「process step」に関連した英語例文の一覧と使い方(56ページ目) - Weblio英語例文検索

In a first input processing step of input processing from the outside to the image processing apparatus 1, a signal input unit 21 inputs a first part of a first luminance signal input from the outside that a prefilter 22 should process in the first input processing step to the prefilter 22, and stores the remaining second part in a storage unit 24.例文帳に追加

外部から画像処理装置１への第１の入力処理ステップにおいて、信号入力部２１は、外部から入力された第１の輝度信号のうち、第１の入力処理ステップにおいてプレフィルタ２２によって処理すべき第１部分をプレフィルタ２２に入力するとともに、残りの第２部分を記憶部２４に記憶する。 - 特許庁

The process for forming the metallic layer on the surface of the substrate comprises a step wherein a metal halide layer is formed from a halogen-containing precursor and a metal-containing precursor on at least part of the surface and a step wherein the metal halide layer is exposed to a reducing agent to yield the metallic layer.例文帳に追加

半導体基板の表面に金属層を堆積する方法において、前記表面の少なくとも一部の上で、ハロゲン含有前駆体及び金属含有前駆体から金属ハライド層を成長させる工程、及び前記金属ハライド層を還元剤に曝露して前記金属層を提供する工程が含まれるように構成する。 - 特許庁

In the pressure swing adsorption process including a step of separating the gas mixture by adsorbing the gas components in adsorption beds provided in containers 10, 20, 30, and 40, the separation step is performed by at least two stage pressure equalization and is performed by 5 or less valves 10A, 20A, 30A, and 40A per each of the plurality of the containers.例文帳に追加

容器１０、２０、３０、４０内に設けられた吸着ベッドにおいてガス成分を吸着することによりガス混合物を分離するステップを含んでいる圧力スイング吸着プロセスであり、この分離するステップは少なくとも２段階圧力等化により行われ、複数の容器の容器当り５個以下のバルブ１０Ａ、２０Ａ、３０Ａ、４０Ａにより行われる。 - 特許庁

The dipping treatment method including a process of performing dipping treatment (for example, anodization), and cleaning/drying to a substrate in which a metal film is formed as a thin film comprises a step for determining the start time for performing drying; and a step of determining time for turning on a heater so that a specified temperature is reached at the starting time.例文帳に追加

薄膜として金属膜が形成された基板に対して浸漬処理（例えば陽極酸化），洗浄及び乾燥を行なう工程を含む浸漬処理方法であって、乾燥を行なうための開始時間を決定するステップと、前記開始時間に所定の温度になるようにヒータをオンする時間を決定するステップと、を具備したものである。 - 特許庁

In the process for manufacturing a braille protrusion 4 by printing colored UV ink 7 on a material 3, irradiating the UV ink 7 with UV rays and curing the UV ink, the braille protrusion 4 is formed by repeating the step of piling up the UV ink 7 to be thinner than the height of the braille protrusion 4, and the step of irradiating the UV ink with UV rays and curing the UV ink.例文帳に追加

着色されたＵＶインク７を素材３に印刷し、紫外線を照射してＵＶインク７を硬化させて、点字凸部４を形成する点字凸部４の製造方法において、ＵＶインク７を点字凸部４の高さより薄く積層する工程と紫外線を照射して硬化させる工程とを繰り返して点字凸部４を形成する。 - 特許庁

The process for producing a lamination comprises a step for forming an underlying layer by applying coating liquid for forming an underlying layer containing a polymeric material, and a step for forming an upper layer by applying coating liquid for forming an upper layer onto the underlying layer.例文帳に追加

本発明は、高分子材料を含有する下地層形成用塗工液を塗布することにより下地層を形成する下地層形成工程と、上記下地層上に上層形成用塗工液を塗布することにより上層を形成する上層形成工程とを有することを特徴とする積層体の製造方法を提供することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁

The method of manufacturing the nitride gallium substrate includes a step of forming a porous nitride gallium substrate 11a having a thickness of 10 nm to 1000 nm by etching a nitride gallium substrate 11 in an atmosphere of HCl and NH_3 gas in a reaction chamber of an HVPE apparatus, and further includes a step of forming a nitride gallium growth layer 20 in a single reaction chamber by in situ process.例文帳に追加

ＨＶＰＥ装置の反応チャンバ内でＨＣｌ及びＮＨ_３ガス雰囲気で窒化ガリウム基板１１をエッチングして１０〜１０００ｎｍの厚さの多孔性窒化ガリウム層１１ａを形成するステップを含み、ひいては、単一の反応チャンバ内でインシチュで窒化ガリウム成長層２０を形成するステップをさらに含む窒化ガリウム基板の製造方法。 - 特許庁

Even it is speculated that a target phase angle is set at the latest angle position (YES at a step S8), and the actual phase is controlled based thereon, when rotation speed of an engine is at or lower the predetermined value and a phase learning condition is not concluded (NO at a step S10), learning process in a reference position is not performed.例文帳に追加

目標位相角が最遅角位置に設定されて（ステップＳ８でＹＥＳ）、それに基づいて実際の位相も最遅角位置に制御されていると推測される場合であっても、エンジン回転速度が所定値以下であって位相学習条件が成立しないときには（ステップＳ１０でＮＯ）、基準位置の学習処理を実行しない。 - 特許庁

The process for forming a dielectric thin film comprises a step for rotating an object being coated with material liquid for forming a dielectric thin film, and a step for forming a dielectric thin film by ejecting the material liquid for forming a dielectric thin film to the surface of a rotating object being coated.例文帳に追加

誘電体薄膜形成用液体材料を塗布するための塗布対象物を回転させる工程と、回転している該塗布対象物の表面に該誘電体薄膜形成用液体材料を吐出し、誘電体薄膜を形成する工程と、を備えていることを特徴とする誘電体薄膜の形成方法により解決する。 - 特許庁

A process for correcting a disconnected part comprises a step carried out under first conditions regarding laser output and machining time and a step carried out under second conditions regarding laser output and machining time, wherein the second laser output condition is lower than the first laser output condition and the second machining time condition is longer than the first machining time condition.例文帳に追加

断線部を修正する工程は、レーザ出力及び加工時間についての第１の条件で実行する工程および第２の条件で実行する工程からなり、第２の条件におけるレーザ出力は第１の条件におけるレーザ出力よりも低く、第２の条件における加工時間は第１の条件における加工時間よりも長い。 - 特許庁

To provide a process for producing underwater sound absorbing wedges which can improve productivity and workability and reduce cost since processing molds are not required and, in addition, the elimination of the bonding step and the mass production of underwater sound absorbing wedges in any shape in the final cutting step are possible in producing the underwater sound absorbing wedges.例文帳に追加

吸音くさびの製造時に、加工モールドが不要である上に、接着工程も省略でき、最終の裁断工程により任意の形状に多量生産が可能となるので、生産性及び作業性の向上を図ることが出来ると共に、コストダウンを図ることが出来る水中吸音くさびの製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The method for the solid electrolyte the constituent of which is shown by a formula (1-x)ZrO_2+xSc_2O_3 (x=0.05 to 0.15), uses a spark plasma sintering for a sintering process, where the pressure during a sintering step is 40 MPa or less, and the pressure during a cooling step is 10 to 15 MPa.例文帳に追加

組成成分が式：（１−ｘ）ＺｒＯ_２＋ｘＳｃ_２Ｏ_３（ｘ＝０．０５〜０．１５）で表される固体電解質の製造方法であって、焼結工程にスパークプラズマ法を用い、焼結過程における圧力が４０ＭＰａ以下であり、かつ冷却過程における圧力が１０〜１５ＭＰａであることを特徴とする、固体電解質の製造方法である。 - 特許庁

When a detection frame below the detection determination threshold appears (step S156) at a stage for finding a vector evaluated value by scanning an inspection frame within a retrieval range in a reference frame, subsequent retrieval is not performed and the inspection frame is regarded as the start point of the moving vector for the macroblock (step S162) to shorten the process time.例文帳に追加

