「processing layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(62ページ目) - Weblio英語例文検索

This method for forming the glare shielding layer is characterized by arranging a substrate between opposite electrodes, applying a high-frequency voltage at ≥100 and <150 Hz frequency across the electrodes, generating a discharge plasma and carrying out the glare shielding processing of the substrate surface.例文帳に追加

対向する電極間に基材を配置し、大気圧または大気圧近傍の圧力で、該電極間に１００ｋＨｚ以上１５０ＭＨｚ未満の周波数を有する高周波電圧を印加して放電プラズマを発生させ、該基材表面に防眩加工を施すことを特徴とする防眩層の形成方法。 - 特許庁

The logical format management module 21 refers to a bit map memory 34 corresponding to a disk access request from a host, judges whether or not the entire access area is already formatted, requests disk access to the low-order layer module 22 in the case of judging that it is already formatted, and issues a logical format processing request when it is not formatted yet.例文帳に追加

論理フォーマット管理モジュール２１は、ホストからのデイスクアクセス要求に応じて、ビットマップメモリ３４を参照し、当該アクセス領域全てが、フォーマット済かを判定し、フォーマット済と判断した場合に、下位層モジュール２２にデイスクアクセスを要求し、フォーマット済でなければ、論理フォーマット処理要求を発行する。 - 特許庁

The copper foil for laser perforation processing is characterized in that a surface layer, which comprises a metal or alloy with an electric resistivity at a room temperature of 50n Ωm, a melting point of 2855 K or lower and a boiling point of 2855 K or higher or both of them, is formed on the surface on laser irradiation side of a copper foil.例文帳に追加

銅箔のレーザ照射側の表面に、室温での電気抵抗率が50n Ωm 以上であって、融点が2855K 以下であり、且つ沸点が2855K 以上である金属または合金の何れか若しくは両方からなる表面層が形成されていることを特徴とするレーザ穴あけ加工用銅箔である。 - 特許庁

To provide an exhaust emission control device, in which a black smoke eliminating filter and a catalyst layer are arranged, in a series in a processing pack, which can suppress the pressure loss of backwash filter air and improve the backwash capability of the black smoke eliminating filter without increasing capacity of a backwash air supply equipment.例文帳に追加

処理パック内に黒煙除去フィルタ及び触媒層を直列に配設してなる排ガス浄化装置において、逆洗空気の圧力損失を抑制して、逆洗空気供給設備の容量を増大することなく黒煙除去フィルタの逆洗能力を向上せしめ得る排ガス浄化装置を提供する。 - 特許庁

Even in a computer different in ability (plotting processing operation speed of a screen is slow), time used for the display of a prescribed operation is previously set in a scenario for displaying a picture following the scenario in same time and a control layer 13a controls the update of the screen so that the operation is completed within setting time.例文帳に追加

性能の異なる（画面の描画処理動作速度の遅い）計算機であっても同じ時間でシナリオに従った画像を表示させるために、シナリオにおいて予め、ある動作の表示に用いる時間を設定しておき、制御層１３ａにより、この設定時間内で動作が完了するように、画面の更新を制御する。 - 特許庁

This method for processing a raw meat is characterized in that a raw meat in a forming pipe 2 is preheated to a protein denaturation temperature or lower than it by Joule heating based on turning on electricity to the raw meat and the protein denaturation layer is formed at the surface of the raw meat by microwave heating to provide the raw meat with shape retention.例文帳に追加

成形管２内の原料食肉類を該原料食肉類への通電に基づくジュール加熱によって蛋白変成温度以下の温度まで予備加熱した後、マイクロ波加熱によって原料食肉類の表面側に蛋白変成層を形成して保形性を付与することを特徴とする。 - 特許庁

In such a state of a standby mode that a power supply is not supplied to the content processing part 600, the home server 400 authenticates the remote operation apparatus 100 and instructs power supply based on a power supply request from the authenticated remote operation apparatus 100 by using a communication protocol whose rank is higher than that of a network layer.例文帳に追加

このホームサーバー４００は、コンテンツ処理部６００に電源が供給されていない待機モードの状態で、ネットワークアクセス層より上位の通信プロトコルを用いて、遠隔操作機器１００の認証と、認証された遠隔操作機器１００からの電源投入要求に基づいた電源投入指示とを行う。 - 特許庁

