「processing layer」に関連した英語例文の一覧と使い方(63ページ目) - Weblio英語例文検索

The method for fabricating a semiconductor device has processes of forming wiring 102 and 108 on the semiconductor device 100 formed a fixed circuit, forming a resin layer 112 whose surface is approximately flat, and processing the back surface of the semiconductor substrate 100.例文帳に追加

半導体装置の製造方法であって，所定回路が形成された半導体基板１００表面上に配線１０２，１０８を形成する工程と，前記配線上に，その表面が略平坦な樹脂層１１２を形成する工程と，前記樹脂層１１２を形成した後，前記半導体基板１００の裏面を加工する工程と，を有する。 - 特許庁

To provide an aqueous coating which can control the increase in the production cost for forming the protection layer and the complexity in printing processes and is useful for forming protection layers having excellent abrasion resistance, heat transfer suitability, emboss processing suitability and surface gloss on the surfaces of forgery-preventing luminescent cards such as magnetic cards, IC cards and rewritable cards.例文帳に追加

保護層形成による製造コストアップや印刷工程が煩雑になるのを抑え、偽造を防止しかつ真偽を簡単に検証できる磁気カード、ＩＣカード、リライトカードなどの偽造防止発光カード面へ耐摩耗性、熱転写適性、エンボス加工適性、表面の艶・光沢などに優れた保護層を形成する水系コート剤を提供する。 - 特許庁

In this case, since formation of the capacitive element having the ferroelectric film on the lower electrode 8 is executed only by bonding the ferroelectric film 12 previously formed on the other substrate on the conductive adhesive layer 11, even if the processing temperature in forming the ferroelectric film 12 is comparatively high, the protective film 5 can be prevented from suffering thermal damage.例文帳に追加

この場合、下部電極８上への強誘電体膜を有する容量素子の形成は、導電性接着層１１の上面に予め別の基板に形成した強誘電体膜１２を接着するだけであるので、強誘電体膜１２を形成する際の処理温度が比較的高温であっても、保護膜５が熱的ダメージを受けることはない。 - 特許庁

The method includes a step of surface-treating the surface of an ion conductive polymer film so as to obtain surface uniformity by using the plasma processing process, a step of adsorbing metal electrodes to both sides of the ion conductive polymer film, a step of reducing polymer metal composites to both sides of the ion conductive polymer film, and a step of forming a coating layer.例文帳に追加

プラズマ処理工程を利用してイオン伝導性高分子膜の表面が均一になるように表面処理する段階と、前記イオン伝導性高分子膜の両面に金属電極を吸着する段階と、前記イオン伝導性高分子膜の両面に高分子金属複合体を還元する段階と、コーティング層を形成する段階とを含む。 - 特許庁

On the other hand, when the image is recorded in the recording medium 304 where only the ink absorbent holding layer is formed, the recording medium 304 is quickly delivered to an intermediated delivery tray 133 along the carrier direction of the arrow H direction without passing through the thermal processing means 138 after the image is recorded in the recording means 116.例文帳に追加

一方、インク吸収性保持層のみが形成された記録媒体３０４に画像を記録する場合、記録媒体３０４は、画像記録手段１１６にて画像が記録された後、熱的プロセス手段１３８を通過することなく、搬送方向が矢印Ｈ方向の状態で中間排出トレイ１３３に速やかに排出される。 - 特許庁

A method of manufacturing a wafer processing apparatus comprises: a step of depositing a film electrode onto the surface of a base substrate; and a step of overcoating the structure with a protective coating film layer comprising at least one of a nitride, a carbide, a carbonitride, and an oxynitride of elements selected from a group consisting of B, Al, Si, Ga, refractory hard metals, transition metals, and combinations thereof.例文帳に追加

ウェーハ加工装置の製造に当たり、ベース基板の表面上にフィルム電極を堆積し、この構造を次にＢ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｇａ、高融点硬金属、遷移金属及びこれらの組合せからなる群から選択される元素の窒化物、炭化物、炭窒化物及び酸窒化物の少なくとも１種を含んでなる保護コーティングフィルム層で被覆する。 - 特許庁

To provide a dielectric element of a structure, where voids and seams will not to generated, a Pt electrode having superior electrical characteristics can be formed simply and at the same time, the problems of contamination or the like a processing chamber are not generated and the formation of a microscopic pattern is possible in the dielectric element using a Pt layer as an electrode material, and the manufacturing method of the element.例文帳に追加