そして、参照フレーム内で検索範囲内に検査枠をスキャンしてベクトル評価値を求める段階で、この検出確定しきい値以下となる検出枠が出現すれば（ステップＳ１５６）、それ以降の検索を行うことなく、この検査枠をそのマクロブロックに対する動きベクトルの起点とする（ステップＳ１６２）ことで、処理時間の短縮を図っている。 - 特許庁

The repair method of the steel revetment structure constituting a revetment comprises a step of installing anchor members at a contact surface of the steel structure with water and a step of installing a form to carry out underwater driving of a hydrated hardened body containing slag produced in a steel manufacturing process as a main material, in the form.例文帳に追加

護岸を構成する鋼製護岸構造物を補修する方法であって、鋼製構造物の水との接触面に定着部材を設置する工程と、型枠を設置して該型枠に鉄鋼製造プロセスで発生したスラグを主原料とする水和硬化体を水中打設する工程と、を備えたことを特徴する鋼製護岸構造物の修復方法。 - 特許庁

The process for preparing the polymer granules comprises (a) a step of introducing as seed particles an emulsion polymer having a Tg in a range of -20 to 250°C and (b) a step of spraying an aqueous solution of the emulsion polymer on the seed particles to achieve a particle size in the range of 100-3,000 μm and a bulk density of 500 g/l or more.例文帳に追加

（ａ）シード粒子として−２０℃〜２５０℃の範囲のＴｇを有するエマルジョンポリマーを導入する工程；および（ｂ）エマルジョンポリマーの水性溶液をシード粒子上にスプレーして、１００μｍ〜３０００μｍの範囲の粒子サイズと５００ｇ／リットル以上の嵩密度を達成する工程を含むポリマー顆粒を製造する方法。 - 特許庁

To provide a cleaning apparatus hardly damaging a coagulated yarn while highly efficiently removing a cleaning liquid or the like remaining in the coagulated yarn in a cleaning step of the coagulated yarn of a polyacrylonitrile (PAN) polymer in a production process of a PAN-based fiber, and to provide a method for producing the PAN-based fiber in which the cleaning step is simplified by using the cleaning apparatus.例文帳に追加

ＰＡＮ系繊維の製造工程におけるＰＡＮ重合体凝固糸の洗浄工程で、凝固糸に残存する洗浄液等を高効率で除去しつつも凝固糸にダメージを与えることがない洗浄装置及び該洗浄装置を用いることによって洗浄工程が簡略化されるＰＡＮ系繊維の製造方法を提供する。 - 特許庁

A manufacturing process for a corrugated mattress structure comprises a step of disposing a stack of plant fiber long members 25 at least between a first layer 24 and a second layer 21 of plant fiber sheets to form a precompressed assembly, and a step of compressing the precompressed assembly to form a corrugated mattress structure.例文帳に追加

波形マットレス構造体の製造工程であって、該工程には、植物繊維細長体２５のスタックを、少なくとも植物繊維シートの第１層２４と第２層２１と間に配置して、予圧縮した組立体を形成するステップ；及び、該予圧縮した組立体を圧縮して、波形マットレス構造体を形成するステップを備える。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for producing a noodle belt scarcely impairing the network structure of gluten in a process forming a noodle belt from dough which is kneaded in a mixing step in the former step and resulted in good formation of the gluten, without causing a rolling-in phenomenon of the dough on rolls in rolling the dough on a rough preparation machine.例文帳に追加

粗整機などのロール上で生地の塊を圧延する際に、生地の巻き込み現象を発生することがなく、また、前段の混合工程で捏ねられて良好なグルテン形成が行われた生地が、麺帯状に成型される過程でグルテンの網目構造を損傷し難くした麺帯の製造方法とその装置を提供すること。 - 特許庁