When an image region on the fundus image Ef' displayed on a display part 240A is specified by an operational part 240B, an image processing part 230 forms a tomographic image G corresponding to the image region based on the tomographic image Gi and obtains the position of a prescribed layer of a fundus Ef in the tomographic image G.例文帳に追加

画像処理部２３０は、表示部２４０Ａに表示された眼底画像Ｅｆ′上の画像領域が操作部２４０Ｂにて指定されたときに、断層画像Ｇｉに基づいて当該画像領域に対応する断層画像Ｇを形成し、この断層画像Ｇにおける眼底Ｅｆの所定の層の位置を求める。 - 特許庁

Upon the receipt of an IP address allocation request from the layer 2 processing section 45, a DHCP server function section 41 confirms a VLAN or the LAN interface sections 46-1 to 46-n, and allocates the IP address to each of the VLAN or the LAN interface sections 46-1 to 46-n according to the number of allocated addresses set to an address management database 42.例文帳に追加

ＤＨＣＰサーバ機能部４１はレイヤ２処理部４５からＩＰアドレス割り当て要求を受信すると、ＶＬＡＮまたはＬＡＮインタフェース部４６−１〜４６−ｎを確認し、ＶＬＡＮまたはＬＡＮインタフェース部４６−１〜４６−ｎ毎にアドレス管理データベース４２に設定された割り当て個数にしたがってＩＰアドレスを割り当てる。 - 特許庁

In this configuration, the thickness of the resin layer is set to be ≥40 μm, When a limit peeling temperature obtained by performing a predetermined peeling test is defined as Tr(°C) and the temperature of the fixing roller when fixing processing is executed is defined as Tc (°C), Tr≥Tc+60 or Tr≥Tc+75 is satisfied.例文帳に追加

この構成において、樹脂層の厚みを４０μｍ以上にし、所定のピーリング試験を行うことによって得られる限界剥離温度をＴｒ（℃）、定着処理が実行される時の上記定着ローラの温度をＴｃ（℃）とする場合、Ｔｒ≧Ｔｃ＋６０またはＴｒ≧Ｔｃ＋７５が満たされる。 - 特許庁

In the processing method in which a planographic printing plate having at least a silver halide emulsion layer on an anodically oxidized aluminum substrate and utilizing a silver complex salt diffusion transfer process is subjected to at least development after exposure, a developing solution used contains an alkaline earth metal and glycerol or polyglycerol.例文帳に追加

陽極酸化されたアルミニウム支持体に少なくともハロゲン化銀乳剤層を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版を露光後少なくとも現像処理する方法において、該現像液がアルカリ土類金属と、グリセリンまたはポリグリセロールを含有することを特徴とする平版印刷版の現像処理方法。 - 特許庁

To provide a multilayer printed circuit board, capable of preventing occurrences of cracks or the like in the board or an interlayer resin insulating layer, when an optical waveguide to be incorporated in the multilayer printed circuit board, or particularly, when an optical path conversion mirror is formed by using mechanical processing or the like and having superior connection reliability of light signals.例文帳に追加

多層プリント配線板に内蔵される光導波路を形成する際、特に、機械加工等を用いて光路変換ミラーを形成する際に、基板や層間樹脂絶縁層にクラック等が発生することを防止することができ、また、光信号の接続信頼性に優れた多層プリント配線板を提供すること。 - 特許庁

In a liquid crystal display device of a vertical alignment mode, a liquid crystal layer 25 having negative dielectric anisotropy is held between a pair of substrates 13 and 14, vertical alignment processing is applied to the surface of each of substrates 13 and 14, and a plurality of pixel electrodes 1 are provided on the TFT array substrate 13.例文帳に追加

本発明の液晶装置は、一対の基板１３，１４間に誘電異方性が負の液晶層２５が挟持されるとともに各基板１３，１４の表面に垂直配向処理が施され、ＴＦＴアレイ基板１３上に複数の画素電極１が設けられた垂直配向モードの液晶装置である。 - 特許庁