電極材料としてＰｔを用いた誘電体素子において、ボイドやシームが生じることがなく、電気特性に優れたＰｔ電極を簡便に形成することができるとともに、処理室内汚染等の問題がなく、かつ、微細パターンの形成が可能な誘電体素子およびその製造方法を提供する。 - 特許庁

On the basis of the intensity of the Mie scattered laser light from the atmospheric boundary layer among the Mie scattered laser light received by the receiving optical system 21, the angle of the direction adjustment prism 14 is adjusted to the direction in which the intensity is at the maximum, by the biaxial gimbals mount 17 and the signal processing part 31, and the optical axis direction of the transmission optical system 11 is adjusted.例文帳に追加

２軸ジンバルマウント１７及び信号処理部３１により、受光光学系２１にて受光したミー散乱レーザ光のうち大気境界層からのミー散乱レーザ光の強度に基づいて、当該強度が最大となる方向に方向調整プリズム１４の角度が調整されて、送光光学系１１の光軸方向が調整される。 - 特許庁

This structure optimization method comprises dividing design data into a plurality of voxels having equal areas to form an analytic model, calculating the stress applied to each voxel by numerically analyzing the analytic mode, eliminating a voxel having a small stress of the voxels arranged on the outermost layer, and repeating the processing until the analytic model satisfies a prescribed end condition.例文帳に追加

構造最適化方法は、設計データを複数の等しい領域のボクセルに分割して解析モデルを作成し、解析モデルを数値解析することにより、各ボクセルに加わる応力を計算し、最も外層に配置されているボクセルのうち、応力の小さいボクセルを削除し、解析モデルが所定の終了条件を満たしているまで処理を繰り返す。 - 特許庁

To provide a laminated body which includes excellent laminate strength, does not decrease the laminate strength between a plastic substrate and a sealant layer even when various strong permeable contents included with a volatile substance act, and in addition, does not require heat aging for several days after laminate processing, and includes a stable and sufficient laminate strength by room temperature aging for a short time.例文帳に追加

優れたラミネート強度を有し、かつ揮発性物質が含まれている各種強浸透性内容物が作用してもプラスチック基材とシーラント層間のラミネート強度が低下せず、さらには、ラミネート加工後の数日間の加熱エージングが不要で、短時間の室温エージングにより安定した十分なラミネート強度を有する積層体を提供することにある。 - 特許庁

To provide a multilayer ceramic capacitor employing a dielectric porcelain composed of BT crystal grains and BCT crystal grains as a dielectric layer in which deterioration incident to time variation in high temperature load test can be suppressed, and a high insulation multilayer ceramic capacitor can be obtained without providing a step for reoxidation processing in the fabrication process.例文帳に追加

ＢＴ結晶粒子とＢＣＴ結晶粒子とから構成される誘電体磁器を誘電体層とする積層セラミックコンデンサについて、高温負荷試験における時間変化に伴う低下を抑制できる積層セラミックコンデンサ、ならびに、製造工程において再酸化処理の工程を設けなくても高絶縁性の積層セラミックコンデンサを提供する。 - 特許庁

When the code block of processing object belongs to low frequency component or a subband close to low frequency component, information of encoding path concerning the coefficients (corresponding to non-ROI) in that code block other than the coefficients corresponding to ROI is stored partially or entirely in an upper layer set to store the information of ROI.例文帳に追加

処理対象のコードブロックが低周波数成分もしくは低周波数成分に近いサブバンドに属している場合、そのコードブロック内のＲＯＩに対応する係数以外の係数（非ＲＯＩに対応する係数）に関する符号化パスの情報の一部もしくは全部を、ＲＯＩの情報が格納されるよう設定されている上位レイヤに格納する。 - 特許庁

This cemented carbide cutting tool insert comprises Co of 5 to 7 by Wt% and WC in the remaining portion for turning processing the titanium alloy, and is characterized that the surface is covered with the Co layer of 0.5 to 8 μm at least partially by carrying out heat treatment in the atmosphere of Ar and Co after a sintering process and grinding in order to finish to final forming dimensions.例文帳に追加

チタン合金施削加工用の５〜７Ｗｔ％のＣｏと残部ＷＣとからなる超硬合金切削工具インケートで、焼結する工程と、最終の形状寸法にするための研削の後にＡｒとＣｏの雰囲気中で熱処理を施し、表面を少なくとも部分的に０．５〜８μｍのＣｏ層で覆うことを特徴とする。 - 特許庁