This laser marking method comprises a first step of forming a membrane 2 or adhesion on the surface of a marked material 1 composed of a transparent body or a laser light transmitting body, and a second step of radiating a laser beam LB to the membrane or the adhesion and to form projection and depression on the surface of the marked material in a process for removing the membrane or the adhesion from the marked material.例文帳に追加

本発明のレーザマーキング方法は、透明体又はレーザ光線透過体からなる被マーキング材(1) の表面に膜(2) 又は付着物を形成する第一工程と、膜又は付着物にレーザ光線LBを照射し、膜又は付着物が被マーキング材から除去される過程で被マーキング材の表面に凹凸を形成する第二工程とからなる。 - 特許庁

In a process of manufacturing the optical semiconductor device, a diffraction grating is formed in an active layer, a wafer is placed in a growth device (steps S1 and S2), a thermal deformation prevention layer is formed on the surface of the diffraction grating at a first temperature (step S3), and then a temperature is raised to a second temperature for forming a buried layer of the diffraction grating (step S4).例文帳に追加

光半導体装置の製造過程において、活性層に回折格子を形成してウェハを成長装置内に配置し（ステップＳ１，Ｓ２）、この成長装置内で、第１の温度で回折格子表面に熱変形防止層を形成した後（ステップＳ３）、回折格子の埋め込み層を形成する第２の温度まで昇温する（ステップＳ４）。 - 特許庁

In the method for treating an electrically conductive layer structure of a four-metallic layer CMOS process, a step for depositing the 3rd electrically conductive layer 30 includes a step for depositing light absorbing layers 301, 303 at least once on light reflecting layers 300, 302, respectively, in such a way that the total thickness of the 3rd electrically conductive layer 30 does not exceed 350 nm.例文帳に追加

４金属層ＣＭＯＳプロセスの導電層構造を処理するための方法において、第３の導電層３０を堆積するステップは、前記第３の導電層３０の全厚が３５０ｎｍを超えないように、光反射層３００、３０２の上に光吸収層３０１、３０３を少なくとも一回堆積するステップを含む。 - 特許庁

To provide a structural member made of a cemented carbide and manufactured by a powder metallurgy process, in which at least one additive for controlling growth of crystals of V, Cr, Ti, Ta and Nb, shows a concentration transition in a step-by-step manner at least partially, and thereby the mechanical characteristics show the gradual change, and to provide a method for manufacturing the structural member.例文帳に追加

Ｖ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｔａ及びＮｂの結晶の成長を抑制する少なくとも１つの添加物が、少なくとも局部的に段階を辿る濃度推移を示し、それによりその機械的特徴も漸進的な推移を示す、粉末冶金法により製造される超硬合金から成る構造部材とこの構造部材の製造方法を提供する。 - 特許庁

A treatment method of development wastewater in a color filter manufacturing process includes a heating step of heating the development wastewater to be 50°C or higher and a pH adjustment step of adjusting pH of the development wastewater to be 7 or lower, in which the development wastewater is subjected to solid-liquid separation in the state of heating and pH adjustment.例文帳に追加

カラーフィルタ製造工程における現像排水の処理方法であって、該現像排水を５０℃以上に加温する加温工程と、該現像排水のｐＨを７以下に調整するｐＨ調整工程と、を有し、該現像排水を加温及びｐＨ調整した状態で固液分離することを特徴とする、現像排水の処理方法。 - 特許庁

The process has: a step of continuously extruding a tube composed of a specific unvulcanized rubber composition from a rubber extruder in a microwave vulcanizing unit, and a step of foaming and vulcanizing the tube by using a microwave irradiator having a microwave irradiation zone 4 m or less in length while being transported at given speed.例文帳に追加

本発明の方法は、特定の未加硫ゴム組成物のチューブをマイクロ波加硫装置内で、ゴム押出し装置から連続して押出す押出し工程と、該未加硫ゴム組成物チューブを所定の速度で搬送中に、マイクロ波を照射する区域の長さが４ｍ以下のマイクロ波照射装置を用い、発泡・加硫して成形する工程とを含む。 - 特許庁

