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processing layerの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 3235件
A laminate 12, which is obtained by integrally forming a synthetic resin film 12b on a nonwoven fabric 12a made of a synthetic fiber by lamination processing, is arranged on the outer surface of a resin absorbing fiber layer 11 becoming the contact side with the pipe material 2, to which the pipe lining material is applied, so that the synthetic resin film 12b becomes an outer surface side.例文帳に追加
管ライニング材1を施す管材2に接する側となる樹脂吸収繊維層11の外表面に、合成繊維製不織布12aに合成樹脂フィルム12bをラミネート加工により一体形成した積層体12を、合成樹脂フィルム12bが外表面側になるように配設する。 - 特許庁
There is prepared a pressure-sensitive adhesive sheet for processing semiconductor substrates, which is formed by applying a pressure- sensitive adhesive comprising a base polymer, a radiation-polymerizable compound and a radiation-polymerizable polymerization initiator onto the surface of a film substrate of an ionomer resin, in which molecules of an ethylene- methacrylate copolymer are crosslinked by way of potassium ions, to form a pressure-sensitive adhesive layer.例文帳に追加
エチレン−メタクリル酸共重合体の分子間をカリウムイオンで架橋したアイオノマー樹脂フィルム基材面上に、ベースポリマーと放射線重合性化合物と放射線重合性重合開始剤とからなる粘着剤を塗布し、粘着剤層を形成してなる半導体基板加工用粘着シート。 - 特許庁
To provide an efficient glass substrate regenerating device and an efficient glass substrate regenerating method for processing substrates to be regenerated, produced in the manufacturing process of a color filter substrate on the optimal alkali treatment conditions for peeling BM/RGB layers by each substrate for regeneration in a continuous regeneration process of sequentially peeling the substrates for regeneration from the upper layer part of a color filter film.例文帳に追加
カラーフィルタ基板の製造工程で発生した再生対象基板を、カラーフィルタ膜の上層部より順に剥離する連続再生プロセスにおいて、再生対象基板毎に最適なBM/RGB層剥離用アルカリ処理条件で処理する効率的なガラス基板再生装置及び再生方法を提供する。 - 特許庁
Pressure of a processing chamber (or called as a printing chamber) for forming an EL layer by using a printing method in a pixel part of a light-emitting device is put in a pressurizing state of atmospheric pressure (normal pressure) or more than the atmospheric pressure, and the inside of the printing chamber is filled with inert gas or put in a solvent atmosphere.例文帳に追加
本発明では、発光装置の画素部に印刷法を用いてEL層を形成するための処理室(または、印刷室と呼ぶ)の圧力を大気圧(常圧)又は大気圧以上の加圧状態にし、さらに印刷室内を不活性気体で充填したり、溶媒雰囲気とすることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a head substrate, in which the surface layer of an orifice plate is subjected to water repellent processing in order to eliminate or significantly reduce head cleaning and nozzle arrays being formed on the orifice plate are arranged two-dimensionally with high density, effectively using a thin film process while decreasing the number of process steps.例文帳に追加
ヘッドクリーニングの削除又は大巾な削減を可能とするために、オリフィスプレートの表面層を撥水処理するとともに、オリフィスプレートに形成されるノズル列を高密度に2次元的に配列したヘッド基板を薄膜プロセスを用いて効果的に、すなわち工程数を削減して製造できる方法を提供する。 - 特許庁
An image processing apparatus includes: an analysis part (130) for obtaining information on a display order of a plurality of layers from the cross-sectional image; and a display control part (140) for controlling to sequentially change display forms of each layer based on the information on the display order and to display on a display device (30).例文帳に追加