To provide a heat fixing member, which can make lower the probability that toner fixation and wear due to a separation claw are induced when the member is mounted on an actual machine, and its manufacturing method by introducing a parameter for regulating the waveform shape of a roughness curve and making clear the standards of processing of a release layer surface.例文帳に追加

粗さ曲線の波形形状を規制するパラメータを導入して、離型層表面を加工するときの管理基準を明確にし、実機搭載時にトナー固着や分離爪による摩耗を誘発する確率を従来よりも低くし得る加熱定着部材及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

There is provided a plant processing method using a UV curable gel, wherein a first gel of low viscosity is coated on the surface of a plant substrate to form a comparatively thin coated film of the first gel, irradiating UV to completely cure the coated film of the first gel to form the first coating layer of smooth surface.例文帳に追加

紫外線硬化型ジェルを使用する植物の加工方法であり、粘性の低い第１のジェルを植物基材の表面に塗布して、第１のジェルの比較的薄い塗膜を形成し、紫外線照射して第１のジェルの塗膜を完全に硬化させて、表面が滑らかな第１のコーティング層を形成する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing an electromagnetic wave shield film, in which a continuous metal pattern is formed on a belt-like base by using a photosensitive material having a photosensitive layer on the belt-like base, by performing exposure through a mask having a predetermined pattern while lowering power consumption, and by performing development processing; and to provide an electromagnetic wave shield film.例文帳に追加

帯状支持体の上に感光性層を有する感光材料を使用し、消費電力を低くし、所定のパターンを有するマスクを介して露光し、現像処理を経て、帯状支持体の上に連続した金属パターンを形成する電磁波遮蔽フィルムの製造方法及び電磁波遮蔽フィルムの提供。 - 特許庁

To provide an excellent polyester film having satisfactory optical characteristics for use as a substrate of an antireflection film, excellent also in handleability, lubricity and windability after both side processing, and capable of preventing deterioration due to scratching and peeling of a functional layer even in the absence of a protective film or the like.例文帳に追加

反射防止膜の基材として使用するのに十分な光学特性を有し、かつポリエステルフィルムの両面加工後の取り扱い性、滑り性、巻き取り性にも優れ、保護フィルム等の存在がなくてもキズ、機能層の剥がれの発生等による品質低下を防止できる優れたポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

The adhesive sheet for processing a semiconductor substrate is obtained by applying an adhesive consisting of a base polymer, a radiation polymerizable compound and a radiation polymerization initiator on a surface of a resin film base material prepared by adding 1-80 pts.wt. of a polymer-type antistatic agent to 100 pts.wt. of polypropylene to form an adhesive layer.例文帳に追加

ポリプロピレン１００重量部に対して、高分子型帯電防止剤を１〜８０重量部添加した樹脂フィルム基材面上に、ベースポリマーと放射線重合性化合物と放射線重合性重合開始剤とからなる粘着剤を塗布し、粘着剤層を形成してなる半導体基板加工用粘着シート。 - 特許庁

To constitute a fluid impermeable metallic layer with such advantages that its fluid impermeability is extremely high and can be formed with an extremely small and uniform thickness without pinholes and further, the problem of a residual stress in processing, even when a bend-shaped part or a bellows- shaped part is provided in a hose, in a fluid conveyance hose.例文帳に追加

流体輸送ホースにおいて、流体不透過性が極めて高度であり、しかもピンホールを伴わずに極めて薄く均一な厚さに形成でき、かつホースに曲がり管形状部又は蛇腹管形状部を備える場合にも加工上の残留応力の問題を伴わない流体不透過金属層を構成すること。 - 特許庁

When an opening method by a laser processing technique is used, the water-repellent layer 11 is formed by substituting the hydrogen atom on the wall face of the opening part 10 and the surface of the plastic material part for fluorine atom to realize an excellent release property for the printing materials on the side to be in direct contact with a matter to be printed.例文帳に追加

またレーザー加工技術による開口法を用いた場合には、プラスチック材料部の開口部１０壁面及び表面の水素原子をフッ素原子に置換することにより撥水性層１１を形成し、直接被印刷物に接する側での印刷材料に対する良好な抜け性を実現する。 - 特許庁