The process for hydrotreating the olefinic gasoline involves a step for carrying out at least one selective hydrogenation and generally converting a thiol simultaneously by increasing the weight, and is regulated so that the (CO+CO_2) content in supplied hydrogen used in one or several times of the step is 5-200 ppmv.例文帳に追加

本発明は、オレフィンガソリンを水素化処理する方法であって、少なくとも１回の選択的水素化を行い、一般的には、重量を増加させることによりチオールを同時に変換する工程を包含し、１回または複数回の本工程に用いられる補給水素の（ＣＯ＋ＣＯ_２）含有量が５〜２００ｐｐｍｖである、方法に関する。 - 特許庁

This method for producing the novolak-type phenol resin comprises a first step of subjecting phenols and aldehydes to a heterogeneous reaction in the presence of ≥5 pts.mass phosphates to 100 pts.mass phenols, and a second step of subjecting the reaction product to fractionation treatment by at least one process selected from a solvent extraction method, a liquid-liquid separation method and a reprecipitation method.例文帳に追加

フェノール類とアルデヒド類とを、フェノール類１００質量部に対し５質量部以上のリン酸類の存在下で不均一系反応させる第一工程と、溶媒抽出法、液／液分離法及び再沈殿法から選ばれる少なくとも一種により分別処理する第二工程とを有するノボラック型フェノール樹脂の製造方法。 - 特許庁

The method for forming a resist pattern includes, in the process of forming a resist pattern by a charged particle beam, a step of fabricating a conductor made of a conductive composition, consisting mainly of a conductive polymer, having a sulfonic acid group and/or a carboxyl group on a resist, and a step of removing the conductor, after irradiating it with a charged particle beam.例文帳に追加

荷電粒子線によるレジストパターン形成時にレジスト上にスルホン酸基および／またはカルボキシル基を有する導電性ポリマーを主成分とする導電性組成物からなる導電体を形成する工程と、荷電粒子線照射後に当該導電体を除去する工程を含むことを特徴とするレジストパターン形成方法。 - 特許庁

To reduce a discharge amount of carbon dioxide gas by recycling the carbon dioxide gas generated in the step of purifying a nickel leachate with an oxidation neutralization method by using chlorine gas and nickel carbonate, in a wet refining process for nickel, and reduce the consumption of sodium carbonate necessary for producing nickel carbonate used as an alkaline agent in the leachate-purifying step.例文帳に追加

ニッケルの湿式精錬法において、塩素ガスと炭酸ニッケルを用いた酸化中和法によるニッケル浸出液の浄液工程で発生する炭酸ガスを再利用することにより、炭酸ガスの排出量を低減すると共に、浄液工程でアルカリ剤として用いる炭酸ニッケルの製造に必要な炭酸ソーダの使用量を削減する。 - 特許庁

This method comprises a step for executing a selective etching process using TMAH (Tetra-Methyl-Ammonium-Hydroxide) to form a plurality of trenches with slow inclination of the side surface, and a step for forming a gate pattern at the top of the substrate so that at least the inclination part of the trench acts as a part of a channel.例文帳に追加

本発明は、ＴＭＡＨ（Ｔｅｔｒａ−Ｍｅｔｈｙｌ−Ａｍｍｏｎｉｕｍ−Ｈｙｄｒｏｘｉｄｅ）を用いた選択的エッチング工程を実施し、側面の傾斜が緩慢な複数のトレンチを形成するステップと、少なくとも前記トレンチの傾斜部分がチャネルの一部になるように前記基板上部にゲートパターンを形成するステップとを含む。 - 特許庁

In another embodiment, the method includes the step of using the DGD reducer integrated into the optical transponder to receive and process optical input signal, and the step of receiving electrical input signal, narrow spectrum of the electrical input signal, convert the electrical input signal into optical output signal and then transmit it.例文帳に追加

他の実施形態では、方法は、光トランスポンダ内に集積されたＤＧＤ軽減器を用いて、光入力信号を受信し、かつ処理するステップと、電気的な入力信号を受信し、電気的な入力信号のスペクトルを狭くし、電気的な入力信号を光出力信号に変換し、かつ光出力信号を送信するステップとを含む。 - 特許庁