断層像から複数の層の表示順に関する情報を得る解析部(130)と、 前記表示順に関する情報に基づき各層の表示形態を順次に変更して表示装置(30)に表示させる制御をする表示制御部(140)と、を有することを特徴とする画像処理装置。 - 特許庁
The lithographic printing plate precursor is dipped in the liquid developer, an image recording layer of the lithographic printing plate precursor is developed, and simultaneously protection processing for forming a surface protective film is performed, and a polarizing rubber roller is used as a development squeeze roller for squeezing the liquid developer adhering to the developed lithographic printing plate precursor.例文帳に追加
平版印刷版原版を現像液に浸漬させ、平版印刷版原版の画像記録層を現像処理するとともに表面保護膜を形成する保護処理を同時に行い、現像処理された平版印刷版原版に付着した現像液を絞る現像絞りローラとして極性ゴムローラを用いる。 - 特許庁
The method of manufacturing the solar cell module 100 includes the processes of: forming a pair of a first notch 21 and a second notch 22 in the rear-side protective material 14; respectively opening a pair of movable parts 14P; and performing insulation processing for a metal layer 14b exposed on the respective surfaces of the pair of movable parts 14P.例文帳に追加
太陽電池モジュール100の製造方法は、裏面側保護材14に一対の第1切り込み21と第2切り込み22とを形成する工程と、一対の可動部14Pそれぞれを開く工程と、一対の可動部14Pそれぞれの表面に露出する金属層14bに絶縁加工を施す工程とを備える。 - 特許庁
To provide a protective sheet for a solar cell improved in barrier property and high-temperature and high-humidity resistance properties while achieving stable processing of an overcoat layer prohibiting barrier deterioration and stabilization in laminating two or more layers, without causing contamination in a barrier application process, and to provide a solar cell module using the same.例文帳に追加
バリア付与加工時に異物等の付着もなく、バリア劣化を防止するオーバーコート層の安定加工及び2層以上のラミネート時の安定化を実現し、さらなるバリア性向上および高温高湿耐性の向上を可能とする太陽電池用保護シート、並びにこれを用いた太陽電池モジュールを提供する。 - 特許庁
To provide an original sheet for a heat-sensitive lithographic printing plate which can be directly mounted on a printing machine to perform printing without performing development processing after exposure and is hardly stained and exhibits excellent wear resistance and in which abrasion ( scattering) of the hydrophilic layer is suppressed and a device for exposure to light and a light source are less stained.例文帳に追加
露光後、現像処理を行うことなく直接印刷機に装着して印刷することが可能であり、印刷での汚れ難さ及び耐刷性に優れ、しかもレーザー露光時、親水層のアブレーション(飛散)が抑えられ、露光装置や光源の汚染が少ない感熱性平版印刷版用原板を提供する。 - 特許庁
A nucleation layer is then deposited on the substrate surface in the same processing chamber by alternately pulsing a tungsten-containing compound (130) and a reducing gas (150) selected from the group consisting of silane (SiH_4), disilane (Si_2H_6), dichlorosilane (SiCl_2H_2), derivatives thereof and combinations thereof.例文帳に追加
交互にタングステン含有化合物(130)と、シラン(SiH_4)、ジシラン(Si_2H_6)、ジクロルシラン(SiCl_2H_2)、その誘導体、更に、これらの組合せから成る群から選択された還元性ガス(150)を律動的に送ることにより、その後、核形成層が同一の処理チャンバ内の基板表面上に堆積される。 - 特許庁
After a resist mask for the injection of impurities into the lower electrode 38 is peeled by plasma ashing, dilute hydrofluoric acid processing for removing a damage layer formed in the surface of a 1st insulating film 41 is carried out and then a gate insulating film part 43 in the 1st insulating film 41 has no damage, so the thin film transistor 23 has no characteristic deterioration.例文帳に追加
