「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(82ページ目) - Weblio英語例文検索

When the user selects and instructs the operation button on the projected operation surface; the instruction is projected by the CCD camera 61, and the instruction content is determined by the image processing circuit 62.例文帳に追加

この投影された操作面上の操作ボタンを使用者が選択指示すると、この指示をＣＣＤカメラ６１で撮影し、指示内容を画像処理回路６２で判定する。 - 特許庁

This image scanning apparatus 30 is connected to a host computer 40 and is move in the direction of the arrow (b) with respect to an image in an original surface 34 to perform image scanning processing.例文帳に追加

画像読取装置３０は、ホストコンピュータ４０と接続され、原稿面３４上の画像に対して矢印ｂ方向に移動させて画像読取処理を行う。 - 特許庁

When the restoration failure position list is not empty at the time of the completion of the data restoration processing of a whole medium surface, the restoration failure position list is reported to the host device 1.例文帳に追加

媒体全面のデータ復元処理が完了した時点で、復旧失敗位置リストが空でなければ、ホスト装置１に復旧失敗位置リストを報告する。 - 特許庁

To generate no environmental problem, to require no skill and to hardly reduce a mechanical property in a surface processing method of a lengthy substance.例文帳に追加

長尺物を表面加工する方法において、環境問題を引き起こすことがない上に熟練を要せず、しかも機械的性質が低下することもないようにする。 - 特許庁

Then, the image read area of the reading surface of the original platform is set based on the size of the original or the size of the recording medium acquired in procedures of the processing (S300).例文帳に追加

そして、前記処理の過程で取得された原稿サイズあるいは記録媒体サイズに基づき原稿台の読取面の画像読取領域を設定する（Ｓ３００）。 - 特許庁

In a substrate processing apparatus 1 that processes a substrate 9, an IPA jet nozzle 40 is arranged to face a surface to be processed of a substrate 9 held by a holder 21.例文帳に追加

基板９に処理を施す基板処理装置１において、支持部２１に支持された基板９の被処理面に対向してＩＰＡ噴出ノズル４０を設ける。 - 特許庁

An inspection mechanism 160 is provided inside surface of the carrying in/out port 111, that is inside of the processing container 110, to inspect the deposits on the backside of the wafer W.例文帳に追加

処理容器１１０内であって、搬入出口１１１側の内側面には、ウェハＷの裏面の付着物を検査する検査機構１６０が設けられている。 - 特許庁

To provide a base board polishing device capable of accurately controlling a polishing quantity, even if a little variation is caused in polishing pressure acting on a processing surface of a polishing object base board.例文帳に追加

被研磨基板の加工面に作用する研磨圧力に多少の変動が生じても研磨量を正確に制御することができる基板研磨装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate for a magnetic head having excellent surface smoothness which scarcely breaks in mechanical processing, ion irradiation and so on, its manufacturing method and a magnetic head slider.例文帳に追加

機械加工やイオン照射などの加工によっても破損が少なく、表面平滑性に優れた磁気ヘッド用基板及びその製造方法並びに磁気ヘッドスライダを提供する。 - 特許庁

The quartz oscillation piece 2 of a quartz oscillator is made by processing a quartz film 1, epitaxially grown on the surface of base material crystals 5.例文帳に追加

本発明による水晶振動子の水晶振動片２は、基材結晶５の表面にエピタキシャル成長させられた水晶薄膜１を加工して形成される。 - 特許庁

Continuously, the image of the surface mounting board is photographed by the camera 4, and the image processing part 8 inspects the printing condition of the cream solder on the pad from the image and determines the quality.例文帳に追加

続いて、カメラ４により表面実装基板の画像を撮像し、その画像から画像処理部８がパッドのクリームはんだの印刷状態を検査し、良否を判定する。 - 特許庁

A focused laser beam is scanned on the top surface of a sample to provide a controlled processing effect limited to a range along a beam diameter and a scanning path.例文帳に追加

