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process stepの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3735



例文

The formation method includes (1) a step of forming a silicon oxide film 42 by thermally oxidizing a surface of a silicon layer 40 at an atmosphere temperature at which hydrogen atoms terminated on its surface are not detached, and (2) a step of obtaining a silicon nitride oxide film 42A by subjecting the obtained silicon oxide film 42 to a nitriding process.例文帳に追加

シリコン窒化酸化膜の形成方法は、(イ)表面を終端した水素原子が脱離しない雰囲気温度にて、シリコン層40の表面を熱酸化することによって、シリコン酸化膜42を形成する工程と、(ロ)得られたシリコン酸化膜42を窒化処理することによって、シリコン窒化酸化膜42Aを得る工程から成る。 - 特許庁

This delay adjustment method includes a step, in which it is determined whether at least one of insertion, deletion, substitution, and a shift of a cell can be carried out in a circuit description including layout information, and a step for performing processing in the circuit description including the layout information according to determination showing that one process can be carried out.例文帳に追加

遅延調整方法は、レイアウト情報を含む回路記述においてセルの挿入、削除、置換、及び移動の少なくとも1つの処理が可能か否かを判断する段階と、1つの処理が可能であるとの判断に応じてレイアウト情報を含む回路記述において処理を実行する各段階を含む。 - 特許庁

Thus, after the above processes, the analysis result of the previous time step is input into the following time step's FEM model as an initial value, it asks for the ground water flow place by repeating the process which inputs predetermined boundary condition and analyzes it into time step N, it is evaluated that long term variation of geological environment affects the ground water flow.例文帳に追加

これ以降、前タイムステップの解析結果を、次タイムステップのFEMモデルに初期値として入力し、所定の境界条件を入力して解析する工程をタイムステップNまで繰り返すことにより地下水流動場を求め、地質環境の長期的変遷が地下水流動に与える影響を評価する。 - 特許庁

In a second input processing step following the first input processing step, the signal input unit 21 inputs a second part of a first luminance signal read out of the storage unit 24 and a first part of the second luminance signal input from the outside that the prefilter 22 should process in the second input processing step to the prefilter 22, and stores the remaining second part in the storage unit 24.例文帳に追加

また、第1の入力処理ステップに続く第2の入力処理ステップにおいて、信号入力部21は、記憶部24から読み出した第1の輝度信号の第2部分と、外部から入力された第2の輝度信号のうち、第2の入力処理ステップにおいてプレフィルタ22によって処理すべき第1部分とをプレフィルタ22に入力するとともに、残りの第2部分を記憶部24に記憶する。 - 特許庁

例文

The process of manufacturing the polymer compound for photoresists comprises a polymerization step to polymerize with drop polymerization a monomer mixture containing at least a monomer having a group which becomes alkali-soluble with an acid and a monomer having a group which contains a polar-group containing an alicyclic structure and an after step to reduce residual monomers by adding a radical generator after the polymerization step.例文帳に追加

本発明のフォトレジスト用高分子化合物の製造方法は、酸によりアルカリ可溶となる基を有する単量体と、極性基含有脂環式骨格を含む基を有する単量体とを少なくとも含む単量体混合物を、滴下重合法により重合させる重合工程と、重合工程終了後にラジカル発生剤を添加して残存モノマーを減少させる後工程とを含む。 - 特許庁


例文

The process comprises the steps; 1) a step to supply a starting substance as the vanadyl/vanadous sulfate solution having a specific chemical composition, 2) a step to obtain the crystal by heating the solution and 3) a step to obtain a clear solution having practically same chemical composition as the starting substance by dissolving the crystal again adding a specific volume of deionized water with continuous agitation, if necessary with heat.例文帳に追加

