「shape pattern」に関連した英語例文の一覧と使い方(47ページ目) - Weblio英語例文検索

In this printed wiring board of a three-layer board where conductive layers 10 and 20 and pattern wiring are laminated through dielectric layers, the conductor layers 10 and 20 have each a mesh shape.例文帳に追加

導体層１０，２０と、パターン配線とを、誘電体層を介して積層する３層基板のプリント配線板において、導体層１０，２０が網目形状を有するようにする。 - 特許庁

In the electron beam lithography device and the method for correcting the displacement amount, the backside shape distribution data of a place abutting on the pin of the pinch chuck are extracted from the backside shape distribution data of the EUV mask required for correcting the positional misalignment of a pattern, and the displacement amount is calculated only from the extracted backside shape distribution data.例文帳に追加

パターンの位置ずれ補正するために必要なＥＵＶマスクの裏面形状分布データのうち、前記ピンチャックのピンに接触する箇所の裏面形状分布データを抽出し、この抽出された裏面形状分布データのみから、前記位置ずれ量を算出する電子ビーム描画装置及び位置ずれ量補正方法を提供する。 - 特許庁

The desired optical spot is obtained on an image carrier by disposing a diaphragm shape corresponding to a screen angle for forming CMLK colors on a rotatable circular board 12 as a means for sequentially changing the shape to an output image pattern, rotating the shape when the respective color images are exposed, and disposing the diaphragm on the front surface of a light emitting element.例文帳に追加

絞り形状を出力画像パターンに対して逐次変化させる手段として、回転可能な円形基盤１２にＣＭＬＫ各色を形成するスクリーン角に対応した絞り形状を配置させ、これを各色の像露光時に回転させ、絞りを発光素子の前面に配置することにより所望の光学スポットを像担持体上で得る。 - 特許庁

Electronic circuit device comprises electrodes 11, 12 connected to an electronic circuit pattern formed on a semiconductor chip and ball bumps 16 connected with a solder 15 to the electrodes 11, 12, the ball bumps are made of a shape memory alloy having a shape recovery temperature set higher than room temperature, and the maximum temperature is of shape recovery temperature during use of a semiconductor device.例文帳に追加

半導体チップの形成された電子回路パターンに接続する電極（１１，１２）に、形状回復温度が常温よりも高く設定されており、半導体装置の使用時の最高温度が形状回復温度程度であるような形状記憶合金からなるボールバンプ１６がはんだ１５により接合されている構成とする。 - 特許庁

To provide a magnetic recording/reproducing device using a magnetic recording medium having a burst pattern shape, the burst pattern shape having very small manufacturing loads in process, and capable of obtaining an accurate position error signal, expanding a practical range to acquire an accurate position error signal, and expanding a permission range in device designing.例文帳に追加

プロセス上での製造負担の極めて少ないバーストパターン形状であって、なおかつ正確な位置誤差信号を得ることができ、さらには正確な位置誤差信号を得ることができる実用範囲を拡大させることができ、装置設計における許容範囲を広げることが可能となるバーストパターン形状を有する磁気記録媒体を用いた磁気記録再生装置を提供する。 - 特許庁

In the flexible mold for molding having a substrate consisting of a humidity responsible material and a molding layer provided with a channel pattern with specified shape and dimension on its surface, the specified shape and dimension can be provided on the channel pattern by conditioning the mold for molding at a predetermined temperature and humidity conditions after the mold for molding is released from a metal mold.例文帳に追加

湿度応答性の材料からなる支持体と、所定の形状及び寸法を有する溝パターンを表面に備えた成形層とを有する可とう性成形型において、その成形型を金型から離型後に予め定められた温度及び湿度条件でコンディショニングすることによって、前記所定の形状及び寸法が前記溝パターンに付与されているように構成する。 - 特許庁

This flat antenna 2 has a first coupling part pattern 6 divided at one part on a first surface of a circuit board and formed into a loop-like shape, and a second coupling pattern formed into nearly the same shape on a second board surface on the opposite side, and both the patterns are arranged oppositely to each other by interposing the circuit board to form capacitance coupling and magnetic induction coupling states.例文帳に追加