ビーム直径及び走査経路に沿った範囲に限定された制御された処理効果を提供するようにサンプル表面上での集束レーザー・ビームの走査が行なわれる。 - 特許庁

In this method for forming a mask, a polymer layer 12 having a flat surface is formed on a semiconductor substrate 11 subjected to a specified processing so as to cover a step 11a thereof.例文帳に追加

所定の処理を施される半導体基板１１の段差１１ａを埋め、平らな表面を有するポリマー層１２を、半導体基板１１上に形成する。 - 特許庁

To provide a bottomed tube excellent in surface precision of a front and a back surfaces in the bottom part without developing uneven thickness at the bottom part of the bottomed tube, in the bottomed tube formed with a spinning processing.例文帳に追加

スピニング加工により成形される有底管において、その有底管の底部に偏肉がなく、底部の表裏面の面精度に優れた有底管を得る。 - 特許庁

To provide a ceramic heating resistor with high cooling efficiency maintaining evenness of temperature at heated surface, and a board processing device using such ceramic heating resistor.例文帳に追加

加熱面の均熱性を高く維持しつつ冷却効率の高いセラミックスヒーターを提供すること、およびこのようなセラミックスヒーターを用いた基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

In Fig. 1, 3 represents the anode oxide film formed by subjecting an outer peripheral surface of the thin hollow cylindrical core bar 1 directly to anode oxidation processing.例文帳に追加

図１において、３は、前記中空円筒状の薄肉芯金１の外周面に直接に陽極酸化処理を施すことによって形成された陽極酸化膜である。 - 特許庁

The latent heat load processing system 201 has a latent heat system compression mechanism 261 and the adsorption heat exchangers 222, 223, 232 and 233 for arranging an adsorbent on a surface.例文帳に追加

潜熱負荷処理システム２０１は、潜熱系統圧縮機構２６１と表面に吸着剤が設けられた吸着熱交換器２２２、２２３、２３２、２３３とを有する。 - 特許庁

In the method, magnetic powder, binder resin and wax are provided and surface processing is carried out on the magnetic toner by using a composite additive consisting of 2 types of additives with different primary particle diameters.例文帳に追加

磁性粉と、バインダー樹脂と、ワックスとを有し、１次粒径の異なる２種の外添剤からなる複合外添剤を使用して磁性トナーに表面処理を施す。 - 特許庁

To obtain a releasing film comprising a biaxial stretched polypropylene film having an excellent processing suitability and heat resistance, in which a resin layer for releasing is formed at least on one surface.例文帳に追加

加工適性、耐熱性に優れた少なくとも片面に離型用樹脂層が形成された二軸延伸ポリプロピレンフィルムからなる離型フィルムを得ることを目的とする。 - 特許庁

Cylinder shaped recesses 24a are formed periodically at a fixed pitch in the surface of the dielectric 24 transmitting the microwave exposed to the ceiling of a processing container 10.例文帳に追加

マイクロ波を透過させる誘電体２４には，処理容器１０の天上部に露出した表面にて一定のピッチでシリンダ形状の凹部２４ａが周期的に形成される。 - 特許庁

To provide a substrate processing device for preventing ingress of atmosphere surrounding a substrate and a blocking member, to between the substrate and the blocking member arranged while facing the surface of the substrate.例文帳に追加

基板と基板の表面に対向配置される遮断部材と間にそれらの周囲の雰囲気が進入するのを防止する基板処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a discharge plasma processing apparatus having a simple structure and using an electrode on the surface of which a solid dielectric is formed directly.例文帳に追加

放電プラズマ処理装置において、簡易な構成で電極の表面に直接固体誘電体を形成した電極を用いる放電プラズマ処理装置の提供。 - 特許庁

Subsequently, the clamp 11 is lowered to a wafer processing position (II) and the temperature of the wafer W is settled at a specified level before a thin film is formed on the filming surface thereof.例文帳に追加