このプロセスは、1)特定の化学組成を有するバナジル/バナダスサルフェート溶液の形態として出発材料を供用するステップ、2)加熱により前記溶液を蒸発させ結晶化させるステップ、および3)絶えず攪拌しながら、特定の体積の脱イオン水を加え、必要であれば加熱して結晶を再溶解させて、実質的に出発材料と同一の化学組成を有する透明溶液とするステップを含む。 - 特許庁

A semiconductor circuit design support method includes: a step of calculating variation 102 of device characteristics, when process parameters are varied, by using a first model 22; a step of normalizing an error between the device characteristics calculated by using a second model 23 and an actual measurement value 21, based on the variation 102; and a step of analyzing the second model 23 using the normalized error by an arithmetic unit 11.例文帳に追加

本発明による半導体回路の設計支援方法は、第1モデル22を用いて、プロセスパラメータが変動したときのデバイス特性の変動量102を算出するステップと、第2モデル23を用いて算出されたデバイス特性と実測値21との誤差に対して、変動量102で規格化するステップと、演算装置11が、規格化された誤差を用いて第2モデル23に対する解析を行うステップとを具備する。 - 特許庁

The process for producing optically active adamantylpropionic acid comprises a step of reacting 2-(1-adamantyl)propionic acid with an amine selected from the group consisting of (A-1) to (A-4) to form a diastereomer salt, a step of depositing part of the obtained diastereomer salt to obtain a purified diastereomer salt, and a step of obtaining optically active 2-(1-adamantyl)propionic acid from the purified diastereomer salt.例文帳に追加

2−(1−アダマンチル)プロピオン酸と下記(A−1)〜(A−4)よりなる群から選ばれたアミンとを反応させてジアステレオマー塩を形成する工程、得られたジアステレオマー塩の少なくとも一部を析出させ精製ジアステレオマー塩を得る工程、及び、精製ジアステレオマー塩より光学活性2−(1−アダマンチル)プロピオン酸を得る工程を含むことを特徴とする光学活性アダマンチルプロピオン酸の製造方法。 - 特許庁

The process for manufacturing a metal part includes: a step of metal-powder injection-molding of a metal preform which is made of metal powder and has a through-hole at the center; a step of tapping a screw head into the through-hole by a tapping machine to form a screw thread at the inner peripheral wall of the through-hole; and a step of degreasing and sintering the preforms.例文帳に追加

本発明に係る金属部品の製造方法は、金属粉末を原料として、中央部に貫通孔を有する金属予備成形体を金属粉末射出成形するステップと、タッピング機で前記貫通孔にねじ山をタッピングして、前記貫通孔の内周壁にねじ山を形成するステップと、前記金属予備成形体に対して脱脂処理及び焼結処理を行うステップと、を備える。 - 特許庁

例文

This crude extraction process for useful substances from jellyfishes comprises the first step in which the jellyfishes are crushed and shred into pieces, the second step in which the shred jellyfishes are decomposed and solubilized, and the third step in which the useful substance from the jellyfishes are roughly purified whereby the protease or collagen originating from the jellyfishes can be efficiently extracted.例文帳に追加

本発明によるクラゲの有用物質の粗抽出法は、クラゲを破砕・細断する第1の工程と第1の工程に続き当該破砕・細断されたクラゲを分解・可溶化する第2の工程と、第2の工程に続き当該分解・可溶化されたクラゲから有用物質を粗精製する第3の工程を具備することにより、クラゲ由来のプロテアーゼやコラーゲンを効率よく粗抽出することを特徴とする。 - 特許庁

例文

The process for fabricating a ridge type semiconductor laser comprises a step for forming a structure of a plurality of semiconductor layers including an active layer on a substrate, a step for forming a first electrode having a width narrower than that of the multilayer structure on the surface thereof, and a step for forming a ridge structure by etching the multilayer structure using the first electrode as a mask.例文帳に追加

本発明による製造方法は、基板上に活性層を含む複数の半導体層を積層して積層構造を形成する積層構造形成ステップと、その積層構造の表面において、積層構造よりも狭い幅を有する第1の電極を形成する第1電極形成ステップと、第1の電極をマスクとして積層構造をエッチングし、リッジ構造を形成するリッジ構造形成ステップとを含む。 - 特許庁