The optimum distance in light measuring processing relating to a subject is obtained based on the cuticle information of a measured subject and an optimum transmit/receive distance table defining the optimum distance for measuring light whose optical path length of a corium layer and route are always constant in different wavelengths by each cuticle information.例文帳に追加

計測対象となる被検体の表皮情報と、異なる波長において真皮層の行路長や経路が常に一定にされた光を計測するための最適距離を表皮情報毎に定義する最適送受光距離テーブルとに基づいて、当該被検体に関する光計測処理における最適距離を取得する。 - 特許庁

To provide an image protecting film which enables smooth performance of thermal transfer processing, which imparts good protective properties to an image surface and which eliminates the fear that inconvenience, such as set-off and blocking, may be caused by the formation of a protective layer, and an image protecting method and overcoated recorded matter, using the image protecting film.例文帳に追加

熱転写処理をスムーズに行うことができ、且つ画像面に対し良好な保護特性を付与すると共に、裏写りやブロッキングなどの保護層形成に起因する不都合が生じるおそれのない画像保護フィルム、並びにこれを用いた画像保護方法及びオーバーコート記録物を提供すること。 - 特許庁

Since the vulcanized article obtained from the fluorine rubber composition exhibits excellent effects such as heat conductivity, heat resistance, durability, mold-processing (non-adhesive) property, etc., in a good balance, the rubber layer singly can be used as the cushioning material for the press-molding effectively.例文帳に追加

このフッ素ゴム組成物から得られる加硫成形品は、成形プレス用クッション材に要求されるクッション性、熱伝導性、耐熱性、耐久性、成形加工(非粘着)性等をバランスよく満足させるといった優れた効果を奏するので、ゴム層単独で、成形プレス用クッション材として有効に用いることができる。 - 特許庁

The method for manufacturing a lithographic printing plate includes steps of: preparing a lithographic printing precursor having an image forming layer containing an IR absorbent, a polymerization initiator, an ethylenically unsaturated compound and a binder polymer on a hydrophilic support; imagewisely exposing the lithographic printing plate precursor; and processing the imagewisely exposed lithographic printing plate precursor with a processing liquid containing a carbonate ion, a hydrogen carbonate ion and a water-soluble polymer compound.例文帳に追加

赤外線吸収剤、重合開始剤、エチレン性不飽和化合物、及び、バインダーポリマーを含有する画像形成層を親水性支持体上に有する平版印刷版原版を準備する工程、前記平版印刷版原版を画像露光する工程、並びに、画像露光された平版印刷版原版を、炭酸イオン、炭酸水素イオン及び水溶性高分子化合物を含有する処理液で処理する処理工程、を含むことを特徴とする、平版印刷版の製造方法。 - 特許庁

The digital color image forming method from the color photographic sensitive materials containing a compound forming dyestuffs having the maximum absorption wavelength by development processing in a non-visible wavelength region and having silve halide emulsion layer is characterized in that the image components of the dyestuffs included in the visible color separation images are subjected to subtraction processing by using the reading images in the non-visible wavelength region of the dyestuffs.例文帳に追加

現像処理により最大吸収波長が非可視波長領域にある色素を形成する化合物を含有する、ハロゲン化銀乳剤層を有するカラー写真感光材料からのデジタルカラー画像形成方法において、可視色分解画像中に含まれる該色素の画像成分を、該色素の非可視波長領域における読み取り画像を用いて減算処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料のデジタルカラー画像形成方法である。 - 特許庁

To provide an image processor which is provided with a Web function for performing authentication processing to transmit and receive encryption information, can encrypt a password without using any SSL (Secure Socket Layer), can securely change the password by using a Web browser and can drastically reduce a program capacity to be stored in a storage means.例文帳に追加

暗号化情報を送受信する認証処理を行うＷｅｂ機能を備え、ＳＳＬ（Ｓｅｃｕｒｅ Ｓｏｃｋｅｔ Ｌａｙｅｒ）を使用しなくてもパスワードを暗号化することができ、Ｗｅｂブラウザを使用してパスワードの変更を安全に行うことができ、記憶手段に格納するプログラム容量を大幅に削減することができるようにする。 - 特許庁