In a printing plate material having an image forming layer comprising at least one of a heat-fusible fine particle dispersion and a heat melting fine particle dispersion, and a photo-thermal conversing agent on an aluminum substrate, the aluminum substrate is characterized by being treated with an organic acid water solution after roughening processing and anodizing are applied.例文帳に追加

アルミニウム支持体上に、熱融着性微粒子分散体及び熱溶融性微粒子分散体の少なくとも一方と光熱変換剤を含有する画像形成層を有する印刷版材料において、該アルミニウム支持体が、粗面化処理、陽極酸化を施された後に有機酸水溶液で処理されることを特徴とする印刷版材料。 - 特許庁

To obtain a unit cell structure suited to a highly integrated device and a high speed operation in a semi-customized conductor integrated circuit device wherein the degree of freedom about the substrate design of transistors is improved and the wiring layer conversion for processing input/output signals of unit cells which would obstruct the layout of other wiring layers is possibly reduced.例文帳に追加

セミカスタム半導体集積回路装置において、トランジスタの下地の設計に関する自由度を向上させ、更に、他の配線層敷設の妨げとなるような、ユニットセルの入出力信号を処理するための配線層変換を極力低減した、設計自由度が高く、高集積化および高速動作に適したユニットセルの構造を実現する。 - 特許庁

To provide a photographic recording material provided with an ink jet image receptor superior in ink jet printing aptitude on the opposite side of a photosensitive layer, and particularly, capable of ink jet letter printing high in density and free from oozing in the images of characters and the like and the ink jet after development processing and superior in dryability.例文帳に追加

感光層の反対の面に優れたインクジェット印字適性を有するインクジェット受像層を設けた写真記録材料の提供にあり、特に現像処理後にインクジェットで印字が出来、その画像濃度が高く、文字等の画像の滲みも無く、インクの乾燥性にも優れたインクジェット受像層を有する写真記録材料を提供する。 - 特許庁

After forming a bonding part made of metal in a contour-like shape and etching (surface activation processing) the bonding part by plasma, by bonding objects to be bonded each other by pushing and breaking a deposition layer which re-adhered to the bonding part, a space formed by being surrounded in the contour-like shape by the bonding part between bonding surfaces can be sealed into a predetermined atmosphere.例文帳に追加

金属からなる接合部を輪郭状に形成し、該接合部をプラズマによりエッチング（表面活性化処理）した後、接合部に再付着した付着物層を押し破って被接合物どうしを接合することで、接合面間に接合部によって輪郭状に囲まれて形成される空間を所定の雰囲気に封止することができる。 - 特許庁

The CME 42 makes an output operation such as ringing of a call being of the terminal with the message from the L3E 41 and gives a request message to the L3E 41 with an entry operation such as off-hook by a user to conduct a series of pseudo call processing such as setup/interruption request of a layer 1 link, incoming call notice display and call display or the like.例文帳に追加

ＣＭＥ４２は、このＬ３Ｅ４１からのメッセージにより端末の呼出用ベルを鳴らす等の出力動作を行うと共に、使用者のオフ・フック等の入力動作によりＬ３Ｅ４１に要求メッセージを出したりすること等でレイヤ１リンクの確立・切断要求，着信通知表示、呼出表示等の擬似的な一連の呼処理を行う。 - 特許庁

When the surface of the negative electrode 22 (negative electrode active material layer 22B) can be observed by using a SEM and a particle area per each negative electrode active material particle can be calculated by making image-processing of a SEM image, average particle areas of the plurality of negative electrode active material particles included in a designated observation area are 1-60 μm^2.例文帳に追加

ＳＥＭを用いて負極２２（負極活物質層２２Ｂ）の表面を観察し、ＳＥＭ像を画像処理して負極活物質粒子ごとに粒子面積を算出できるようにしたとき、所定の観察エリア内に含まれる複数の負極活物質粒子の平均粒子面積は、１μｍ^2 以上６０μｍ^2 以下である。 - 特許庁

To provide a development processing liquid for a lithographic printing plate which is capable of development in a region from acidity to neutrality, overcomes the problems of developability in the development and dispersion stability of a photosensitive layer removed by the development, reduces the replenish amount of developing solution and the amount of waste liquid, is also advantageous to running cost and to the environment, and excels in contamination resistance.例文帳に追加