下部電極38への不純物の注入の際のレジストマスクをプラズマアッシングして剥離した後に、第1の絶縁膜41の表面に入ったダメージ層を除去する希フッ酸処理をすることにより、第1の絶縁膜41中のゲート絶縁膜部43にダメージがないため薄膜トランジスタ23の特性劣化は発生しない。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor package which can reduce difference in thermal contraction of photosensitive insulation resin on both sides of a metallization layer, significantly reduce warpage on a semiconductor package substrate, and lead to substantial cost reduction by the benefit of bulk processing of both sides, and to provide a substrate for a semiconductor package, a semiconductor package, and an electronic apparatus.例文帳に追加
金属層両面の感光性絶縁樹脂の熱収縮差を軽減し、半導体パッケージ基板の反りを大幅に軽減することを可能とし、両面一括加工のために大幅なコスト削減にも繋がる半導体パッケージの製造方法、半導体パッケージ用基板、半導体パッケージ及び電子機器を提供する。 - 特許庁
A controller chip 12 for receiving a command from the outside and performing processing corresponding to the command, a memory chip connected to the controller chip 12 to store data and an IC card function chip connected to the controller chip 12 to process security data are layered on a substrate, and the IC card function chip is arranged at a position other than the lowest layer.例文帳に追加
外部からコマンドを受け、このコマンドに応じた処理を行うコントローラチップ12と、コントローラチップ12に接続され、データを記憶するメモリチップと、コントローラチップ12に接続され、セキュリティデータを処理するICカード機能チップとが基板上に積層され、ICカード機能チップは最下層以外の位置に配置されている。 - 特許庁
As to a wafer W, of which a rear face is stuck on a wafer sheet S having an adhesive layer on one side, and which is mounted on a ring-shaped rigid fame F, the wafer sheet S is expanded to widen a space between each chip T in a dicing apparatus just after dicing processing, and the wafer W is transferred while the condition is held.例文帳に追加
片面に粘着層が形成されたウェーハシートSに裏面を貼り付けられ、剛性のあるリング状のフレームFにマウントされたウェーハWを、ダイシング加工直後にダイシング装置内で、ウェーハシートSをエキスパンドして個々のチップT間の間隔を広げ、その状態を保持したままウェーハWを搬送するようにした。 - 特許庁
The perform for a photonic crystal optical fiber comprises: forming a plurality of fitting grooves 5 by grinding processing along each longitudinal direction in the external surrounding of a crystal glass rod 3 provided with a core 2 at the shaft center; accommodating a glass tube 6 having a small diameter in each fitting groove; forming a clad layer 4 by accumulating a glass material on the surrounding of the crystal glass rod.例文帳に追加
軸心部にコア2を有する石英ガラスロッド3の外周面にその外側から長手方向に沿って研削加工して複数の嵌合溝5を形成し、それら各嵌合溝5内に細径ガラス管6を収容し、その石英ガラスロッドの周囲にガラス材料を堆積させてクラッド層4を形成する。 - 特許庁
To provide a resist underlayer film material for a multilayer resist process, particularly for a two-layer resist process, which functions as an excellent antireflection film particularly for exposure at a short wavelength, that is, has high transparency and the optimum n and k values and is excellent also in etching resistance during substrate processing.例文帳に追加
多層レジストプロセス用、特には2層レジストプロセス用のレジスト下層膜材料であって、特に短波長の露光に対して、優れた反射防止膜として機能し、すなわち透明性が高く、最適なn値、k値を有し、しかも基板加工におけるエッチング耐性に優れたレジスト下層膜材料を提供する。 - 特許庁
By this method, the metal body of the three-dimensional shape can be easily manufactured by transferring a mold to a thermoplastic resin layer by the thermal imprinting, an easier processing method than photolithography, and forming the metal body on the resin transferred to the shape of the mold by plating.例文帳に追加
本発明の金属体の製造方法によれば、フォトリソグラフィーと比較して容易な加工方法である熱インプリントで型を熱可塑性樹脂層に転写させ、その型の形状に転写された樹脂の上にめっきよって金属体を形成することで3次元形状の金属体を容易に作成できる。 - 特許庁