The process for manufacturing a patterned circuit board 4 by applying a mask 3 onto a metal plate 2 and removing the non-masked part by wet etching comprises a step for previously forming a groove 2b in the center of the non-masked part on the metal plate and the wet etching is carried out after the step for forming the groove.例文帳に追加

金属板２上にマスク３を施して、マスクされていない部分をウェットエッチングにより除去してパターンニングされた回路基板４を製造する方法であって、前記金属板上のマスクされていない部分の中央に溝２ｂを予め形成する溝形成工程を有し、該溝形成工程後に、前記ウェットエッチングを行うことを特徴とする。 - 特許庁

The method of starting the counting of passing time of a limited quantity of a first indicator to be injected in the flow of a second liquid in the process of thermal dilution counting includes a step of recording the variation of system variables generated by exposing a thermal sensitive part to the indicator and a step of deciding the starting point of the time counting by using the recorded variation.例文帳に追加

熱希釈計測の過程において第２の液体の流れに注入される有限量の第１の指示薬の通過時間の計測を開始する方法は、温度感応部を指示薬に曝すことにより生じるシステム変数の変化を記録するステップと、記録された変化を用いて時間計測の開始点を決定するステップとを含む。 - 特許庁

A process for producing the zinc oxide sintered compact with ZnO and Al added thereto comprises a calcination powder production step in which a first ZnO powder is blended with an Al_2O_3 powder and the blend is burnt, and a main burning step in which the calcination powder thus obtained is blended with a second ZnO powder and this blend is compacted and then burnt.例文帳に追加

ＺｎＯにＡｌを添加した酸化亜鉛焼結体の製造方法であって、第１のＺｎＯ粉末とＡｌ_２Ｏ_３粉末とを配合して焼成する仮焼粉末製造工程と、これによって得られた仮焼粉末と第２のＺｎＯ粉末とを配合、成形した成形体を形成し、これを焼成する本焼成工程とからなる。 - 特許庁

If the window humidity does not sink to 96% or below even if the FRS mode is continued for two seconds, in addition to the step 280 for continued setting to the FRS mode, the step 282 is conducted in which the process to set the blower voltage to a value higher than the requisite blower voltage determined on the basis of the requisite blowout temperature is executed.例文帳に追加

２分間継続してＦＲＳモードに設定してもウィンドウ湿度が９６％以下に下がらない場合は、ステップ２８０において継続してＦＲＳモードに設定するのに合わせて、ステップ２８２において、ブロワ電圧を、必要吹出温度に基づいて求めた必要ブロワ電圧より高めに設定する処理を追加して実行する。 - 特許庁

This method for producing an antistatic adhesive cover tape comprises the step of cutting a nonadhesive layer of a laminated film having at least a substrate layer 10, an adhesive layer 11 and a nonadhesive layer 12 and a process for finely slitting the laminated film.例文帳に追加

少なくとも基材層１０、粘着層１１、非粘着層１２を有する積層フィルムの非粘着層をカットする工程、当該積層フィルムをマイクロスリットする工程を有する帯電防止型粘着性カバーテープの製造方法。 - 特許庁

To surely separate fabric parts from the upper face of a fabric mass one by one and to automatically feed it to the next step process even for a hardly handled fabric such as a thin fabric, a flexible fabric and a fabric formed of a piled fabric.例文帳に追加

薄い生地、柔軟な生地、あるいは起毛性生地で形成した生地などの扱いにくい生地であっても、生地塊の上面から生地パーツを１枚ずつ確実に分離して次段工程へ自動的に供給できるようにする。 - 特許庁

In a film composition changing step to deposit a final thin film, the intermediate thin film is reacted with active species of reactive gas in the reaction process zone 60 to increase the film thickness of the final thin film more than the film thickness of the intermediate thin film.例文帳に追加