酸性から中性域で現像可能であり、その際に問題となる現像性、更に現像によって除去した感光層の分散安定性の問題を克服し、現像液補充量、廃液量低減、ランニングコスト、環境面にも有利で耐汚れ性に優れた平版印刷版用現像処理液及び平版印刷版の製版方法の提供。 - 特許庁

To provide a method for processing a lithographic printing plate for improving plate wear of a minute image with less jumping in thin lines and a highlight portion occurring during printing a large number of sheets in the lithographic printing plate which contains physical developing nuclei between an anodically oxidized aluminum support and a silver halide emulsion layer and which utilizes a silver complex salt diffusion transfer method.例文帳に追加

陽極酸化されたアルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版において、多数枚の印刷時に発生する細線やハイライト部の飛びの少ない、微小画像の耐刷性が改善された平版印刷版の処理方法を提供しする。 - 特許庁

The flexible printed wiring board has a circuit formed by etching electrolytic copper film stuck on a polyimide resin film base material, also has the surface with the circuit thereon coated with a cover lay film, and has a contactness improvement processing layer on the circuit surface which comes into contact with the cover lay film.例文帳に追加

ポリイミド樹脂フィルム基材と張り合わせた電解銅箔をエッチングすることにより形成した回路を備え、当該回路の存在する表面をカバーレイフィルムで被覆したフレキシブルプリント配線板において、カバーレイフィルムと接触する回路表面に密着性改良処理層を備えることを特徴としたフレキシブルプリント配線板等を採用する。 - 特許庁

To provide a tape carrier for a semiconductor device which can improve a yield when a product is conveyed to next step by eliminating a warp at a copper wiring pattern layer forming time and a warp at a heat curing time of a thermosetting type solder resist, and which can improve the working efficiency of a product processing treatment in next step and the dimensional quality of the product.例文帳に追加

銅配線パターン層形成時の反りと熱硬化型ソルダレジストの熱硬化時の反りを無くすことによって、製品を次工程へ搬送する際の歩留まりを向上させることができ、次工程における製品加工処理の作業効率および製品の寸法品質を向上させることができる半導体装置用テープキャリアを提供する。 - 特許庁

The skin covering sheet for the cosmetic impregnation is obtained by entangling and integrating a filament nonwoven fabric with staple fibers by applying a water flow entanglement processing on a laminated body prepared by laminating a fiber layer comprising the staple fibers on at least one surface of the filament nonwoven fabric with a stretching property at least in one direction so as to make at least one surface.例文帳に追加

少なくとも一方向に伸縮性を有する長繊維不織布の少なくとも一方の面に、ステープル繊維から成る繊維層が少なくとも一表面となるように積層された積層体に、水流交絡処理を施すことにより、長繊維不織布とステープル繊維が交絡し、一体化されて化粧料含浸用皮膚被覆シートを得る。 - 特許庁

A lithographic printing plate which contains physical developing nuclei between an anodically oxidized aluminum supporting body and a silver halide emulsion layer and which utilizes a silver complex salt diffusion transfer method is exposed, developed and then treated with a processing liquid containing at least one compound in fluorides of metals selected from titanium, zirconium, zinc and hafnium.例文帳に追加

陽極酸化されたアルミニウム支持体とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核を有する銀錯塩拡散転写法を利用した平版印刷版を露光、現像処理後に前記平版印刷版を、チタン、ジルコニウム、亜鉛及びハフニウムの中から選ばれる金属のフッ化物の中の少なくとも１つの化合物を含む処理液で処理する。 - 特許庁

To provide a CAD system for electronic circuit board design which can accurately grasp or check the conductive situation of a wiring part such as connection of plating wiring and a side face metallization layer with simple processing and also has a function capable of smoothly and simply changing its set content in accordance with an inspection target and the difference of a substrate type, etc.例文帳に追加

メッキ線と側面メタライズ層との接合など、配線部の導通状況の把握あるいはチェックを簡単な処理により正確に行うことができ、しかも検査目的や基板品種の違い等に応じてその設定内容を柔軟かつ簡単に変更できる機能を有した電子回路基板設計用ＣＡＤシステムを提供する。 - 特許庁

To provide a decorative sheet which is able to maintain a beautiful aesthetic nature without easy change in gloss on a surface even if the surface temperature of the decorative sheet is exposed to 60°C or more in a laminating process with a base material and in a state of use after processing, in the decorative sheet for exterior having a surface protective sheet layer 4 comprising thermoplastic acrylic resin.例文帳に追加