Prior to the financial transactions the financial account holder initiates an authentication session with financial institution back office by accessing its central processing unit (CPU) and a database (DB) installed in the back office of the financial institutions, which are assigned to an embedded privacy and security layer (EPSL) architecture having automated "clock controlled" AAA sessions.例文帳に追加

金融取引の前に、金融口座保持者は、専用通信回線を利用して、自動化された「クロック制御」ＡＡＡセッションをもつ組み込み式プライバシー＆セキュリティ・レイヤ（ＥＰＳＬ）アーキテクチャに配置された金融機関事務部門中央処理装置（ＣＰＵ）及びデータベース（ｄＢ）にアクセスすることにより、金融機関事務部門と認証セッションを開始する。 - 特許庁

The disk 81 has a recording layer given heat processing for lowering the intensity of magnetization occurring in magneto-optical recording to the degree of not disappearing by a prescribed pattern on a substrate and has a prescribed signal magneto- optically recorded in an area in which the identification signal is recorded by the difference of a performance index corresponding to the prescribed pattern.例文帳に追加

光磁気ディスク８１は、光磁気記録時に生じる磁化の大きさを消失しない程度に低下させる熱処理が所定のパターンで施された記録層を基板上に有し、前記所定のパターンに対応する性能指数の違いによって識別信号が記録された領域に所定の信号が光磁気記録されている。 - 特許庁

To provide a highly reliable high sensitivity solid state imaging device by planarizing the surface of a charge transfer device employing a charge transfer electrode of single layer structure while holding flexibility in the process without lowering the yield even for a large and shrunk device having multiple pixels, and enhancing the processing accuracy at a photodiode part.例文帳に追加

単層構造の電荷転送電極を用いた電荷転送装置において、微細化、多画素化、大型化に際しても、工程の自由度を確保したままで歩留まり低下を生じることなく、表面の平坦化をはかり、フォトダイオード部の加工精度の向上をはかることにより、高感度で信頼性の高い固体撮像素子を提供する。 - 特許庁

The automatic developing device includes an external tank heating part which includes an external tank capable of recovering a developer for developing an image recording layer of the lithographic printing plate precursor out of a passage in which development processing is performed, and which heats the developer stored in the external tank to generate an aggregate in the developer; and a filter part which collects the aggregate.例文帳に追加

平版印刷版原版の画像記録層を現像処理する現像液を、現像処理が行なわれる経路の外に回収可能な外部タンクを備え、外部タンクに収容された現像液を加熱して、現像液中に凝集物を発生させる外部タンク加熱部と、凝集物を捕集するフィルタ部とを備えている。 - 特許庁

Iron oxide flakes for the microwave absorber has a flat shape while having the ratio of a longest diameter to a maximum thickness of 5 or more and contains the total quantity of Fe of 50 mass % or more as the composition in iron oxide flakes obtained by peeling an oxide layer generated on the surface of a wire rod made of steel by hot processing.例文帳に追加

熱間加工により鋼製線材の表面に生成した酸化物層を剥離させて得られる酸化鉄粉であって、その形状が扁平状を有すると共にその最長径と最大厚みの比が５以上で且つその組成としてトータルＦｅ量を５０質量％以上含有することを特徴とする電磁波吸収体用扁平状酸化鉄粉。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a magnetoresistance effect element, for increasing efficiency of a hard bias by performing ion milling after lift-off after formation of a hard film in the forming process of the magnetoresistance effect element, and processing the hard film tip part near the uppermost layer of the magnetoresistance effect element.例文帳に追加

本発明は、磁気抵抗効果素子の製造方法に関し、より詳細には磁気抵抗効果素子の形成過程においてハード膜成膜後のリフトオフを行った後にイオンミリングを行い、磁気抵抗効果素子の最上層近辺のハード膜先端部分を加工することによりハードバイアスの効率を高めた磁気抵抗効果素子を製造する方法に関するものである。 - 特許庁

The liquid crystal alignment processing method further includes a process of performing rubbing treatment on the alignment layer 7 by using the rubbing roller 5, wherein the rubbing cloth 3 is provided with first piles 2 formed on a region near the seam 4 and second piles 1 formed on a region except the first piles 2 and the first piles 2 have smaller alignment control power than the second piles 1.例文帳に追加