その後、クランプ１１をウエハ処理位置（ＩＩ）に下降させてウエハＷの所定の温度に安定させてからウエハＷの被成膜面に薄膜を形成する。 - 特許庁

Paper sheet processing is performed using a header card, having one or more lines of block patterns recording ticket code information for identifying the header card printed on at least one main surface.例文帳に追加

少なくとも一主面に、これを識別するための券コード情報を記録した一列以上のブロックパターンが印刷されたヘッダカードを用いて紙葉類処理を行う。 - 特許庁

The principal surface BS including a first region and a second region with a processing distortion deeper than the first region is formed by grinding a wafer WF.例文帳に追加

ウエハＷＦを研削することにより、第１の領域と、第１の領域よりも深い加工歪を有する第２の領域とを含む主面ＢＳが形成される。 - 特許庁

A pixel processing part 1 inputs three-dimensional coordinate data of an object to be plotted and outputs pixel information which is transformed into that an a two-dimensional coordinate while erasing an hidden surface.例文帳に追加

画素処理部１は、描画対象オブジェクトの３次元座標データを入力し、隠面消去を行いながら、２次元座標に変換された画素情報を出力する。 - 特許庁

A touch pad special operation processing program 93 makes an operating system 91 close the window of an application program 201 in accordance with the instruction release of the surface of the pad 11.例文帳に追加

タッチパッド特殊動作処理プログラム９３は、タッチパッド１１の面の指示の解除に対応して、オペレーティングシステム９１に、アプリケーションプログラム２０１のウィンドウを閉じさせる。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a thin polyolefin resin expanded sheet which does not require a processing step such as a surface heat treatment and has a skin layer formed on both sides.例文帳に追加

表面熱処理等の加工工程を必要とせずに、両面にスキン層を有し、かつ厚みの薄いポリオレフィン系樹脂発泡シートを得るための製造方法を提供する。 - 特許庁

The structure includes a step of processing the chemically etched dielectric material to change chemical properties of the dielectric material so that the processed surface can become hydrophobic.例文帳に追加

本発明によれば、化学的にエッチングした誘電材料に処理ステップを行って、処理した表面が疎水性になるように誘電材料の化学的性質を変更する。 - 特許庁

The substrate processing container 10 has a structure in which an inner wall surface is processed resistive to plasma, and a stage 13 integrally formed with a container body 11 to place a substrate S.例文帳に追加

基板処理容器１０は、内壁面に耐プラズマ処理が施された容器本体１１と、基板Ｓを載置するステージ１３とが一体的に形成された構成を有している。 - 特許庁

An apparatus (106) and the methods for reactive atom plasma processing can be used to shape, polish, planarize, and clean the surface of material with minimal subsurface damage.例文帳に追加

表面下の損傷を最小限に抑えて材料の表面を成形、研磨、平坦化、及び洗浄する反応原子プラズマ処理のための装置（１０６）及び方法。 - 特許庁

To provide a magnetic developing roll that it can be manufactured in a simple process, processing precision is good and a desired state of a surface is easily produced.例文帳に追加

簡単な工程で製造することができる上に、加工精度が良好であると共に、所望の表面性状を容易に発現できる磁性現像ローラを提供すること。 - 特許庁

When fixing processing is carried out by a cooling fixing part, a highly glossy toner image having uniformly smooth surface is formed as shown in Fig.(a).例文帳に追加

冷却定着部によって定着処理が行われると、図（ａ）に示したように、トナー像の表面が一様に平滑な面となった高光沢なトナー像が形成される。 - 特許庁

The whole surface of the metal plate 40 containing the circuit 60 is subjected to sandblast processing, by which a conductive reaction layer 70 left on the metal-removed part 36a of the circuit 36 is removed.例文帳に追加