熱可塑性アクリル系樹脂からなる表面保護シート層４を具備した外装用等の化粧シートにおいて、基材とのラミネート加工工程や施工後の使用状態で、化粧シートの表面温度が６０℃以上の高温に曝されることがあっても、表面の艶変化を発生しにくく、美麗な意匠性を持続可能な化粧シートを提供する。 - 特許庁

The screen is constituted by providing an aperture part near the focus of a lenticular lens on the picture viewing side surface of a 1st component element, providing a light absorbing layer having finite width at the mutual boundary part of the aperture parts, and performing antireflection processing to the picture viewing side surface of a 2nd component element, and then coupling the 1st component element and the 2nd component element.例文帳に追加

スクリーンとして、第１の構成要素の画像観視側面レンチキュラーレンズの焦点近傍には開口部を設け、該開口部が相互の境界部分には有限幅の光吸層を設け、また、第２の構成要素の画像観視側面には反射防止処理を施し、前記第１の構成要素と前記第２の構成要素とを結合した構成とする。 - 特許庁

A semiconductor device manufacturing method comprises a step of cutting a laminated product including a die-bonding film and a semiconductor wafer laminated on the die-bonding film with a rotary blade, and a step of performing plasma discharge processing 6 on a periphery of a face of an adhesive layer 1 of the dicing tape bonding the die-bonding film.例文帳に追加

ダイボンディングフィルムと、前記ダイボンディングフィルム上に積層された半導体ウェハとを含む積層品を回転刃で切断する工程を有する半導体装置の製造方法において、前記ダイボンディングフィルムを貼り付けるダイシングテープの粘着層１の面の周囲にプラズマ放電処理６を施す工程を含むことを特徴とする半導体装置の製造方法。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing semiconductor device which is suitable for improvement in the information storing characteristic of a semiconductor device such as DRAM and SRAM or the like through reduction of a junction leak current resulting from a defect, by processing vacant hole defect remaining in the source-drain diffusing layer.例文帳に追加

ソース・ドレイン拡散層に残留する空孔欠陥に対する処理を行うことにより、欠陥起因の接合リーク電流を低減する半導体装置の製造方法を提供し、これによってＤＲＡＭやＳＲＡＭ等の半導体記憶装置の情報保持特性を向上させるために好適な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a solution for forming an insulating thin film that can be applied at low temperature, has high insulation and dielectric constant properties, and allows surface processing, the insulating thin film formed using the same, a field effect transistor having superior performance using the insulating thin film as a gate insulating layer and a method of manufacturing the same, and an image display device.例文帳に追加

低温で塗布形成可能で高い絶縁性と誘電率を有し、かつ表面処理可能な絶縁性薄膜の形成用溶液、それを用いて形成した絶縁性薄膜、絶縁性薄膜をゲート絶縁層として用いることで優れた性能を有する電界効果型トランジスタ及びその製造方法並びに画像表示装置を提供する。 - 特許庁

In the decorative material for the floor material constituted by laminating a synthetic resin sheet provided with a pattern to the woody substrate having a surface, to which at least groove processing is applied, along the surface shape thereof, an ionizing radiation curable resin is applied to the surface of the synthetic resin sheet to provide a surface protective layer.例文帳に追加

少なくとも溝加工を施した表面を有する木質系基材の表面形状に沿って、絵柄模様を設けた合成樹脂製シートを貼合した床材用化粧材の前記合成樹脂製シートの表面に電離放射線硬化型樹脂を塗布することにより表面保護層を設けたことを特徴とする床材用化粧材。 - 特許庁

A substrate processing apparatus 1 comprises a first process liquid supply unit 6 which supplies a first process liquid onto the surface of a substrate W having a metal layer formed of a transition metal, and a second process liquid supply unit 7 which supplies a second process liquid, containing molecules having the adsorption characteristics for a transition metal, onto the surface of the substrate W.例文帳に追加

基板処理装置１は、遷移金属により形成された金属層を有する基板Ｗの表面に第１の処理液を供給する第１の処理液供給装置６と、基板Ｗの表面に遷移金属に対して吸着特性を有する分子を含む第２の処理液を供給する第２の処理液供給装置７とを備える。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin film solar cell capable of simplifying a process by unnecessitating degassing of a substrate when a photoelectric conversion layer is formed, preventing a relative positional deviation of connecting holed and current collecting holed and applying a laser processing method capable of forming holes of high quality.例文帳に追加