平面アンテナ２は、回路基板の第１面に一ヶ所で分断されたループ状に形成された第１結合部パターン６と、反対側の第２基板面に略同形状で形成された第２結合部パターンとを有し、これら両パターンは相互に静電容量結合および磁気誘導結合状態が形成されるように回路基板を挟んで対向配置される。 - 特許庁

An exposure mask in one embodiment is used when an exposure device transfers and forms a photosensitive resin film pattern having a first area in which the photosensitive resin film is not patterned and a second area in which a pattern group having a desired shape is formed.例文帳に追加

本実施形態の露光用マスクは、露光装置により、感光性樹脂膜がパターン化されることのない第１の領域と所望の形状のパターン群が形成される第２の領域とを有する感光性樹脂膜パターンを転写形成する際に使用するものである。 - 特許庁

To provide a radioactive ray setting resin composite which yields a pattern which is highly fine and excellent in shape when an optical waveguide is manufactured by a pattern forming method using a fine lithograph technology, to provide an optical waveguide using the resin composite and to provide a method of manufacturing the optical waveguide.例文帳に追加

微細なリソグラフィ技術を用いたパタン形成方法によって光導波路を作製するに際し、高精細で形状の優れたパタンを得ることを可能とする放射線硬化性樹脂組成物、該樹脂組成物を用いた光導波路及び光導波路の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a manufacturing method capable of stably forming a printing pattern of excellent pattern accuracy by easily clarifying a relation between a pixel shape of a barrier-rib substrate suited for printing conditions and a printing method, in forming an organic functional element by a letterpress printing method.例文帳に追加

凸版印刷法によって有機機能性素子を形成する際に、容易に印刷条件に適した隔壁基板の画素形状と、印刷方法の関係を明らかにすることにより、安定してパターン精度の良い印刷パターンを形成できるような製造方法を提供する。 - 特許庁

Then when the photoresist 4 is exposed, the light is reflected by sidewalls of the recesses 3 or projections 6 so that when the exposed photoresist 4 is developed, the photoresist pattern has the end in the uneven shape, and the base film 1 is etched using the photoresist pattern as the mask to form the semiconductor device.例文帳に追加

そして、フォトレジスト４を露光した際に凹部３または凸部６の側壁にて光を反射させ、露光したフォトレジスト４を現像した際にフォトレジストパターンの端部が凹凸形状となるようにし、このフォトレジストパターンをマスクとして下地膜１をエッチングすることにより半導体装置を形成する。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive resin composition which enables to form a pattern by irradiation with active energy rays, can form a protective film against etching, an interlayer dielectric and a surface protective film, and is excellent in sensitivity, resolution, pattern shape and alkali developability.例文帳に追加

活性エネルギー線の照射によりパターン形成が可能で、エッチングに対する保護膜、層間絶縁膜、表面保護膜を形成しうるネガ型感光性樹脂組成物であって、感度、解像性、パターン形状及びアルカリ現像性に優れるネガ型感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

To provide an inlaying panel material which can accurately form an inlaying pattern even if an inlaying pattern forming part of a surface decorative material has a curved three-dimensional shape and which improves mass productivity at a low manufacturing cost and to provide a method for shaping the same.例文帳に追加

表面化粧材の象嵌模様の形成部が曲面三次元の形状であっても、象嵌模様を高精度に形成できるようにするとともに、量産性を向上して製造コストを低くすることを可能とする象嵌パネル材およびその成形方法を提供する。 - 特許庁

The exposure apparatus that transcribes a pattern of a reticle 2 to a substrate 6 via a projection optical system 3, has a controller 14 that corrects an image of the pattern imaged on the substrate 6 according to a shape of the reticle 2 in a waiting state until start of an exposure operation.例文帳に追加

本発明は、投影光学系３を介してレチクル２のパターンを基板６に転写する露光装置であって、露光動作が開始されるまでの待機状態における前記レチクル２の形状に応じて、前記基板６の上に結像される前記パターンの像を補正する制御器１４を備える。 - 特許庁

To provide a manufacturing method for an optical element having a fine structure whose aspect ratio is high and whose etching shape is a rectangle by making a film to be etched on a lower layer have the same cycle as that of a resist pattern even in using the resist pattern whose cross section is corrugated in the cycle finer than the wavelength of the visible region.例文帳に追加

可視域の波長より微細な周期で、断面が波型をなすレジストパターンを用いても、下層の被エッチング膜に同じ周期をも持たせ、しかも、アスペクト比が高くてエッチング形状が矩形を成す微細構造を有する光学素子の製造方法を提供すること。 - 特許庁

To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which has greatly excellent exposure latitude, can form an excellent rectangular pattern shape, and has less elution to an immersion liquid in liquid immersion exposure, and a resist film and a pattern formation method using the composition.例文帳に追加

露光ラチチュードが大きく優れ、良好な矩形のパターン形状を形成することができ、且つ液浸露光時には液浸液への溶出が少ない感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物並びに該組成物を用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

In the exposure method, the mask pattern 6 constituted of a metallic material is irradiated with an exposure light 15, consisting of a linearly polarized light, and a resist 7 is exposed with proximity field light generated from a part approximately perpendicular to the polarization direction of linearly polarized light out of the shape of the mask pattern 6.例文帳に追加

直線偏光からなる露光光１５を、金属材料で構成されるマスクパターン６に照射し、マスクパターン６の外形のうち直線偏光の偏光方向と略直交する部分で発生する近接場光を利用してレジスト７を露光する露光方法及び露光装置。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern having a desired shape of a high aspect ratio while dispensing with complicated steps, and a method and an apparatus for manufacturing an electronic apparatus or an optical apparatus by using the method for forming the pattern.例文帳に追加

煩雑な工程を要せずに、アスペクト比の高い所望の形状のパターンを形成することのできるパターン形成方法、このパターン形成方法を用いた電子装置または光学装置の製造方法、並びに、このパターン形成方法を用いた電子装置または光学装置の製造装置を提供する。 - 特許庁

The heater pattern 110 is provided with a plurality of heating elements 110a of strip shape extending in parallel; a plurality of small conductor pieces 110b for conductively connecting the end parts of the adjacent heating elements 110a, and a pair of small terminal pieces 110c provided at both end parts of the heater pattern 110.例文帳に追加

ヒータパターン１１０は、複数並列に伸びる帯状の発熱体１１０ａと、隣接する発熱体１１０ａの端部間を導電接続する複数の導体小片１１０ｂと、ヒータパターン１１０の両端部に設けられた一対の端子小片１１０ｃとを備えている。 - 特許庁

To provide a heat-resistant negative photosensitive resin composition also having good sensitivity and resolution, a pattern forming method using the composition in which the composition is developable with an alkaline aqueous solution and excels in sensitivity, resolution and heat resistance and by which a pattern of a good shape is obtained, and to provide high-reliability electronic components.例文帳に追加

感度や解像度も良好な耐熱性ネガ型感光性樹脂組成物、これを用いたアルカリ水溶液で現像可能で、感度、解像度及び耐熱性に優れ、良好な形状のパターンが得られるパターン形成方法、及び信頼性の高い電子部品を提供する。 - 特許庁

At a laying execution work site, a stamp frame material 3 for displaying an area pattern 6 of the deformed polygons and individual slate contour patterns 7 according to a contour shape of the respective slats 1A, 1B, 1C, etc., on the inside of the area pattern 6, is provided on the laying surface of the slates 1A, 1B, 1C, etc.例文帳に追加

敷設施工現場にて石板１Ａ，１Ｂ，１Ｃ…の敷設面に変形多角形の領域パターン６と、領域パターン６の内部にそれぞれの石板１Ａ，１Ｂ，１Ｃ…の外郭形状に応じた個々の石板外郭パターン７とを表示するスタンプ枠材３を備える。 - 特許庁

A molten resin pressed out of an extruding machine is given a shape loosely by the groove 3b so that the whole of the resin advances, in the helical form, along the groove 3b, and hence a spiral pattern supplementary to the groove 3b is successively formed on the inner surface of a parison 6 so that a plastic bottle having a spiral pattern on the inner surface thereof can be obtained.例文帳に追加

押出機から押し出された溶融樹脂は溝３ｂにより緩く賦形され全体が溝３ｂに沿ってらせん状に前進するのでパリソン６の内面には溝３ｂと補形をなすスパイラル模様が順次形成され、内面にスパイラル模様を有するプラスチックボトルを得る。 - 特許庁

To provide a method for forming a pattern membrane by which the pattern membrane having a quadrangular cross-sectional shape in which two cross-sectional angles specified at both ends of long sides among mutually facing long sides and shot sides are mutually different is formed with high accuracy as much as possible.例文帳に追加

互いに対向する長辺および短辺のうち、その長辺の両端において規定される２つの断面角度が互いに異なる四角形状の断面形状を有するパターン膜を可能な限り高精度に形成することが可能なパターン膜の形成方法を提供する。 - 特許庁

To provide a semiconductor device tape carrier, a semiconductor device and a semiconductor device tape carrier manufacturing method, which can achieve a flat and uniform etching surface and form a stepped portion having a resist pattern-based shape when forming the stepped portion in a wiring pattern by half etching.例文帳に追加

ハーフエッチングにより配線パターンに段差を形成する際に、平坦で均一なエッチング面を得ることが可能であり、レジストパターンに忠実な形状の段差を形成することが可能な半導体装置用テープキャリア、半導体装置及び半導体装置用テープキャリアの製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a radiation sensitive resin composition having high radiation sensitivity, having a developing margin of forming a satisfactory pattern shape even when exceeding the optimum developing time in a developing process, and can form easily a pattern-like thin film excellent in tightness.例文帳に追加

高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

The radial line pattern 22 approaching the line pattern 21 of the multiple spiral shape of the multiple spiral resonator acts like adding a static capacitance to the multiple spiral resonator to reduce the occupied area of the resonator on the board and to enhance the loss reduction effect.例文帳に追加

この多重スパイラル状線路による多重スパイラル共振器に対する放射状線路パターン２２の近接によって、多重スパイラル共振器に静電容量が付加されたように作用し、基板上の共振器の占有面積の縮小化および損失低減効果の向上が図れる。 - 特許庁

The semiconductor device comprises a MOS transistor formed on a semiconductor substrate, wiring connected to a gate electrode for composing the MOS transistor via a first insulation film, an antenna pattern in L/S shape connected to the wring, and a second insulation film forming on the wiring and the antenna pattern.例文帳に追加

半導体基板上に形成されたＭＯＳトランジスタと、第１絶縁膜を介して前記ＭＯＳトランジスタを構成するゲート電極に接続された配線と、該配線に接続されたＬ／Ｓ状のアンテナパターンと、前記配線及びアンテナパターン上に形成された第２絶縁膜からなる半導体装置。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which ensures excellent sensitivity even when applied to an LDI system, and enables to form a resist pattern having good resist shape free of undercut, overhang, etc., and a photosensitive film, a resist pattern forming method and a permanent resist using the same.例文帳に追加

ＬＤＩ方式に適用した場合でも優れた感度が得られ、且つ、アンダーカットやオーバーハング等のない良好なレジスト形状を有するレジストパターンが形成可能な感光性樹脂組成物、並びにこれを用いた感光性フィルム、レジストパターンの形成方法及び永久レジストを提供すること。 - 特許庁

To obtain a base sheet for lithography giving a resist pattern having a rectangular cross-sectional shape without causing phenomena such as trailing and constriction in the lower part of the pattern even if short-wavelength light such as excimer laser light is used as a light source when the base sheet is disposed between a substrate and a resist layer.例文帳に追加

基板とレジスト層との間に設けることで、エキシマレーザー光などの短波長光を光源としても、パターン下部に発生する裾引きやくびれなどの現象を起こすことなく、断面形状が矩形のレジストパターンを与えるリソグラフィー用下地材を提供する。 - 特許庁

To provide a high refractive index liquid for liquid immersion exposure capable of forming a pattern having more excellent resolution by preventing elusion and dissolution of a photoresist film or its overlying film component and suppressing deterioration of a pattern shape and capable of being reused and purified, and to provide a liquid immersion exposure method employing the liquid.例文帳に追加

液浸露光方法において、屈折率が大きく、フォトレジスト膜あるいはその上層膜成分の溶出や溶解を防ぎ、パターン形状の劣化を抑え、より解像度の優れたパターンを形成できるとともに、液体の再利用および精製が容易である。 - 特許庁

In the lithography which utilizes an electron emission by a ferroelectric substance switching performed in the ferroelectric substance emitter like this, more uniform electron emission is guaranteed regardless of an interval of the mask pattern, and even in a pattern formed in isolation with a donut-like shape.例文帳に追加

このような強誘電体エミッタで行なわれる、強誘電体のスイッチングによるエレクトロンエミッションを利用したリソグラフィーにあっては、マスクパターンの間隔によらず、さらにドーナツ状に孤立して形成されたパターンでも、より均一なエレクトロンエミッションが保証されるようになる。 - 特許庁

The wireless IC device comprises: a dielectric element body 20 forming a rectangular parallelepiped shape; a metal pattern 30 which is provided on a surface of the dielectric element body 20 and functions as the radiator; and a wireless IC element 50 combined with electric supply parts 35a, 35b in the metal pattern 30.例文帳に追加

直方体形状をなす誘電体素体２０と、誘電体素体２０の表面に設けられて放射体として機能する金属パターン３０と、金属パターン３０の給電部３５ａ，３５ｂに結合された無線ＩＣ素子５０と、を備えた無線ＩＣデバイス。 - 特許庁

To provide a method and apparatus for processing development, capable of developing a resist pattern having a rectangle shape whose tip is not rounded, and capable of processing with sufficient accuracy a film to be etched, when etching the under layer film to be etched using the resist pattern as a mask.例文帳に追加

先端が丸みを帯びない矩形形状を有するレジストパターンを現像することができ、レジストパターンをマスクに用いて下層の被エッチング膜をエッチング処理により加工する際に、被エッチング膜を精度よく加工することができる現像処理方法及び現像処理装置を提供する。 - 特許庁

The wireless IC device comprises: a dielectric element body 20 forming a rectangular parallelepiped shape; a metal pattern 30 which is provided on a surface of the dielectric element body 20 via a film 38 and functions as the radiator; and a wireless IC element 50 combined with electric supply parts 35a, 35b in the metal pattern 30.例文帳に追加

直方体形状をなす誘電体素体２０と、誘電体素体２０の表面にフィルム３８を介して設けられて放射体として機能する金属パターン３０と、金属パターン３０の給電部３５ａ，３５ｂに結合された無線ＩＣ素子５０と、を備えた無線ＩＣデバイス。 - 特許庁

To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition which is excellent in sensitivity, exposure dependence, resolution, roughness characteristics, and focus latitude, which reduces scum, and which forms a pattern with an adequate shape, and to provide a resist film and a pattern forming method using the same.例文帳に追加

感度、露光量依存性、解像力、ラフネス特性、及びフォーカス余裕度に優れ、スカムを低減し、かつ良好な形状のパターンを形成可能とする感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、並びにそれを用いたレジスト膜及びパターン形成方法を提供する。 - 特許庁

Consequently, a pattern finally formed on a substrate by pulling on right-angled vertexes of the outer periphery of the opening part or light shield part 14a of the photomask and the correction pattern has small distortion and is in a shape having small corner roundness, i.e. a small R value.例文帳に追加

これによって、フォトマスクの開口部または遮光部１４ａの外周と補正パターンとの直角部頂点が引っ張り合うような形で、最終的に基板上に形成されるパターンは、歪みも小さく、コーナーの丸み、すなわちＲ値も小さく抑えた形状を得ることができる。 - 特許庁

To obtain a base sheet for lithography disposed between a substrate and a resist layer so as to give a resist pattern having a rectangular cross-sectional shape without causing phenomena such as trailing and constriction in the lower part of the pattern even if short-wavelength light such as excimer laser light is used as a light source.例文帳に追加

エキシマレーザー光などの短波長光を光源としても、パターン下部に発生する裾引きやくびれなどの現象を起こすことなく、断面形状が矩形のレジストパターンを与えるために、基板とレジスト層との間に施こすリソグラフィー用下地材を提供する。 - 特許庁

A CPU 160 of a printer 100 divides image data of a target window into blocks of 8×8 pixels, calculates a coefficient group representing a change in a pixel value in each block and selects from an edge pattern table 181 a basic edge pattern approximating a change shape of the coefficient group.例文帳に追加

プリンタ１００のＣＰＵ１６０は、注目ウィンドウの画像データを８画素×８画素のブロックに分割し、このブロックごとに、画素値の変化を表す係数群を算出し、その係数群の変化形状に近似する基本エッジパターンをエッジパターンテーブル１８１から選出する。 - 特許庁

To provide a cubic effect forming exterior material embodying actual metallic feeling and the cubic effect of a pattern using the difference of refraction, transmission and reflection by controlling the shape or numerical change of the formed pattern as well as the printing characteristics of metal paste (or ink) and a method of manufacturing the same.例文帳に追加

成形されたパターンの形状や数値の変化と同時に金属ペースト（またはインキ）の印刷特性を調節し、屈折、透過、反射率の差を用いて実際の金属感及びパターンの立体感を具現する立体感形成外装材及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁

The circuit device 10A principally includes a circuit board 12 bent in a bending region 14, a conductive pattern 16 in a predetermined shape formed on an upper surface of the circuit board, and circuit elements such as a semiconductor element 18 or the like electrically connected to the conductive pattern 16.例文帳に追加

回路装置１０Ａは、曲折領域１４にて曲折された回路基板１２と、回路基板の上面に形成された所定形状の導電パターン１６と、導電パターン１６に電気的に接続された半導体素子１８等の回路素子と、を主要に備えている。 - 特許庁

To attain plotting with high accuracy and at high speed with fixed exposure on the substrate as a whole, by further enhancing the flexibility in exposure adjustment in scanning and plotting a fine pattern formed on a magnetic disk medium by electron beams, and plotting the complicated shape of the fine pattern with high accuracy.例文帳に追加

磁気ディスク媒体に形成する微細パターンの電子ビームによる走査描画における照射線量調整の自由度をさらに高めて、微細パターンの複雑な形状の描画を高精度に行い、基板全体で一定の照射線量で高精度かつ高速に描画可能とする。 - 特許庁

A mask shown in (a) is formed with a pattern (black marked portion) not transmitting light in a portion (hereinafter referred to as boundary portion) corresponding to the boundary between the unit microlenses, and has a gray degree distribution corresponding to a shape pattern of an objective microlens array in the other portion.例文帳に追加

（ａ）に示されたマスクは、単位マイクロレンズ同士の境界に当たる部分（境界部分と称する）には、光を透過させないパターン（黒塗り部分）が形成され、その他の部分は、目的とするマイクロレンズアレイの形状パターンに対応するグレー度分布を有するマスクである。 - 特許庁

The continuous recording layer is worked to the irregular pattern shape and after a recording element 32A is formed as the projecting part of the irregular pattern, the body 10 to be worked is irradiated with an ion beam from a direction inclined with a direction perpendicular to its surface to remove the projection 38 near the top surface end of the element 32.例文帳に追加

連続記録層を凹凸パターン形状に加工し、該凹凸パターンの凸部として記録要素３２Ａを形成してから、被加工体１０の表面に垂直な方向に対し、傾斜した方向からイオンビームを照射し、記録要素３２Ａの上面端部近傍の突起３８を除去する。 - 特許庁

To provide a radiation-sensitive resin composition and a resist pattern forming method capable of suppressing the occurrence of development defects at an unexposed part while securing hydrophobicity during liquid immersion exposure and hydrophilicity during developing on a resist-coated surface and maintaining excellence in the resulting pattern shape.例文帳に追加

レジスト被膜表面における液浸露光時の疎水性と現像時の親水性とを確保し、かつ得られるパターン形状の良好性を保持しつつ、未露光部における現像欠陥の発生を抑制できる感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法の提供を目的とする。 - 特許庁

To provide a transparent electrode substrate excellent in conductivity, capable of maintaining high levels of adhesion, storage stability and conductivity, and also excellent in heat resistance and moist heat resistance, while a pattern with high resolution can be formed in an electrode obtained by performing patterning and a pattern shape is also excellent.例文帳に追加

導電性に優れ、かつ、密着性、保存安定性、導通率を高いレベルで維持することができ、耐熱性、耐湿熱性も良好であり、パターニングを行って得られた電極は、解像度の高いパターンが形成でき、パターン形状も良好である、透明電極基板を提供すること。 - 特許庁