ラビングローラ５を用いて配向膜７にラビング処理を施す工程をさらに備えており、ラビング布３は、継ぎ目４に近い領域に形成された第１のパイル２と、第１のパイル２を除く領域に形成された第２のパイル１とを備え、第１のパイル２は第２のパイル１よりも小さい配向規制力を有する。 - 特許庁

The method of forming the conductive pattern includes: a first step for printing the conductive pattern onto a surface of the base material having a liquid repellent property; a second step for performing lyophilic processing on the surface of the base material which area does not have the conductive pattern printed thereon; and a third step for forming an insulating layer that covers the conductive pattern.例文帳に追加

表面が撥液性を有する基材表面に導電パターンを印刷する第１の工程と、前記導電パターンが形成されていない前記基材表面を親液性処理する第２の工程と、前記導電パターンを覆う絶縁層を形成する第３の工程と、を有することを特徴とする導電パターンの形成方法。 - 特許庁

To provide a GaN single crystal and a method for producing the same for preventing the occurrence of a crack when growing a GaN single crystal, when processing the grown GaN single crystal into a substrate and the like, and when forming at least a single semiconductor layer on the substrate-like GaN single crystal to produce a semiconductor device.例文帳に追加

ＧａＮ単結晶体を成長させる際および成長させたＧａＮ単結晶体を基板状などに加工する際、ならびに基板状のＧａＮ単結晶体上に少なくとも１層の半導体層を形成して半導体デバイスを製造する際に、クラックの発生が抑制されるＧａＮ単結晶体およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a sheet type adhesive having excellent adhesive force between a semiconductor chip and a lead frame, a package board or the like, and capturing ionic impurities in an adhesive layer, to provide a tape for processing a wafer, the tape produced by using the sheet type adhesive, and to provide a semiconductor device manufactured by using the sheet type adhesive.例文帳に追加

半導体チップとリードフレームやパッケージ基板等との間の接着力に優れ、かつ、接着剤層の内部のイオン性不純物を捕集することが可能なシート状接着剤、及び、該シート状接着剤を用いて作製したウエハ加工用テープ、並びに、該シート状接着剤を用いて作製された半導体装置を提供する。 - 特許庁

The method of manufacturing the GaN-based LED element includes: a step of forming a first metal film containing a specified metal on a portion of an upper surface of the TCO film; and the step of partially increasing the resistance between the p-type contact layer and the TCO film in the region below the first metal film by thermally processing a semiconductor wafer.例文帳に追加

特定の金属を含有する第１金属膜をＴＣＯ膜の上面の一部に形成する工程と、半導体ウェハを熱処理することによって、ｐ型コンタクト層とＴＣＯ膜との間の抵抗を前記第１金属膜の下方の領域において部分的に増加させる工程と、を含むＧａＮ系ＬＥＤ素子の製造方法が提供される。 - 特許庁

In a coating processing step S10, the porous magnetic powder is coated with a thermosetting coating layer having flexibility of a degree traceable to the deformation of the porous magnetic powder in the pressure forming step S18 and the porous magnetic powder is thermally set in a thermal treatment step S20 to enhance the insulation and the mechanical strength.例文帳に追加

また、コーティング処理ステップＳ１０において、加圧成型ステップＳ１８における多孔質磁性体粉末の変形に追従可能な程度の可撓性を備える熱硬化性コーティング層で多孔質磁性体粉末を被覆しておき、熱処理ステップＳ２０において熱硬化させることで、絶縁性および機械的強度の向上を図ることができる。 - 特許庁

The method further comprises: a step of forming a resist pattern in the second region by the photolithography process; and a step of processing the insulating layer and the film to be processed using the side wall film in the first region and the resist pattern in the second region as masks and then forming a wiring trench in the film to be processed.例文帳に追加

さらに、前記第２領域においてフォトリソグラフィ工程によりレジストパターンを形成する工程と、前記第１領域における前記側壁膜と前記第２領域における前記レジストパターンとをマスクとして前記絶縁膜および前記被加工膜を加工し、前記被加工膜に配線溝を形成する工程と、を備えている。 - 特許庁