その後、回路３６を含む全面に対してサンドブラスト処理を行って、回路３６の金属除去部分３６ａに残存する導電性反応層７０を除去する。 - 特許庁

To provide an image processing method and program allowing an operator to simultaneously observe the inside of an anfractuous tubular tissue such as the large intestine, with an inner wall surface.例文帳に追加

大腸のように屈曲の多い管状組織の壁の内部及び内壁面を同時に観察することができる画像処理方法及び画像処理プログラムを提供する。 - 特許庁

A method for manufacturing the silicon substrate for magnetic recording medium carries out CMP processing by using acidic or neutral slurry when flattening the surface by polishing the polycrystalline silicon substrate obtained through coring.例文帳に追加

コア抜きして得られた多結晶シリコン基板に研磨を施して表面を平滑化（平坦化）するに際して、中性もしくは酸性のスラリを用いたＣＭＰ処理を施す。 - 特許庁

(a) Data pertaining to processing by super-plastic molding of aluminum alloys, titanium alloys or super alloys, and to the surface treatment, deformation rate, temperature or pressure of processed materials 例文帳に追加

イ　アルミニウム合金、チタン合金又は超合金の超塑性成形による加工に係るものであって、加工材料の表面処理、歪率、温度又は圧力に係るもの - 日本法令外国語訳データベースシステム

By applying anodic oxidation processing to the Al layer 5 (alumite treatment), a part from a surface of the Al layer 5 to designated depth is changed to an alumite layer 6 in which pore 6a exists.例文帳に追加

Ａｌ層５の陽極酸化処理（アルマイト処理）を行うことにより、Ａｌ層５の表面から所定の深さまでを、ポア６ａが存在するアルマイト層６に変化させる。 - 特許庁

A silicon nitride film 18 is formed, after plasma processing surface of a copper wiring 17 with a raw gas, including nitrogen element to form copper nitride layer 24.例文帳に追加

銅配線１７上表面を窒素元素を含む原料ガスを用いてプラズマ処理することにより窒化銅層２４を形成し、その後、シリコン窒化膜１８を形成する。 - 特許庁

Further, the reformed layer is formed by washing the surface of the thin base material plate with a processing liquid mainly made of acid ammonium fluoride and nitric acid.例文帳に追加

薄板母材の表面にその改質層を酸性フッ化アンモニウム及び硝酸を主成分とする処理液で洗浄することにより形成するメタルマスクの製造方法。 - 特許庁

To provide a method for recognizing a fillet surface from a measurement point group that is a three-dimensional shape result of a three-dimensional object, a recognition program, and a measurement information processing device.例文帳に追加

３次元物体の３次元形状結果である計測点群から、フィレット面を認識する認識方法、認識プログラム及び計測情報処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a decorative construction method capable of securing superior waterproofness, while making a joint part inconspicuous, in a wall surface of applying waterproof processing by using a dry joint material.例文帳に追加

乾式目地材を用いて防水処理を施した壁面において、目地部を目立たたなくするとともに、優れた防水性が確保できる化粧工法を提供する。 - 特許庁

An image photographed by the camera in this while is transferred to an image processing device 11, and thereby an image of the peripheral surface of the container is acquired and compared with a reference image, to thereby determine its quality.例文帳に追加

この間にカメラが撮影した映像は画像処理装置１１に送られ、容器の外周面の画像が得られ、それを基準画像と比較し、良否を判定する。 - 特許庁

To provide a polyester film, which has a lusterless surface at least on one side, a low haze and high transparency, and is excellent in manufacturing/handling/processing characteristics.例文帳に追加

艶消し性表面を少なくとも片面に有し、低不透明度および高透明性を有し、製造・取扱い性・加工特性に優れたポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁

To provide a surface treating device for a magnetic tape, capable of improving a yield by batch-processing without increasing the number of steps even for a wide tape.例文帳に追加

幅広のテープ幅であっても工程数を増やすことなく一括処理することによって、歩留まりを向上させることができる磁気テープの表面処理装置を提供する。 - 特許庁