The method for generating the personalized voice from the text includes a step for analyzing the input text and obtaining standard parameters of a voice to be synthesized from a standard text voice database, a step for mapping the standard parameters to personalized voice parameters with a personalized model obtained in a training process, and a step for synthesizing a voice corresponding to the input text according to the personalized voice parameters.例文帳に追加

テキストからパーソナライズされた音声を生成する方法が、入力テキストを分析し、標準テキスト−音声データベースから、合成される音声の標準パラメータを獲得するステップと、トレーニング・プロセスにおいて獲得されたパーソナライズ化モデルにより、標準音声パラメータをパーソナライズされた音声パラメータにマップするステップと、パーソナライズ化音声パラメータにもとづき、入力テキストに対応する音声を合成するステップとを含む。 - 特許庁

In the process for producing carboxymethyl cellulose or its salt by reacting a cellulose raw material with an alkali to prepare an alkali cellulose and then reacting the alkali cellulose with an etherifying agent, the alkali cellulose preparation is carried out by a two-step alkali cellulose preparation method comprising performing the reaction at 10-25°C as a first step and thereafter raising the temperature by 10-25°C to perform the reaction as a second step.例文帳に追加

セルロース原料とアルカリとを反応させてアルカリセルロースを調製し、ついで、該アルカリセルロースとエーテル化剤とを反応させてカルボキシメチルセルロースを製造する方法において、該アルカリセルロース調製が、第1段目として10〜25℃にて反応させた後、第2段目として10〜25℃上げて反応させる2段アルカリセルロース調製法であることを特徴とするカルボキシメチルセルロースまたはその塩の製造方法。 - 特許庁

The method for treating chemical cellulose pulp produced by an alkaline delignification process comprises (a) an acid treatment step treating the pulp with an acid having 1-5 of pH at 40-100°C, (b) a neutralization treatment neutralizing the pulp acid treated in the step (a) with an alkaline agent to obtain a pulp with 7-14 of pH, and (c) a step bleaching the neutralized pulp.例文帳に追加

アルカリ脱リグニン処理して製造された化学セルロースパルプを処理する方法であって、(a)前記パルプを約1〜約5のpHと約40〜約100℃の温度で酸処理するステップ、(b)ステップ(a)に従って酸処理されたパルプをアルカリ性薬剤で中和し、約7〜約14のpHとするステップ、および(c)その後に前記中和されたパルプを漂白するステップを含むことを特徴とする方法である。 - 特許庁

A process includes: a step of contacting at least one aliphatic cyclic ester with at least one catalyst in a supercritical fluid to from at least one polyester; a step of exposing at least a portion of a substrate material to the supercritical fluid possessing the at least one polyester; and a step of grafting the at least one polyester onto or within the substrate material.例文帳に追加

少なくとも1つの脂肪族環状エステルを、超臨界流体中で少なくとも1つの触媒に接触させて、少なくとも1つのポリエステルを形成する工程;基材物質の少なくとも一部を、該少なくとも1つのポリエステルを有する該超臨界流体に曝す工程;および該少なくとも1つのポリエステルを該基材物質の上または該基材物質内にグラフトする工程を含む、プロセス。 - 特許庁

The process for manufacturing a rotor core 10 comprises a step for inserting a spacer 16 into a magnet insertion hole 12; a step for inserting a permanent magnet 14 into the magnet insertion hole 12, while imparting tension to the opposite ends of the spacer 16; and a step for removing tension imparted to the spacer 16 and securing the permanent magnet 14 into the magnet insertion hole 12 by means of the spacer 16.例文帳に追加