This physical layer circuit includes: a VBUS detection circuit 100 activating a VBUS detection signal VBDET when a VBUS voltage exceeds a prescribed voltage; a reception circuit 30 performing reception processing by use of signals DP, DM; and a reception control circuit 110 outputting an enable signal to the reception circuit 30.例文帳に追加
物理層回路は、VBUS電圧が所定電圧を超えた場合にVBUS検出信号VBDETをアクティブにするVBUS検出回路100と、信号DP、DMを用いた受信処理を行う受信回路30と、受信回路30にイネーブル信号を出力する受信制御回路110を含む。 - 特許庁
Disclosed is the method for manufacturing the field-effect semiconductor device which includes a stage of changing the physical or chemical state of the carbon nanotubes by performing plasma processing for the carbon nanotubes when the field-effect semiconductor such as a field-effect transistor 6 using carbon nanotubes for the channel layer 5 is manufactured.例文帳に追加
カーボンナノチューブをチャネル層5に用いた電界効果トランジスタ6等の電界効果半導体装置を製造するに際し、前記カーボンナノチューブに対してプラズマ処理を行うことによって前記カーボンナノチューブの物理的又は化学的状態を変化させる工程を有する、電界効果半導体装置の製造方法。 - 特許庁
To provide a material with high etching selection rate and etching speed against resist, a pattern formation method providing an antireflection film layer on a base plate using the material and a pattern formation method using the antireflection film as a hard mask on the base plate processing.例文帳に追加
レジストに対してエッチング選択比が高い、即ちレジストに対してエッチングスピードが速い反射防止膜の材料を提供し、且つこの反射防止膜材料を用いて基板上に反射防止膜層を形成するパターン形成方法及び、この反射防止膜を基盤加工のハードマスクとして用いるパターン形成方法も提供する。 - 特許庁
The organic electroluminescence element is fabricated through such procedures that a transparent metal oxide film consisting of indium-tin oxide is laminated on a glass base board and that the metal oxide is subjected to a plasma surface processing using oxygen where the fluorine content is below 1 wt.%, and thereby an anode layer 10 is formed.例文帳に追加
ガラス基板上にインジウム錫酸化物から成る透明性金属酸化物膜を積層した後に、この金属酸化物に対してフッ素含有量を1重量%以下とする酸素を用いたプラズマ表面処理を施して形成した陽極層10を用いて有機エレクトロルミネッセンス素子を作製する。 - 特許庁
The adhesive sheet for processing a semiconductor substrate comprises a resin film substrate material containing 100 pts.wt. of polypropylene and 1-100 pts.wt. of a boron polymer as an antistatic agent and an adhesive layer containing a base polymer, an irradiation-induced polymerizable compound and an irradiation-induced polymerization initiator, and other resin film may also be incorporated.例文帳に追加
ポリプロピレン100重量部に対して、ボロン系ポリマー帯電防止剤1〜100重量部添加した樹脂フィルム基材、およびベースポリマーと放射線重合性化合物と放射線重合性重合開始剤とからなる粘着剤層からなる半導体基板加工用粘着シートであり、他の樹脂フィルムが加わってもよい。 - 特許庁
To provide a conductive pattern manufacturing method which does not visibly recognize a conductive pattern even if a width of an insulation processing region is widened by partly insulating a transparent conductive layer when the conductive pattern is formed and which is capable of obtaining a conductive pattern having stable electric performance by surely insulating an insulating part.例文帳に追加
透明な導電層を部分的に絶縁化して導電パターンを形成する際に絶縁化処理の領域の幅を広くしても、導電パターンが視認されず、また、絶縁部を確実に絶縁させて安定した電気的性能を有する導電パターンを得ることができる導電パターンの製造方法を提供する。 - 特許庁
The solid processing agent is a core/shell type one consisting of a core particle and a plurality of shell layers covering the core particle, wherein at least two layers of the plurality of shell layers have the same composition and at least one layer is disposed in such a way that it comes in direct contact with the core particle.例文帳に追加