最終薄膜を形成させる膜組成変換工程では、反応プロセスゾーン６０で、中間薄膜と反応性ガスの活性種とを反応させて、最終薄膜の膜厚を中間薄膜の膜厚よりも増加させる。 - 特許庁

The track pitch information and recording linear speed information or recording angular speed information of the optical disk itself are recorded by ATIP information, etc., attached with undefined identification information to the lead-in region of the optical disk in a manufacturing process step for the disk.例文帳に追加

ディスク製造工程で、光ディスクのリードイン領域に、当該光ディスク自身のトラックピッチ情報および記録線速度情報または記録角速度情報を、未定義の識別情報を付したＡＴＩＰ情報等で記録する。 - 特許庁

To provide a defect inspection device realizing high resolution and an increase in an inspection speed in a technology for inspecting a pattern defect, foreign matter, residue, a step and the like on a wafer in a production process of a semiconductor by an electron beam.例文帳に追加

半導体装置の製造過程にあるウェハ上パターンの欠陥、異物、残渣および段差等を電子ビームにより検査する技術において、高分解能で、かつ検査速度の高速化を実現する欠陥検査装置を提供する。 - 特許庁

To provide an apparatus for heating an optical fiber preform where the heat-processing step of a product can be improved by performing a uniform dehydration process for the optical fiber preform using a plurality of heat sources and to provide its producing method.例文帳に追加

複数の加熱源を使用して光ファイバ母材の均一な脱水工程を行うことによって、製品の熱処理工程を改善させることが可能な光ファイバ母材の加熱装置及び該母材の製造方法を提供する。 - 特許庁

Meanwhile, with regard to the quartz plate 2, after being transferred to a cleaning unit by the transfer mechanism and cleaned (step S5: cleaning process), the quartz plate 2 is returned to a plate member cassette and then stored in a standby state in the cassette until it is re-used.例文帳に追加

一方、石英板２については、搬送機構によって洗浄ユニットに搬送されて洗浄された（ステップＳ５：洗浄処理）後、板状部材用カセットに戻され、次に再利用されるまで該カセット内で待機される。 - 特許庁

A host computer includes a step (S100) for calculating the amount of a carrying object in a manufacturing process and steps (S104, S108, S112) for deciding a lift to be used among a plurality of lifts in accordance with the calculated carrier load.例文帳に追加

ホストコンピュータは、製造工程における搬送対象物の量を算出するステップ（Ｓ１００）と、算出された搬送負荷に応じて、複数のリフトの中で使用するリフトを決定するステップ（Ｓ１０４、Ｓ１０８、Ｓ１１２）とを含む。 - 特許庁

After that, the client terminal 101 determines whether data can be taken out to a storage device according to the takeout setting (step S1915), and determines whether the data is taken out to the storage device by the specific process.例文帳に追加

そして、クライアント端末１０１は、持出設定に従って、ストレージデバイスに対するデータの持ち出しの可否を判定する（ステップＳ１９１５）、所定のプロセスによってストレージデバイスに対するデータの持ち出しが行われるのか否かを判定する。 - 特許庁

The filter aid 24 used for a filtering process step of the cold rolling mill lubricant for performing pressure filtration by forming a coating layer of the filter aid on the filter paper 22 is composed of fibriform powder 24f and activated clay 24h.例文帳に追加

濾紙２２の上に濾過助剤のコート層を形成し加圧濾過を行う冷間圧延油の濾過工程に使用される濾過助剤２４において、前記濾過助剤は、繊維状粉体２４ｆと、活性白土２４ｈとにより構成した。 - 特許庁

In the die casting machine equipped with the electric servomotor and a hydraulic driving source as driving sources for advancing an injection plunger, the advance driving force caused by the hydraulic driving source is applied to the injection plunger in the high speed injection step only in the injection process.例文帳に追加

射出プランジャの前進用の駆動源として、電動サーボモータと油圧駆動源とを備えた構成において、射出工程中の高速射出工程のみに、油圧駆動源による前進駆動力を射出プランジャに付加する。 - 特許庁