本発明のロータコアの製造方法では、磁石挿入孔12にスペーサ16を挿入する工程と、スペーサ16の両端に引張力を付与しながら永久磁石14を磁石挿入孔12に挿入する工程と、スペーサ16に付与された引張力を解除し、スペーサ16によって磁石挿入孔12内で永久磁石14を固定する工程によってロータコア10を製造している。 - 特許庁

The process for the synthesis of the conductive polymer comprises a step of coating an oxidant on a substrate surface in a thickness of several μm and drying in an oven, a step of carrying out a polymerization reaction on the substrate surface by contacting the oxidant coated substrate with a vapor phase monomer, and a step, after completion of the polymerization, of washing to remove an unreacted monomer and the oxidant.例文帳に追加

本発明は基材表面に酸化剤を数μm単位で塗布し、乾燥器で乾燥する段階と、酸化剤で塗布された基材に気体状態の単量体を接触させることで、基材の表面で重合反応を行う段階と、重合が完了した後、未反応単量体及び酸化剤を除去する洗浄段階とを含む伝導性高分子の合成方法を提供することを特徴とする。 - 特許庁

The process of making a fiber-reinforced composite material has a step of applying to a preopened carbon fiber a sizing agent with a mass average molecular weight of 1,000-10,000 so as to be contained in 3-10 mass%, a step of obtaining a prepreg by impregnating a curable resin to the carbon fiber to which the sizing agent has been applied, and a step of curing the prepreg.例文帳に追加

本発明は、予め開繊した炭素繊維に、質量平均分子量が1000〜10000の収束剤を含有率が3〜10質量%となるように塗布する工程と、前記収束剤を塗布した前記炭素繊維に硬化性樹脂を含ませてプリプレグを得る工程と、前記プリプレグを硬化する工程と、を有することを特徴とする繊維強化複合材料の製造方法である。 - 特許庁

The process for fabricating a silicon carbide semiconductor device comprises (a) a step for making the surface of SiC 1 amorphous by introducing impurities, (b) a step for forming a CNT 5 on the surface of amorphous SiC 3 by heat treatment, and (c) a step for forming a CNT 5 further thereon by using the CNT 5 as a ground.例文帳に追加

本発明による炭化珪素半導体装置の製造方法は、炭化珪素半導体装置の製造方法であって、(a)SiC1の表面に不純物を導入してアモルファス化する工程と、(b)アモルファスSiC3表面を熱処理することによってSiC1の表面にCNT5を形成する工程と、(c)CNT5を下地として用いて、その上方にさらにCNT5を形成する工程とを備えることを特徴とする。 - 特許庁

The method for manufacturing the organic thin-film transistor includes at least a step of spreading a diacetylene compound in a liquid state on a substrate, a step of forming a crystal of the diacetylene compound, and a step of topochemical-polymerizing the diacetylene compound with an energy exerted from outside and forming poly diacetylene, as a manufacturing process of a transistor having a semiconductor layer of poly diacetylene.例文帳に追加

有機薄膜トランジスタにおいて、ポリジアセチレンを半導体層とするトランジスタの作製プロセスであって、少なくとも、液状でジアセチレン化合物を基板上に展開する工程と、該ジアセチレン化合物の結晶状態を形成する工程と、外部からエネルギーを付与することにより該ジアセチレン化合物をトポケミカル重合させてポリジアセチレンを形成する工程を経ること特徴とする有機薄膜トランジスタの製造方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a silicon carbide semiconductor device, by which even a step bunching with large unevenness is flattened and the need for a polishing process such as CMP (Chemical Mechanical Polishing) for the flattening is eliminated.例文帳に追加

凹凸の大きいステップバンチングに対しても平坦化可能で、かつ平坦化にあたりCMP研磨などの研磨工程を必要としない炭化珪素半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

To provide a deposition remover which can realize an improvement in the quality stability of a process step for processing a thin film of a thin-film device and can lower a manufacturing cost by the curtailment of the time for maintenance.例文帳に追加

薄膜デバイスの薄膜加工工程の品質安定性向上を実現し、かつメンテナンス時間の削減による製造コストを下げることが可能な付着物除去装置およびその方法提供すること。 - 特許庁