コア粒子と該コア粒子を覆う複数のシェル層から構成されるコア/シェル型の固体処理剤であって、該複数のシェル層の少なくとも2層は同一組成を有していてかつその1層は該コア粒子と直接接するように配されていることを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料用固体処理剤。 - 特許庁
To provide a method of manufacturing a multilayer printed wiring board, wherein laser processing can be carried out without controlling the laser energy depending on whether an inner wiring pattern is present or not, and without causing a penetration failure to an outer metal foil which serves as a power feeder layer for electrolytic plating when a through-hole filled with metal is provided on a multilayer printed wiring board.例文帳に追加
多層プリント配線板に金属が充填されたスルーホールを形成する際に、内層配線パターンの有無によるレーザエネルギーのコントロールを不要にし、且つ、電解めっきの給電層となる外層金属箔の貫通不良の懸念のないレーザ加工を可能とした多層プリント配線板の製造方法の提供。 - 特許庁
The spout container 10 includes: a container body 7 formed by processing the laminated film 5 for the spout container into a bag shape, with the sealant layer 2 inside; and a spout 8 having a channel, by which the inside and outside of the container body 7 communicate with, and attached to a peripheral part of the container body 7.例文帳に追加
本発明に係るスパウト容器10は、シーラント層2を内側にしてスパウト容器用積層フィルム5を袋状に加工してなる容器本体部7と、この容器本体部7の内側と外側とを連通する流路を有し、容器本体部7の周縁部に取り付けられたスパウト8とを備える。 - 特許庁
To provide a pressure-sensitive adhesive sheet which excels in the adhesion between a base material and a pressure-sensitive adhesive layer and the adhesion to an adherend, is easy in reapplying the adherend, can perform high precision processing of the adherend, and enables easy release without causing staining due to the remaining adhesive on the adherend after completion of the conversion.例文帳に追加
基材と粘着剤層との密着性、及び被着体との密着性に優れ、被着体の貼り直しが容易であるとともに、被着体について高精度の加工を行うことができ、かつ、加工完了後は、被着体に糊残り等による汚染を生ずることなく容易に剥離可能な粘着シートを提供する。 - 特許庁
To provide a copper foil for a printed wiring board that achieves improvement in bonding strength for a surface of an insulating base made of an organic material by optimizing the amount of silane sticking on a surface of a copper foil subjected to silane coupling processing or a surface of a metal corrosion prevention layer thereupon, and to provide a method of manufacturing the same.例文帳に追加
シランカップリング処理による銅箔の表面またはその上の金属防錆層の表面へのシランの付着量を適正化して、有機材料からなる絶縁性基材の表面との接合強度の向上を達成したプリント配線板用銅箔およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
A waterproof processing method comprises coating the outermost layer with one pack polyurethane waterproofer composition containing isocyanate group terminal polyurethane prepolymer obtained by allowing polyol containing polyoxyalkylpolyol to react with non-yellowing polyisocynate as a hardening component at a coated quantity of 0.5 to 3.0 kg/m^2, and a top coat that is a protective finish material is not coated.例文帳に追加
最表層に、ポリオキシアルキレンポリオールを含むポリオールと無黄変系ポリイソシアネートとを反応させて得られるイソシアネート基末端ポリウレタンプレポリマーを硬化成分として含有する一液型ポリウレタン防水材組成物を塗布量0.5〜3.0kg/m^2で塗工し、保護仕上げ材となるトップコートを塗布しない。 - 特許庁
Furthermore, the present invention relates to a micro-optical element manufacturing method characterized in including a surface light emission laser production step of producing a surface light emission layer by performing step formation processing to form the plurality of steps on the substrate, and a lens formation step of integrally forming the lens over all the top face of each of the steps.例文帳に追加