光電変換層形成時における基板の脱ガス処理を不要としてプロセスの簡略化と、また接続孔と集電孔との相対的位置ズレの発生防止とを図り、さらに接続孔や集電孔などの加工に、高品質の孔加工が可能なレ−ザ加工法を適用可能とする薄膜太陽電池の製造方法を提供する。 - 特許庁

The flow control method for the frame processing apparatus in the layer 2 connected to a network is characterized in to transmit a control frame PF[x]-i including a transmission stop time PT[x]-i decided by each priority [x] from a control object port at a time interval T[x]-i decided by each priority [x] so as to control a flowing-in flow.例文帳に追加

本発明はネットワークを接続するレイヤ２において、優先度［ｘ］毎に決められた送信停止時間ＰＴ［ｘ］−ｉを含む制御フレームＰＦ［ｘ］−ｉを、優先度［ｘ］毎に決められた時間間隔ＩＴ［ｘ］−ｉで制御対象ポートから送信し、流入フローを制御することを特徴とするフレーム処理装置のフロー制御方法である。 - 特許庁

To provide an electrophotographic photoreceptor, an electrophotographic image forming method, an electrophotographic image forming apparatus and a processing cartridge free of peeling of a photosensitive layer even after printing of a large number of sheets, causing neither scratching of a cleaning blade nor toner sticking, and giving high quality toner images free of image defects such as occurrence of fog, lowered image density and sharpness, or generation of black spots.例文帳に追加

多数枚のプリントを行っても、感光層の膜剥離が無く、クリーニングブレードのキズやトナー固着が無く、かぶりの発生、画像濃度低下、鮮鋭度の低下、黒ポチの発生等の画像欠陥が無い高品質のトナー画像が得られる電子写真感光体、電子写真画像形成方法、電子写真画像形成装置及びプロセスカートリッジの提供。 - 特許庁

An ATM multiplex system 10 comprises PHY (Physical layer processing) blocks of n pieces PHY1-PHYn equipped respectively with ATMPHY terminating units 111-11n and UTOPIA level 1 interface units 121-12n (slave side) and has an ATM signal multiplex unit 16 equipped with a common unit function block 14 and a UTOPIA level 2 interface unit 15 (master side).例文帳に追加

ＡＴＭ多重システム１０は、それぞれＡＴＭＰＨＹ終端部１１_1〜１１_nと、ＵＴＯＰＩＡレベル１インタフェース部（スレーブ側）１２_1〜１２__nとを備えたｎ個のＰＨＹブロックＰＨＹ１〜ＰＨＹｎを有し、また、共通部機能ブロック１４と、ＵＴＯＰＩＡレベル２インタフェース部（マスタ側）１５を備えたＡＴＭ信号多重部１６を有している。 - 特許庁

The base station is provided with: an MAC-hs layer processing unit 2032 for acquiring an error rate of the packets destined to the mobile stations in the radio zone; and a data transmission quantity control information calculating unit 2034 for controlling the transmission quantity of data from the control station to the base station on the basis of the error rate of the packets destined to the mobile stations in the radio zone.例文帳に追加

基地局は、複数の移動局宛てのパケットの無線区間における誤り率を取得するMAC-hsレイヤ処理部2032と、複数の移動局宛てのパケットの無線区間における誤り率に基づいて、前記制御局から前記基地局へのデータの送出量を制御するデータ送出量制御情報算出部2034とを備える。 - 特許庁

The processing member used for heat-developing a silver halide photographic sensitive material put on the member in the presence of water is manufactured by bonding a member with at least one constitutive layer containing a photographically useful material to a member with at least one constitutive layer having heat sealing property or at least one of water solubility and adhesion in a laminated state.例文帳に追加

ハロゲン化銀写真感光材料と処理部材を水の存在下で重ね合わせて熱現像するために用いるハロゲン化銀写真感光材料用の処理部材の作製方法において、写真有用性物質を含有する構成層を少なくとも１層有する部材と、ヒートシール性又は水溶性粘着性の少なくともどちらかの性質を有する構成層の少なくとも１層を有する部材と、を接着して積層させて作製するハロゲン化銀写真感光材料用の処理部材の作製方法である。 - 特許庁