In a step SC4, by allowing the character C of the imaginary training partner to generate sound that differs from the guide in a process where the key pressing guide is conducted based on the music data selected by the student, the student is allowed to point out the error.例文帳に追加

ステップSC4では生徒が選択した曲データに基づき押鍵案内を行う過程で、仮想的な練習相手のキャラクタCが案内とは異なる押鍵音を発音させ、その間違いを生徒に指摘させる。 - 特許庁

In an optical fiber-drawing step in the process for manufacturing an optical fiber, around and optical fiber obtained by heat drawing a preform for an optical fiber, an ultraviolet-curing resin is applied using a resin applicator and cured by exposing it to UV irradiation in an ultraviolet-curing over.例文帳に追加

このため、長尺線引きを行おうとすると、照射される紫外線照度が徐々に低下してUV樹脂の硬化が一定せず、全長を通して、より安定な特性をもつ光ファイバが得られない。 - 特許庁

When the timer is not reached a prescribed set value V5, it is returned to step S26 and steps S26-S28 are repeated and when the timer reaches the set value V5, the reverse turn is finished and shifted to next process.例文帳に追加

タイマーが所定の設定値V5に達していない場合には、ステップS26に戻り、ステップS26〜ステップS28を繰り返し、タイマーが設定値V5に達すると、反転行程を終了し、次の行程に移行する。 - 特許庁

The manufacturing process of a semiconductor package comprises a step of punching out a part of the lead side region 13c of a molding 13 and a dam bar 20c using a receiving table 30 and a punch 31.例文帳に追加

半導体パッケージの製造方法は、モールドによって形成された封止体13のリード側方領域13cの一部とダムバー20cとを、受け台30とパンチ31とを用いて打ち抜く工程を有している。 - 特許庁

When the copying of a copy-frequency limited file is detected (S331) by performing a process according to a flow shown in (B), 'download related data' are referred to and when the copying is not disabled (step S332), the file is copied.例文帳に追加

(B)に示すフローに従って処理を行い、コピー回数制限付ファイルのコピーの実行を検出すると(ステップS331)、「ダウンロード関連データ」を参照して、コピー不可能でない場合には(ステップS332)、コピーを実行する。 - 特許庁

To provide a printed wiring board manufacturing method capable of stabilizing the quality of a printed wiring board by simplifying a step of forming an opening, shortening a manufacturing lead time, reducing a manufacturing cost, and skipping a process that causes a quality trouble.例文帳に追加

開口部を形成するための工程を簡素化し、製造リードタイムの短縮および製造コストの低減を図り、さらに品質不具合の要因となるプロセスを省くことによりプリント配線板の品質を安定させる。 - 特許庁

In the exposure process, areas of a light transmitting part 146a for an opening and of a light transmitting part 149a for an opening are varied from each other so as to form a step 130a in the side wall of an opening 125.例文帳に追加

このうち、露光処理においては、開口部125の側壁面に段部130aが形成されるように、開口用透光部146aと開口用透光部149aの面積を異ならせて露光する。 - 特許庁

In the CT winning, one of non-winning directions 1-7 selected by the CT direction lottery process performs a winning CT direction using the respective back lamps 57a-57c, and 65 (step 127).例文帳に追加

また、CT当選の場合には、CT演出用抽選処理で選択された当選演出1〜7のいずれかで、各バックランプ57a〜cおよび65を用いて当選用CT演出が行われる(ステップ127)。 - 特許庁

When the CPU 25 determines that the written image which is input by writing is a handwritten area designation image based on the obtained written image data, then a designated write area display process is executed (step S18).例文帳に追加

CPU25は、取得した書込画像データに基づいて、書込入力した書込画像が手書きによる領域指定画像であると判断した場合には、次に指定書込領域表示処理を実行する(ステップS18)。 - 特許庁