また、基板上に複数の段差部を形成する段差部形成処理を行い、面発光レーザを作製する面発光レーザ作製工程と、それぞれの前記段差部の頂上面の全面にレンズを一体的に形成するレンズ形成工程とを含むことを特徴とする微小光学素子の製造方法である。 - 特許庁
A polyester cloth is impregnated with a processing liquid containing (A) a water-soluble urethane resin having ≥2 reactive vinyl groups and (B) a hydrophilic polyalkylene-added vinyl monomer, and the cloth is heat-treated with steam to form a highly durable hydrophilic coating film on the surface layer of the polyester cloth and achieve the hydrophilization treatment of the polyester cloth.例文帳に追加
少なくとも2個以上の反応性ビニル基を有する水溶性ウレタン樹脂(A)とポリアルキレン付加型ビニル系親水モノマー(B)を含む加工液を含浸後、蒸熱処理することでポリエステル系布帛表面層に耐久性に優れた親水性皮膜を形成するポリエステル系布帛の親水加工方法。 - 特許庁
The electrode contact member of the vacuum circuit breaker comprises the Cu-Cr alloy base metal 1 containing 40-80 wt.% of Cu and 20-60 wt.% of Cr, and the Cr fine dispersion layer 2 of 500 μm to 3 mm in thickness formed on the surface of the base metal 1 through surface treatment by friction stir processing.例文帳に追加
真空遮断器の電極接点部材は、Cuの含有量が40〜80重量%とCrの含有量が20から60重量%とを含むCu−Cr合金母材1の表面に、摩擦攪拌による表面処理で形成した厚さ500μm〜3mmのCr微細分散層2を形成する。 - 特許庁
Ion impurities are injected using the resist film 107 formed on a glass substrate 100 as a mask, and processing using a flame of a gas burner consuming a mixed gas of hydrogen and oxygen as a fuel is executed in eliminating the resist film 107 having the altered layer 107a formed thereon, thereby eliminating the resist film 107.例文帳に追加
ガラス基板100上に形成されたレジスト膜107をマスクに不純物イオンを注入し、変質層107aが形成されたレジスト膜107を除去する際、水素及び酸素の混合ガスを燃料とするガスバーナーの火炎を熱源とした処理を施すことにより、レジスト膜107を除去する。 - 特許庁
The substrate 10 for LED chip fixation is obtained by forming a recess 14 for storing an LED chip 20 on one surface of a metal plate 11 through sheet metal processing and then forming a high-reflection coating 12 including a metal reflecting layer on the one surface of the metal plate 11 including at least a surface of the recess.例文帳に追加
LEDチップ固定用基板10は、金属板11の一方の面にLEDチップ20を収納するための凹部14を板金加工により形成した後、少なくとも該凹部の表面を含む金属板11の一方の面上にメタル反射層を含む高反射コーティング12を形成して得られる。 - 特許庁
In the projection display apparatus by three-plate processing, ITO (indium tin oxide) having ≤2,000 cm^-1 absorbance for light at 410 nm wavelength is used for a pixel electrode 9a formed at a lower layer of an alignment film 16 of a liquid crystal apparatus 961B which modulates at least blue light.例文帳に追加
3板方式からなる投射型表示装置にあって、少なくとも青色を光変調する液晶装置961Bの配向膜16の下層に位置して形成される画素電極9aに、波長410nmの光に対する光吸収係数が2000cm^-1以下のITOが用いられることを特徴とする。 - 特許庁
To provide a fabric for ink jet printing, which does not drop an ink-receiving layer formed on the fabric by its preliminary treatment by vibrations caused by the expansion or contraction of the fabric, the conveyance of the fabric, or the like, can give a printed fabric having an excellent quality, and is excellent in processing stability.例文帳に追加
インクジェット捺染加工中、前処理にて布帛に形成したインク受容層が、布帛の伸び縮みや搬送などによる振動により布帛から脱落することが無いようにすることによって、優れた品質の捺染物を提供することができる加工安定性に優れたインクジェット捺染用布帛を提供する。 - 特許庁
A helical antenna 50 includes a metal plate 54 arranged at the lower end of a helical element 52, a feeding conductor which is electrically connected to a signal processing circuit inside a terminal device at least when an antenna device is inserted into a portable communication terminal device and an insulation layer 56 arranged between the metal plate and the feeding conductor.例文帳に追加