The method for manufacturing a diamond electron source which includes a top end portion as a diamond electron discharging point includes a process A in which a top end shape of the sharp top portion is rectified to a spherical surface by using a focused ion beam processing unit and a process B in which a process-damaged layer formed by the process A is removed by plasma.例文帳に追加

本発明が提供するダイヤモンドの電子放射点として先鋭部を有するダイヤモンド電子源の製造方法は、該先鋭部の先端形状を集束イオンビーム加工装置を用いて球面形状に補正する工程Ａと、該工程Ａによって形成された加工変質層をプラズマによって除去する工程Ｂとを有することを特徴とする。 - 特許庁

High levels of treated fumed silica, processing fluid and high molecular weight silicone polymer are continuously compounded into a homogenous silica filled heat-vulcanizable silicone composition by forming a premix in a continuous annular layer mixer and continuously discharging the premix into a compounding apparatus to form the filled heat-vulcanizable silicone composition.例文帳に追加

高レベルの処理ヒュームドシリカ、加工流体及び高分子量シリコーンポリマーを連続的にコンパウンディングして均一なシリカ充填熱硬化性シリコーン組成物とするために、連続環状層ミキサー中でプレミックスを形成し、そのプレミックスをコンパウンディング装置に連続的に排出しコンパウンディングして充填材配合熱硬化性シリコーン組成物を形成する。 - 特許庁

The electromagnetic wave shielding material is fabricated by carrying out a development processing after exposing a photographic sensitive material having at least a layer composed of photosensitive silver halide and binder on a support, wherein the photosensitive material contains at least one kind of conductive substance of which volume resistance value is more than 1.0×10^-5 Ωcm, and less than 10.0 Ωcm.例文帳に追加

支持体上に少なくとも感光性ハロゲン化銀及びバインダーからなる層を有する感光材料に、露光後、現像処理を行うことにより作製され、感光材料が、体積抵抗値１．０×１０^-5Ω・ｃｍ以上、１０．０Ω・ｃｍ以下の導電性物質を少なくとも１種類含有する電磁波遮断材料。 - 特許庁

The alignment processing is performed by forming nearly parallel beam of ultraviolet light emitted by a light source unit section into a long irradiation pattern through a light irradiation pattern control section comprising a plurality of total reflection mirrors and irradiating the alignment layer with the ultraviolet light having the converted irradiation pattern at a prescribed angle.例文帳に追加

光源装置部から出射された紫外線の略平行光を、複数の全反射ミラーによって構成された光照射パターン制御部を介して長尺形状の照射パターンに形成し、変換された照射パターンの紫外線を所定の角度を保って配向膜に照射することによって配向処理を施すようにした。 - 特許庁

The screen has configuration such that an opening is provided nearby the focus of a lenticular lens on an image observation side surface of a first component, the opening having a light absorption layer with a finite width at a border part between the openings, antireflection processing is applied to an image observation side surface of a second component, and the first component and second component are coupled to each other.例文帳に追加

スクリーンとして、第１の構成要素の画像観視側面のレンチキュラーレンズの焦点近傍には開口部を設け、該開口部が相互の境界部分には有限幅の光吸層を設け、また、第２の構成要素の画像観視側面には反射防止処理を施し、前記第１の構成要素と前記第２の構成要素とを結合した構成とする。 - 特許庁

In this etching method, since fluorine-based gas plasma is generated on a processing workpiece 10 to form, in advance, a fluorine compound thin film on a copper thin film (e.g., a source electrode 21 and a drain electrode 22) exposed in an electrode groove 18, the copper thin film can be prevented from corrosion in etching a silicon layer 17 with halogen gas plasma.例文帳に追加

本発明では処理対象物１０上でフッ素系ガスのプラズマを発生させ、電極溝１８内に露出する銅薄膜（例えばソース電極２１、ドレイン電極２２）にフッ素化合物薄膜を予め形成しておくので、ハロゲンガスのプラズマでシリコン層１７をエッチングする際に、銅薄膜がハロゲンガスのプラズマで腐食されない。 - 特許庁