To provide a semiconductor device which is highly reliable by using a protective diode so as not to degrade the characteristic of the semiconductor device, as well as to prevent the occurrence of plasma charging damage in the plasma process of a wiring formation step.例文帳に追加

保護ダイオードにより半導体装置の特性を劣化させることなく、配線形成工程のプラズマプロセスにおいてプラズマチャージングダメージの発生を防止して、信頼性の高い半導体装置を実現できるようにする。 - 特許庁

To provide a method for preventing abrasion of doctor blades with which the abrasion speed of the doctor blades can be reduced and staining of press rolls can be prevented to readily perform process control of a pressing step of papermaking.例文帳に追加

ドクターブレードの摩耗スピードを遅くすることができるとともに、プレスロールに汚れが付着することを防止でき、抄紙のプレス工程の工程管理を容易にすることができるドクターブレードの摩耗防止方法を提供する。 - 特許庁

After a resist layer thicker than a step is formed on an upper surface of the substrate based on the layers 14a, 16a, this resist layer is thinned by a sheet type ashing or etching process, so that resist layers 20A, 20B are left behind.例文帳に追加

基板上面に層14a,16aに基づく段差より厚くレジスト層を形成した後、このレジスト層を枚葉式のアッシングまたはエッチング処理により薄くしてレジスト層20A,20Bを残存させる。 - 特許庁

The blending process management method even further includes a distinction step of distinguishing the blending material image associated with the read material information based on the association information when the material information is read by the reading part.例文帳に追加

また、読み取り部により材料情報が読み取られた場合に、読み取られた材料情報に関連付けられている調合材料画像を関連情報に基づいて判別する判別ステップを含んでいる。 - 特許庁

Then, in the backgrinding process of the step s6, the back on the opposite side of the surface where a semiconductor element 4 is formed in the silicon substrate 1 is ground, and grinding is stopped when a change in a grinding speed is detected.例文帳に追加

そして、ステップs6の裏面研削工程では、シリコン基板1における半導体素子4が形成される面とは反対側の裏面を研削し、研削速度の変化が検出された時点で研削加工を停止する。 - 特許庁

To provide a phosphorescent material having transparency and a film-like phosphorescent member having the transparency in an ordinary tacky adhesive working process step and to provide the phosphorescent member which may be made to emit light with a desired color.例文帳に追加

透明性を有する蓄光物及び通常の粘着加工の工程で透明性を有するフィルム状の蓄光部材を提供でき、且つ、所望の色で発光させることができる蓄光部材を提供する。 - 特許庁

To provide a mounting step simulation program executed by a computer for pre-analyzing the influence of initial design conditions and manufacturing conditions of steps to the entire mounting process and simulating the steps continuously.例文帳に追加

初期設計条件や各工程の製造条件が及ぼす実装過程全体への影響度を事前解析し、各工程を連続してシミュレーションするコンピュータに実行させる実装工程シミュレーションプログラムを提供する。 - 特許庁

Protective protrusions are formed around bonding pads on a board using a printing ink applied in a printing step in a manufacturing process of the board, thereby protecting the bonding pad surface with the protective protrusions.例文帳に追加

基板のボンディングパッドの周囲に、当該基板の製造工程における印刷工程にて施される印刷インキによって保護凸部を形成し、当該保護凸部によってボンディングパッドの表面を保護することを特徴とする。 - 特許庁

To provide a porous optical fiber and its manufacturing method wherein the contamination during the manufacturing process of the optical fiber is prevented and the complexity of a step for stacking a glass tube and rod for the purpose of forming air holes is eliminated.例文帳に追加

光ファイバー製作過程中の汚染を防止し、エアホールを形成するためにガラスチューブ及びロッドをスタッキングする工程の複雑さが解消できる多孔光ファイバー及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

The method includes a step of depositing a phase transformation film on a substrate having an opening, and for moving a part of the phase transformation film positioned in the outside of the opening to its inside by a thermal process.例文帳に追加