ヘリカルアンテナ50は、ヘリカル素子52の下端に配置されている金属板54と、少なくともアンテナ装置が携帯通信端末器に挿入された時に端末器の内部の信号処理回路に電気的に連結される給電導体と、金属板と給電導体との間に配置される絶縁層56とを含む。 - 特許庁
In the image forming method, an exposed silver halide photographic sensitive material with a silver halide emulsion layer and a processing member containing a developing agent and/or its precursor and a base and/or its precursor are overlapped, and development is carried out to form an image in the silver halide photographic sensitive material.例文帳に追加
ハロゲン化銀乳剤層を有し露光済であるハロゲン化銀写真感光材料と、現像主薬及び/又は現像主薬プレカーサと塩基及び/又は塩基プレカーサとを含有する処理部材と、を重ね合わせて現像を行い、前記ハロゲン化銀写真感光材料に画像を形成させる画像形成方法である。 - 特許庁
An 'application management' object 40, a 'function management' object 50 and a 'database management' object 60 for integrally managing these objects 41 to 43, 51 to 56, 61, 62 in each layer are arranged on optional computers out of the computers 10a to 10c and various processing for the OCR is dispersely executed by mutual connection among respective management objects.例文帳に追加
また、これらのオブジェクトを各層毎に統括的に管理する「アプリケーション管理」オブジェクト40、「機能管理」オブジェクト50、「データベース管理」オブジェクト60を各計算機10a〜10cの任意の計算機に配置して、OCRに関する各種の処理を各管理オブジェクト間の相互連絡により分散して行う。 - 特許庁
The semiconductor device is such that a bump electrode 6 is formed by plating processing on the top face of the electrode pad 4, below which a semiconductor element and an interconnection are formed, and an insulating layer 3a is formed, at a location where deposition of plating does not occur, such as a scribe line 10 and the edge of a chip for eliminating deposition of plating at these places.例文帳に追加
この発明は、下方に半導体素子や配線が設けられた電極パッド4の上面にメッキ処理でバンプ電極6を設けた半導体装置であって、チップのエッジまたはスクライブライン10に絶縁層3aが設けられ、当該箇所にメッキの析出を無くしたことを特徴とする。 - 特許庁
To solve a problem that a time required for logical interfaces to be usable increases in proportion to number of physical interfaces because the logical interface at a higher-order layer implements initializing and its related processing after awaiting a usable state of the physical interfaces in subordinate layers of the logical interface in a communication apparatus employing a hierarchical communication protocol.例文帳に追加
階層化通信プロトコルを用いた通信装置において,上位層に位置する論理インタフェースはその下位に位置する物理インタフェースの使用可能状態を待ってから初期化及び関連する処理を行うため,論理インタフェースが使用可能になるまでにかかる時間は,物理インタフェースに比例して増大する。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a semiconductor device for electric power by which a stabilized solder layer thickness can be realized without producing cavities such as void, etc., the durability be improved, no plating or solder resist processing is needed so as to reduce the produciton cost, and no cleaning step using an organic solvent, etc., is needed.例文帳に追加
ボイド等の空洞が発生せずに安定したハンダ層厚が得られ、耐久性の向上が図れると共に、メッキ処理やハンダレジスト処理を不要とし、生産コスト低減が図れ、さらには有機溶剤等による洗浄工程も不要とした電力用半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁
To realize desired assignment states intended by a user no matter which layer data are changed, in an acoustic signal processing apparatus capable of changing assignment of ch to a plurality of ch strips of a ch strip portion by arranging data specifying the ch for assignment in a plurality of layers.例文帳に追加