In a method for processing the silver halide photographic sensitive material which has at least one photosensitive silver halide photographic emulsion layer on one side or both sides of a support, silver halide emulsion grains in the silver halide emulsion layer are tabular grains having an average thickness of 0.03-0.11 μm and an average aspect ratio of 13-30.例文帳に追加

支持体の片側あるいは両側に少なくとも一層の感光性ハロゲン化銀写真乳剤層を有するハロゲン化銀写真感光材料の処理方法であって、前記ハロゲン化銀乳剤層中のハロゲン化銀乳剤粒子の平均厚みが、０．０３μｍ以上０．１１μｍ以下で、平均アスペクト比が１３以上３０以下の平板状粒子であり、下記一般式（１）および（２）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１つの含フッ素化合物を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料。 - 特許庁

By decoding only an extracted area up to the block layer, the decoding processing speed is improved with high decoding processing efficiency and the burden on processor is reduced.例文帳に追加

入力された第１画面符号化信号からスライスヘッダまで復号する第１復号部１１００と、この復号された信号から切り出し領域を設定する切り出し領域設定部１２００と、前記設定された切り出し領域にしたがって信号を抽出する切り出し領域データ抽出部１３００と、前記抽出された信号からブロックレイヤまで復号する第２復号部１４００と、を備えて、抽出された領域のみをブロックレイヤまで復号することにより、復号処理効率がよく、復号処理速度の向上、処理装置の負担軽減を行う。 - 特許庁

In this method of cleaning a substrate treatment apparatus by using a cleaning transfer member, the cleaning transfer member is provided with an aggregation layer of oblique columnar structures each protruding with an elevation angle of <90° from the surface of the transfer member and having an aspect ratio of ≥1, and the cleaning transfer member is used after completion of cleaning processing.例文帳に追加

本発明の基板処理装置のクリーニング方法は、クリーニング搬送部材を用いて基板処理装置をクリーニングする方法であって、該クリーニング搬送部材は搬送部材の表面に該表面からの仰角が９０度未満で突出したアスペクト比が１以上の斜め柱状構造体の集合層を備え、該クリーニング搬送部材を清浄処理した後に用いる。 - 特許庁

In the inkjet recording gloss paper, whereon a cast coating processing is performed by a coagulating method, a gloss developing layer coating liquid contains, as a pigment, a colloidal silica having a shape wherein a plurality of particles are randomly coagulated, 97 mol% or less saponified polyvinyl alcohol in a binder, and a 20° glossiness corresponding to JIS Z 8741 is 20% or more.例文帳に追加

この課題は、キャストコート加工が凝固法で行われており、光沢発現層塗工液が顔料として複数個の粒子がランダムに凝集した形状を持つコロイダルシリカを含有し、かつ結着剤中に鹸化度が９７ｍｏｌ％以下のポリビニルアルコールを含有し、かつＪＩＳ Ｚ ８７４１に準ずる２０°光沢度が２０％以上であるインクジェット記録用光沢紙によって解決される。 - 特許庁

The recording and reproducing apparatus has a magnetic recording medium in which servo information including position information is recorded by an irregular pattern formed in a magnetic layer, and a signal processing circuit 12 generating the position control signal of the magnetic head 114 based on an amplitude value of a fundamental wave component and at least one harmonic component in a reproduced signal of position information.例文帳に追加

磁性層で形成された凹凸パターンによって位置情報を含むサーボ情報が記録された磁気記録媒体と、位置情報の再生信号における基本波成分及び少なくとも１つの高調波成分の振幅値に基づいて磁気ヘッド１１４の位置制御信号を生成する信号処理回路１２と、を有する磁気記録再生装置とした。 - 特許庁

When thin film transistors such as a switch transistor 5 and a drive transistor 6 used as driving elements in an EL panel 1 are manufactured, semiconductor films 5b and 6b which are enhanced in crystallinity are formed by subjecting a base film 16 to plasma processing as preprocessing for forming a semiconductor layer 9b of crystalline silicon to serve as semiconductor films 5b and 6b where channels are formed.例文帳に追加

ＥＬパネル１において、駆動素子として用いるスイッチトランジスタ５、駆動トランジスタ６などの薄膜トランジスタを製造する際に、チャネルが形成される半導体膜５ｂ、６ｂとなる結晶性シリコンの半導体層９ｂを成膜する前処理として下地膜１６にプラズマ処理を施すことによって、結晶化度を高めた半導体膜５ｂ、６ｂを形成することができる。 - 特許庁