この方法は、開口部を有する基板上に相変化膜を蒸着する段階と、熱処理工程によって開口部の外部に位置した相変化膜の一部が開口部の内に移動される段階とを含む。 - 特許庁

One mode of the process is characterized in that it has a step of causing the block polymer to form a micelle in response to a change in temperature.例文帳に追加

本発明の一態様は、温度変化に応答してブロックポリマーにミセルを形成させる工程を有することを特徴とする、ブロックポリマー、溶媒、および所定の機能を奏する物質を含む分散性組成物の製造方法である。 - 特許庁

If the current value is determined to match (YES for S17), it is determined that all of voltages are supplied from the main DC/DC converter (step S20), and the starting process is ended (the end).例文帳に追加

電流値が一致すると判断する場合(ステップS17においてYES)には、メインDC/DCコンバータより全ての電圧が供給されている状態と判定(ステップS20)して、起動処理を終了する(エンド)。 - 特許庁

If the ink droplets are not being discharged normally, the recording paper 3 is conveyed in reverse direction and print data for the defective printing mark is printed on the recording paper 3 as part of the interrupt process (step ST8, ST9).例文帳に追加

インク滴が正常に吐出されていない場合には、割り込み処理として、記録紙3を逆方向Bに搬送し、この記録紙3に印刷無効表示用印刷データの印刷を行う(ステップST8、ST9)。 - 特許庁

During the deposition step of the glass fine particles, the kind of the seal gas is switched to realize shortened manufacturing process, stable quality and reduced manufacturing cost of the porous glass preform.例文帳に追加

このとき、ガラス微粒子の堆積を行う工程中に、シールガスの種類を切り替えることにより、多孔質ガラス母材の作製工程の時間短縮と、品質の安定化、及び製造コストの削減を実現する。 - 特許庁

If it is determined to be before the guide point, the process controlling part carries out route cost computing for computing route costs necessary for reaching a destination via respective routes branched in the guide point (step S14).例文帳に追加

案内点の手前であると判別した場合、処理制御部は、案内点にて分岐する各経路を通り、目的地まで進行する場合における経路コストを算出する経路コスト算出処理を実行する(ステップS14)。 - 特許庁

A calcium concentration is adjusted by adding sodium carbonate or sodium hydrogen carbonate to white water circulated at a short term from a papermaking step to precipitate and remove calcium ion in the process water as calcium carbonate.例文帳に追加

製紙工程から短期循環される白水(white water)に炭酸ナトリウム或いは炭酸水素ナトリウムを加えて、工程水内のカルシウムイオンを炭酸カルシウムに沈澱させて除去することによりカルシウム濃度を調節する。 - 特許庁

To provide a waste water treating equipment which is capable of suppressing the degradation in waste water quality when a large volume of the waste water flows into a treating vessel even in the case a fore process step of the treating vessel is not provided with a flow equalization function.例文帳に追加

処理槽の前段に流量調整機能を持たないような場合にも、大量に排水が流入した時の排水水質の悪化を抑えることができる排水処理装置を提供する。 - 特許庁

Symbols are retrieved in the descending direction from the disassemble display top address specified by a user (process step S12), and the address of a first detected symbol is set as the analysis start address of an object code (S14).例文帳に追加

ユーザが指定した逆アセンブル表示先頭アドレスから降順方向にシンボルを検索し(処理ステップS12)、最初に検出したシンボルの示すアドレスからオブジェクト・コードの解析開始アドレスに設定する(S14)。 - 特許庁

例文

To adjust a breakdown voltage of an ESD protection device formed by the same process with an internal element without changing a basic performance of the internal element at a final stage of an LSI manufacturing step also.例文帳に追加

LSI製造工程の最終段階においても、内部素子の基本性能を変えることなく、内部素子と同一プロセスで形成されたESD保護素子のブレークダウン電圧を調整可能とすることを目的とする。 - 特許庁




  
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