膜を成膜することなく、現像液などを用いることもなく、エッチングすることができ、被転写体２０の表面２５に、凹部２１を形成することができる。 - 特許庁

This surface unevenness forming method includes a process for forming an energy-sensitive negative resin composite layer containing at least one or more kinds of polymarizable monomers or oligomers, a process for irradiating activated energy rays at least once or more via a mask with the pattern formed or a process for directly plotting the pattern and a process for performing afterbaking without performing an etching operation.例文帳に追加

少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物層を形成する工程、パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を少なくとも一回以上照射する工程またはパターンを直接描画する工程、エッチング操作を行うことなく後加熱する工程を含む表面凹凸形成方法。 - 特許庁

In the method for forming rugged surface whose cross-section has nonlinear symmetric shape, the rugged surface is obtained by a process of forming energy-sensitive negative type resin composition material including polymerizable monomer or oligomer of at least one kind, a process of applying active energy rays via a mask patterned with three or more gradations and a process of performing post-heating without etching operation.例文帳に追加

少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物質を形成する工程、３値以上の階調パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を放射する工程、エッチング操作を行うことなく後加熱する工程により得られる表面凹凸の断面形状が、非線対称である表面凹凸形成方法。 - 特許庁

To provide a particle arrangement method when manufacturing an information display panel, capable of precisely performing adjustment of parallelism between an elastic sheet member and a mask surface without any occurrence of failed panel due to failed particle packing even if an elastic sheet member with a thickness of 2 mm or less is used as the elastic sheet member constituting a particle packing component.例文帳に追加

粒子充填部材の構成する弾性シート部材として厚さが２ｍｍ以下の弾性シート部材を用いた場合であっても、弾性シート部材とマスク表面との平行度調整を精確に行うことができ、粒子充填不良による不良パネルの発生のない情報表示用パネル製造時の粒子配置方法を提供する。 - 特許庁

It is one of hataraki-goto in which many Hitamen (face without mask) samurais are killing each other using a blade around the Noh shite and the Noh waki and the shite-kata who appear as the Noh shite and the Noh waki play roles of many other enemies and are got slashed to death by the shite and the Noh waki (On Noh stage, performers express getting slashed to death by performing anza [sitting quietly] or Hotokedaore [performance that represents death or falling unconscious] and fades from the stage). 例文帳に追加

シテやワキなどを中心として、直面の武士などが多人数で斬りあう働事で、能シテ、能シテなどとして登場するシテ方は、その他大勢の敵役として、シテや能ワキなどに斬られる役回りである（舞台上では、安座や仏倒れなどを行って斬られたことを示したのち、能能舞台から退く）。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス