「spacing S」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

When attribute information on the continuously conveyed sheets S does not meet the predetermined condition, the conveying spacing of the sheets S in the image forming device A is set to be the second conveying spacing larger than the first one, and the sheets S do not overlap each other in the intermediate conveying device B.例文帳に追加

また、連続して搬送されるシートＳの属性情報が所定の条件に該当しないとき、画像形成装置ＡにおけるシートＳの搬送間隔を第１の搬送間隔より広い第２の搬送間隔とし、且つ中間搬送装置ＢにおいてシートＳを重ね合わせない。 - 特許庁

The stationary coil 44 faces the spacing S set between the magnet 42 and the opposed yoke 43, by which the annular magnetic circuit M by the magnetic field in an axial direction is acted on the stationary coil 44 within the spacing 4.例文帳に追加

また、固定コイル４４はマグネット４２と対向ヨーク４３との間に設定した隙間Ｓに臨んでおり、これにより固定コイル４４は隙間Ｓ内で軸方向の磁界によるリング状の磁気回路Ｍが作用するようになっている。 - 特許庁

This tile unit 1 is equipped with a plurality of tiles 2, and a tile connecting means 3 for integrally-connecting the above tiles 2 with joint spacing S maintained.例文帳に追加

複数のタイル２と、タイル２を目地間隔Ｓを維持したまま一体に連結するタイル連結手段３とを具えたタイルユニット１である。 - 特許庁

The rugged surface of the light diffusing layer has a mean spacing S at local peaks of ≤40 μm and has ten-point mean roughness of ≤5 μm.例文帳に追加

光拡散層の凹凸表面は、局部山頂平均間隔Ｓが４０μｍ以下で且つ十点平均粗さＲｚが５μｍ以下である。 - 特許庁

At a certain spacing, seismic wave sensors Z1-Z8 are installed radially around the device body S with which a control device 30 is connected.例文帳に追加

制御装置３０が接続された装置本体Ｓの周囲に所定距離隔てて放射状に地震波検出センサＺ１〜８を配置する。 - 特許庁

The fine ruggedness on the surface of the flat parts is formed so that the average spacing (S_m) of a roughness curve is ≤700 nm.例文帳に追加

めっき面平坦部の微細凹凸は、粗さ曲線の凹凸の平均間隔（Ｓ_m）が７００ｎｍ以下である。 - 特許庁

Further, a spacing section 5 is formed so as to be along a vertical surface, and therefore concrete spread is enhanced, to thereby prevent formation of voids, honeycombs, etc. under the spacer S.例文帳に追加

また、間隔保持部５が、鉛直面に沿うように形成され、コンクリートの回りを良くし、スペーサＳ下の空隙・ジャンカ等の発生を防ぐ。 - 特許庁

In addition to or in lieu of gap(s), the wheel can be furnished with a plurality of holes arranged alike at a constant spacing.例文帳に追加

ギャップに加えて又はギャップの代わりに、ホイールに等間隔で同じ様に配置される複数の孔を設けることもできる。 - 特許庁

The spacing between the substrate and S 1 may be selected to make the capacitance between S 1 and the substrate approximately equal to the capacitance between S 2 and the substrate to substantially reduce interference pickup in the high frequency region.例文帳に追加

基板とS1との間のスペースdをS1と基板の間の電気容量とS2と基板の間の電気容量をほぼ等しくして、高周波数領域内での干渉ピックアップをかなり低減することができる。 - 特許庁

When attribute information (the size, the kind or the like) of sheets S to be continuously conveyed meets the predetermined condition, the conveying spacing of the sheets S in an image forming device A is defined as a first conveying spacing, and a plurality of sheets overlap in an intermediate conveying device B.例文帳に追加

連続して搬送されるシートＳの属性情報（サイズや種類等）が所定の条件に該当するとき、画像形成装置ＡにおけるシートＳの搬送間隔を第１の搬送間隔とし、且つ中間搬送装置Ｂにおいてシートを複数枚重ね合わせる。 - 特許庁

The integrate panel 10 is arranged with a spacing S from a surface of an existing concrete 1 in a condition where the polyurethane foam 15 side is directed to the existing concrete 1 side, and a mortar or a fiber-mixed mortar 30 is filled in the spacing S.例文帳に追加

また、 既設コンクリート１の表面から間隙Ｓをおいて、一体化パネル１０を、ポリウレタンフォーム１５側を既設コンクリート１側に向けた状態で配置し、 間隙Ｓに、モルタル又は繊維混入モルタル３０を充填する、コンクリート構造物の補強方法とする。 - 特許庁

This rubber composition is obtained by compounding a diene rubber material as the rubber component with carbon black ≥60 nm in the carbon-carbon spacing (S) calculated by a specified formula.例文帳に追加

ジエン系ゴム材料をゴム成分として、これに、所定の式にて算出されるカーボン間距離（Ｓ）：６０ｎｍ以上であるカーボンブラックを配合せしめて、ゴム組成物とした。 - 特許庁

The flexure 23 with wiring is arranged through the spacing S between a pair of the hinge members 22a and 22b across the load beam 20 and the base part 17.例文帳に追加

配線付きフレキシャ２３は、一対のヒンジ部材２２ａ，２２ｂの間の隙間Ｓを通って、ロードビーム２０とベース部１７とにわたって配置されている。 - 特許庁

In the fine ruggedness, preferably, the average spacing (S) between local summits in a roughness curve is 10 to 1,000 nm, and the average roughness (Ra) is 1 to 100 nm.例文帳に追加

さらに、前記微細凹凸は、粗さ曲線の局部山頂の平均間隔（Ｓ）が１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、平均粗さ（Ｒａ）が１ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることことが好ましい。 - 特許庁

A detection roller 12 capable of changing a spacing from a feed roller 11 is vertically moved integrally with a block 13 to be vertically moved by a stepping motor S via a rod 15.例文帳に追加

送り出しローラー１１との間隔を変更可能な検出ローラー１２はステッピングモータＳにて上下動するブロック１３にロッド１５を介して一体的に上下動する。 - 特許庁

Metallic tapes 27 and 27' are embedded into both sides not provided with the tension members 23 so as to close the spacing portions S between the tension members 23 across the coated fiber optics 22.例文帳に追加

テンションメンバ２３が配されていない両側に、光ファイバ心線２２を挟んでテンションメンバ２３間の間隙部分Ｓを塞ぐように金属テープ２７，２７’を埋設する。 - 特許庁

For example, lever members 11 and 21 and an elastic member 31A receiving a tensile load are used, and a spacing between points U of application is set to be larger than that between fixed supports S.例文帳に追加

たとえばレバー部材１１，２１、および、引張荷重を受ける弾性部材３１Ａを用い、作用点Ｕ同士の間隔を固定支点Ｓ同士の間隔よりも大きく設定する。 - 特許庁

The spacing maintaining member 51, which has a thickness dimension identical with each of the dimensions of gaps S formed among the plurality of split forms 211-216, can be deformed in such a manner to reduce the thickness dimension.例文帳に追加

この間隔保持部材５１は、複数の分割型枠２１１〜２１６の間に形成される隙間Ｓの寸法と同一の厚さ寸法を有するとともに、この厚さ寸法を縮小するように変形可能である。 - 特許庁

The pneumatic tire is structured so that between left and right bead parts 3, carcass layers 5 are arranged where reinforcing cords C extending in the tire radial direction are laid at a certain spacing in the tire circumferential direction S.例文帳に追加

タイヤ径方向に延在する補強コードＣをタイヤ周方向Ｓに所定の間隔で配列したカーカス層５を左右のビード部３間に有している。 - 特許庁

In a method of manufacturing zinc balls B by performing form rolling of a zinc bar S in a warm condition, and cutting the bar from its fore end at a predetermined spacing, the temperature of the zinc bar is set to be ≥70°C and ≤180°C when performing the form rolling thereof.例文帳に追加

亜鉛棒Ｓを温間で転造することにより先端から所定間隔で切断し、亜鉛ボールBを製造する方法であって、転造する際に亜鉛棒の温度を７０℃以上、１８０℃以下に設定する。 - 特許庁

The cover glass sheets 10 are provided with spacing S between the end edges of the cover glass sheets 10 adjacent to each other around scribing lines L by each of the chip substrate regions 3 cut out to the plurality.例文帳に追加

カバーガラス１０は複数枚に切り出されるチップ基板領域３毎に設けられており、互いに隣接するカバーガラス１０の端縁間にはスクライブラインＬを略中心として間隔Ｓが設けられている。 - 特許庁

The sprayed coating 3 has a surface roughness in which the average spacing S of local summits lies in the range of 50 to 150 μm, and the maximum root depth Rv and the maximum peak height Rp respectively lie in the range of 20 to 70 μm.例文帳に追加

溶射膜３は、局部山頂の平均間隔Ｓが50〜150μmの範囲、最大谷深さＲvおよび最大山高さＲpがそれぞれ20〜70μmの範囲の表面粗さを有する。 - 特許庁

Preferably the arithmetic mean roughness (Ra) in JIS B0601:1994 of the surface of the image accepting layer is made 0.9 μm or less and the local peak average spacing (S) thereof 60 μm or more.例文帳に追加

好ましくは、前記画像受理層の表面のＪＩＳ Ｂ０６０１：１９９４における算術平均粗さ（Ｒａ）を０．９μｍ以下、局部山頂平均間隔（Ｓ）を６０μｍ以上となるように構成する。 - 特許庁

Due to the recessed part 2, an outer design of the splashguard 1 is not deteriorated, so as to fully secure a spacing s between the splashguard 1 and a jack arm part 7a.例文帳に追加

凹形状部２により、スプラッシュガード１の外観意匠を損なわず、スプラッシュガード１とジャッキアーム部７ａとの間のスキマｓを十分に確保できる。 - 特許庁

In the top view showing the surface of the semiconductor substrate, a spacing S between the end of the floating gate 9 and the end of the barrier layer 15 is set to be not more than 2 μm.例文帳に追加

そして、半導体基板の表面を上から見たときのフローティングゲート９の端部とバリア層１５の端部との間隔Ｓを２μｍ以下とする。 - 特許庁

The coil 34 has a long, narrow opening shape of which the longitudinal direction is set to be the radial direction and is arranged in the center of the spacing S in the axial direction so that the spiral and the opening face each other.例文帳に追加

コイル３４は開口形状が細長とされて、その長手方向が上記径方向とされ、かつ上記渦巻線と開口が対向するように間隙Ｓの上記軸心方向中央に配置される。 - 特許庁

These second flow-out preventing walls 26, 26 are formed with a spacing set with respect to the top face 24a of the wall part 24 at the lower face in the rising direction S.例文帳に追加

こうした第２流出防止壁２６，２６は、立ち上がり方向Ｓにおける下面で壁部２４の頂面２４ａに対して間隔を空けて形成される。 - 特許庁

The sprayed deposit 3 has the following surface roughness: the average spacing S between local peaks is 50-150 μm; and the maximum valley depth of roughness Rv and the maximum peak height of roughness Rp are 20-70 μm, respectively.例文帳に追加

溶射膜３は、局部山頂の平均間隔Ｓが50〜150μmの範囲、最大谷深さＲvおよび最大山高さＲpがそれぞれ20〜70μmの範囲の表面粗さを有する。 - 特許庁

Further, 32 surface-emission lasers forming the two surface emission laser groups make an equal spacing d3 when they are projected onto virtual lines extending in the S-direction.例文帳に追加

さらに、２つの面発光レーザ群を構成する３２個の面発光レーザは、Ｓ方向に延びる仮想線上に正射影したときの間隔が等間隔ｄ３である。 - 特許庁

Ornament 3 are mounted at a core wire 2 consisting of a shape memory alloy formed to an annular shape of a fixed shape having a spacing S for mounting a fixture 1.例文帳に追加

また、従来の装身具において、芯線に針金等、只の金属性を用いたものでは、弾力性がないので、少しでも曲がったりすると癖が付いて元の形状に戻らなくなり、また保管時や携帯時に小さく折り畳んだりすることができない。 - 特許庁

A chute 4 for collecting foreign matters falling from the spacing S between the cylindrical pipe 6 is arranged below the cylindrical pipes 6 and a hopper 5 for storing the collected foreign matters is placed at the downstream of the chute 4.例文帳に追加

各円筒パイプ６の下方に、円筒パイプ６間の隙間Ｓから落下する異物を収集するシューター４を配置し、シューター４の下流に収集された異物を収容するホッパー５を配置する。 - 特許庁

The first flow-out preventing walls 25, 25 contact the top face 24a of the wall part 24 at the lower face in the rising direction S, and the upper face is formed with a spacing to the organic EL element substrate 2.例文帳に追加

第１流出防止壁２５，２５は、立ち上がり方向Ｓにおける下面で壁部２４の頂面２４ａに接し、上面は有機ＥＬ素子基板２に対して間隔を空けて形成される。 - 特許庁

Fine ruggedness of 0.5 to 5.0 μm by arithmetic mean surface roughness Ra is applied to the surface (3a) of the surface treatment layer, and further, the mean spacing S of the local crests of the fine ruggedness is controlled to 0.5 to 50 μm, and also, an S/Ra ratio is controlled to <10.例文帳に追加

表面処理層の表面（３ａ）には０．５μｍ〜５．０μｍの算術平均表面粗さＲａで微細凹凸を与えるとともに、微細凹凸の局部山頂の平均間隔Ｓを０．５μｍ〜５０μｍ、且つ、Ｓ／Ｒａ比を１０未満としたことを特徴とする。 - 特許庁

As for the electrodes 1 for electroplating a metallic strip, on both end parts in the width direction of each electrode face confronted with the metallic strip S to be plated, slopes in which the spacing between the electrode face and the metallic strip S is made wide as it goes to the end part sides are formed, and the electrode face between both the slopes is made into a flat face.例文帳に追加

金属帯の電気めっき用の電極１であって、被めっき金属帯Ｓと対向する電極面の幅方向両端部に、端部側ほど電極面と被めっき金属帯Ｓとの間隔が大きくなるような傾斜面を形成し、両傾斜面間の電極面を平坦面とする。 - 特許庁

The positions of the rotary shafts 11a-15a are set so that the spacing between the adjacent fins is increased in the main flow side of the air flowing in the air passage S when the fins 11-15 are turned so that the air flow is deflected in the inclined direction with respect to the center line of the air passage S.例文帳に追加

回動軸１１ａ〜１５ａの位置は、空気流れが空気通路Ｓの中心線に対し傾斜する方向に曲がるようにフィン１１〜１５を回動させたときに、隣り合うフィンの間隔が空気通路Ｓ内を流れる空気の主流側で広くなるように設定されている。 - 特許庁

The heat treatment furnace functions to make a heat treatment of filament yarns by circulating a heat-treating gas through a heat treatment chamber provided with an inlet and an outlet for the traveling filament yarns, wherein the opening part(s) of said inlet and/or outlet is set with a slit spacing regulating member having opening/closing function so as to enable slit spacing to be varied.例文帳に追加

走行糸条の入り口部および出口部を有する熱処理室内に加熱処理気体を循環させて糸条を熱処理する熱処理炉であって、前記入り口部および／または出口部の開口部に、スリット間隔を変えることが可能な開閉機能を有するスリット間隔調節部材を配設したことを特徴とする熱処理炉。 - 特許庁

(c) In the case of an object with a height of 150 meters or more, said light(s) shall be installed at positions downward from the position prescribed in sub-item (a) in sequence with approximately equal spacing of 52.5 meters or less (in the case of an elevation of 150 meters or less, at the highest position). 例文帳に追加

ハ　百五十メートル以上の高さの物件にあつては、イに規定する位置から下方に順に垂直距離で五十二・五メートル以下のほぼ等間隔の位置（百五十メートル未満の位置にあつては、最も高い位置に限る。） - 日本法令外国語訳データベースシステム

By using two electron beam biprisms in two stages in the optical axis direction, not only the Fresnel diffraction can be avoided, but also the interference fringe spacing s and the interference region width W are independently controlled by controlling the respective electrode voltage of the electron beam biprism.例文帳に追加

２つの電子線バイプリズムを光軸方向に２段に用いることにより、フレネル回折を回避できるだけでなく、干渉縞間隔ｓと干渉領域幅Ｗを、それぞれの電子線バイプリズム電極電圧を制御して、独立にコントロールする。 - 特許庁

Gas is discharged from the center O of rotation of the wafer 2 on the rear surface side of the wafer 2 toward the diametral direction on the peripheral edge side of the wafer 2 and the intrusion of the developer 3 to the inner side through a spacing S between a knife edge ring 4 and the wafer 2 is blocked by this gaseous flow.例文帳に追加

ウェハー２の裏面側でウェハー２の回転中心Ｏからウェハー２の周縁側の径方向に向けてガスを吐出させ、そのガス流でナイフエッジリング４とウェハー２の隙間Ｓを通って現像液３が内側に入り込むのを阻止するようにしている。 - 特許庁

This web conveying device 10 is provided with a plurality of rolls 11a and 11b, which are arranged in parallel substantially while spacing their outer circumferential faces mutually at a fixed interval S, and a suction box 12 arranged on the opposite side to the web 50 traveling side of the rolls.例文帳に追加

ウエブ搬送装置１０は、外周面同士が所定間隔Ｓをあけて略平行に配置された複数のロール１１ａ，１１ｂと、それらロールのウエブ５０が走行する側とは反対側に配置されたサクションボックス１２とを備えている。 - 特許庁

A print head 1 is reciprocated while shifting the start position by a specified distance α (α=0.21 mm) at a time from a left limit position Lmax toward a right limit position Rmax wherein S=Smax/2 (Smax: maximum spacing distance).例文帳に追加

プリントヘッド１を左端限界位置Ｌｍａｘから右端限界位置Ｒｍａｘに向けて、そのスタート位置を所定距離α（α＝０．２１ｍｍ）ずつ移動させならが、Ｓ＝Ｓｍａｘ／２として、往復移動させる（Ｓｍａｘ：スペーシング最大距離）。 - 特許庁

Circular trenches T1-Tn of width S, depth (d), and spacing (w) are made at the topside of a semiconductor substrate of two layers of n+ and n, a silicon oxide film 8 of 7,000 Å or over is grown therein, and further is filled with polysilicon 10.例文帳に追加

ｎ^＋とｎの２層半導体基板上面に巾Ｓ深さｄ間間ｗの環状トレンチＴ_１〜Ｔ_ｎを形成し、その内部に７０００Å以上の膜厚のシリコン酸化膜８を成膜し、更にポリシリコン１０を充填する。 - 特許庁

The vacuum deposition system 10 includes a liquid supply mechanism 30 for supplying a liquid L into a spacing S between an outer peripheral surface 20a of a can roll 20 and a rear surface Fr of the resin film F, and a liquid removing mechanism 40 for removing the liquid L from the outer peripheral surface 20a.例文帳に追加

真空成膜装置１０には、キャンロール２０の外周面２０ａと樹脂フィルムＦの裏面Ｆｒとの隙間Ｓに液体Ｌを供給する液体供給機構３０と、外周面２０ａから液体Ｌを除去する液体除去機構４０とが備えられている。 - 特許庁

Furthermore, at a point in time when the character portion C is completely printed, the printer control CPU 5 notifies the end of printing of the row data to the fiscal control CPU 3 (step ST7) and performs paper feeding thereafter to form spacing S (step ST8).例文帳に追加

また、プリンター制御用ＣＰＵ５はキャラクター部分Ｃの印刷が終了した時点で、行データの印刷終了をフィスカル制御用ＣＰＵ３に通知し（ステップＳＴ７）、しかる後に、紙送りを行って行間Ｓを形成する（ステップＳＴ８）。 - 特許庁

It is characterized that the electrode digit width ratio W/(W+S) is in a range of ≥0.7 where the width of electrode digit 14 composing an interdigital electrode is W and the spacing between the digits is S in the surface acoustic wave filer 7 and 11 used in surface acoustic wave antenna shared device 1.例文帳に追加

弾性表面波アンテナ共用器１に用いられる弾性表面波フィルタ７、１１において、櫛歯状電極を構成する電極指１４の電極指幅をＷとし、電極指間のスペースをＳとしたとき、電極指幅比率Ｗ／（Ｗ＋Ｓ）が０．７以上の領域であることを特徴とする。 - 特許庁