複数階層のレイヤに、割り当てるchを規定するデータを配置することで、chストリップ部の複数chストリップへのchの割り当てを変更できる音響信号処理装置において、どの階層のレイヤのデータを変更したとしても、ユーザが意図する所望の割り当て状態が実現できるようにすることを目的とする。 - 特許庁
To provide a light guide body manufacturing method capable of improving adhesion between a reflection preventing layer to which reflection preventing processing is applied and a base material and preventing the generation of micro-cracks in a light guide body 1, and to provide the light guide body 1 manufactured by the method and a face illumination device and a display device having high reliability and a long life.例文帳に追加
反射防止処理を行った反射防止層と基材の密着性をアップさせ、導光体1のマイクロクラック発生を防止する導光体1の製造方法、その製造方法によって製造された導光体1、信頼性の高く寿命が長い面照明装置および表示装置を提供する。 - 特許庁
Then, similarly in succeeding actual execution work, the penetration depth and a penetration speed of the ground improvement processing machine, a suspension load value and load current value or a load torque value of the electric motor are measured to respectively monitor whether or not the measured values satisfy a specific condition, and when either one condition is satisfied, it is judged as being landed on a support layer.例文帳に追加
続く実施工でも同じく地盤改良処理機の貫入深度、貫入速度、吊り荷重値、電動機の負荷電流値又は負荷トルク値を測定し、その測定値が一定の条件を満たすか否かをそれぞれ監視し、いずれか一の条件が満たされると支持層へ着底したと判定する。 - 特許庁
To provide a deep layer mixing processing method for a sand based ground capable of forming a low strength soil cement hardened body securing the mixability and workability with the in-situ ground so as to be suitable for the purpose for preventing the sand-based ground from being liquefied and securing uniformity and continuity of the quality by making use of crushed powder of concrete.例文帳に追加
砂質系地盤における液状化防止の目的に適するように、原地盤との混合性と施工性を確保し、品質の均一性と連続性を確立した低強度のソイルセメント固化体を、コンクリート破砕微粉を活用して構築できる砂質系地盤用深層混合処理工法を提供している。 - 特許庁
Bond optimal to the one liquid-type epoxy adhesive is obtained by performing NAT processing in which surfaces of various kinds of metals (1) have the roughness of micron orders, and (2) are covered with ultrafine unevenness of several tennanometer orders, and (3) formed of a metal oxide or a metal phosphorus oxide layer which are environmentally stable.例文帳に追加
各種金属合金の表面が(1)ミクロンオーダーの粗度を有し、(2)数十ナノメートルオーダーの超微細凹凸で覆うようにし、(3)環境的に安定な金属酸化物または金属リン酸化物薄層で形成されるようにしたNAT処理を行うことにより1液性エポキシ接着剤に対して最適な被着材にする。 - 特許庁
The nucleation layer can be deposited by using a first process gas which contains tungsten hexafluoride, silane, molecular hydrogen and argon and has a flow ratio of molecular hydrogen to argon of about 1.5:1 and also a partial pressure of tungsten hexafluoride of 0.5 Torr or below and allowing the first process gas to flow into the substrate processing chamber.例文帳に追加
核生成層は、六フッ化タングステン、シラン、分子水素およびアルゴンを含みアルゴンに対する分子水素の流量比が約1.5:1であり、また六フッ化タングステンの分圧が0.5トルに等しいかまったはそれ以下である第1の処理ガスを、前記基板処理チャンバ中へ流すことによって堆積される。 - 特許庁
A cleaning section 40 is provided in an image rewriting unit comprising an erasing section 11 or a recording section 17 where a thermal recording medium 100 having a reversible recording layer 102 varying the state reversibly is subjected to erasing or recording processing by touching a heat roller 12 or a thermal head 18 thereto.例文帳に追加
可逆的に状態が変化する可逆記録層102を有する感熱記録媒体100に対して、ヒートローラ12又はサーマルヘッド18を接触させて消去処理又は記録処理を行う消去部11又は記録部17を有する画像書換装置等に、クリーニング部40が設けられている。 - 特許庁
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