「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(79ページ目) - Weblio英語例文検索

A control device 5 includes: a display processing part 51 for causing a display device 3 to display an operating image and a target image; and an operation processing part 52 for changing a position of the operating image inside a display surface 30 on the basis of a center of gravity position of a user 2.例文帳に追加

制御装置５は、操作図像および目標図像を表示装置３に表示させる表示処理部５１と、使用者２の重心位置に基づいて表示面３０内での操作図像の位置を変化させる操作処理部５２とを有している。 - 特許庁

To provide a processing method and a processing machine for manufacturing an optical surface formed into a complicated shape, in particular, a lens for eye and a mold for manufacturing the lens for eye directly in only one process by setting data individually.例文帳に追加

形状的に複雑に形成される光学的表面、特に眼用レンズおよびこの眼用レンズを製造するための型枠をも、個別のデータ設定によりただ一回の工程で直接製造できるよ加工方法および加工機を提供する。 - 特許庁

In a method for processing the transparent gas barrier film wherein a ceramics layer is provided on at least the single surface of a plastic film, a processing condition is set so that the dimensional change ratio of the plastic film becomes ±2% or less.例文帳に追加

プラスチックフィルムの少なくとも片面にセラミックス層を設けた透明ガスバリアフィルムの加工方法であって、プラスチックフィルムの寸法変化率が±２％以下となるような加工条件で行うことを特徴とする透明ガスバリアフィルムの加工方法。 - 特許庁

To provide a lift off method and device capable of uniformly processing the lift off of all the surface of a large diameter wafer, requiring a few quantity of a parting liquid and a displacement liquid, causing no reattachment of an exfoliated metal film, and efficiently processing even a cracked wafer.例文帳に追加

大口径のウエーハでも全面を均一にリフトオフ処理でき、剥離液や置換液の量も少なく、剥離したメタル膜の再付着もなく、割れたウエーハでも効率よく処理できるようにしたリフトオフ方法及び装置を提供する。 - 特許庁

To provide an endless metal belt manufacturing method capable of improving the accuracy of the circumferential length adjustment of the endless metal belt utilizing the shot peening in the endless metal belt manufacturing method improved in fatigue strength by processing the shot peening after processing the surface hardening.例文帳に追加

表面硬化処理後にショットピーニングし疲労強度を向上させた無端金属ベルトの製造方法における、ショットピーニングを利用した無端金属ベルトの周長調整の精度を上げることができる無端金属ベルトの製造方法の提供。 - 特許庁

To provide a processing method in which a design form and masking are not used when design is applied to a surface, a processing apparatus for materializing the method, a wall panel formed by adopting the method, and a building using the wall panel.例文帳に追加

表面に意匠を施すに際し、意匠型枠やマスキングを用いることのない加工方法と、この加工方法を実現する加工装置と、前記方法を採用して形成された壁パネルと、この壁パネルを用いた建築物を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing method, an image processing device, a program, and a recording medium capable of detecting defects of irregularities and stabilizing inspection, independently of the type of tire, the state of tire surface, and positional relation of illumination.例文帳に追加

タイヤの種類、タイヤ表面の状態および照明の位置関係に依存することなく、凹凸欠陥を検出することができ、検査の安定化を図ることができる画像処理方法、画像処理装置、プログラムおよび記録媒体を提供する。 - 特許庁

To save useless cost such as waste of forming material cost, processing cost, processing time, and manufacturing cost of rubber mold, in the rubber mold which is held in a forming vessel of a cold isostatic pressing device and pressed on its whole outer surface.例文帳に追加

冷間等方圧加圧装置の成形容器内に収納して外面全面を加圧されるゴム型において、成形材料のコスト的な無駄をはじめ、加工コストや加工時間、ゴム型の製作コストなどについて無駄を省くことができるようにする。 - 特許庁

When performing the finishing processing of the end surface of the main shaft end plate and auxiliary shaft end plate, strain in the bolt fastening of the main shaft end plate and the auxiliary shaft end plate is removed by performing the finishing processing while applying an axial force to a bolt fastening part.例文帳に追加

主軸端板および補助軸端板の端面の仕上げ加工を行う際に、ボルト締結部に軸力を加えた状態で仕上げ加工を行うことにより主軸端板および補助軸端板のボルト締結時の歪みを除去するものである。 - 特許庁

To provide a member for semiconductor processing apparatus for controlling radicals in the semiconductor processing apparatus not to become superfluous and preventing corrosion of the member or unnecessary etching on a device surface of a wafer.例文帳に追加

半導体処理装置におけるラジカルが過剰となるのを抑制し、半導体処理装置の部材の腐食やウェハのデバイス面における不要なエッチングを防止する半導体処理装置部材およびそれを備えた半導体処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a multilayer inductor that prevents a conductor pattern from blurring to stably form the conductor pattern with no defects, has an advantage in flattening the multilayer surface and requires no special processing such as laser processing, and can realize miniaturization and high inductance value.例文帳に追加

導体パターンのにじみを防止でき、そして導体パターンを不良なく安定に形成でき、積層面の平坦化に有利性があってレーザ加工などの特別工程は必要なく、小型化および高インダクタンス値にし得る積層インダクタを提供すること - 特許庁

The laminating system comprises a unit for processing the surface of first and second substrates, an operating unit for overlaying the first and second substrates, and a chamber 201 for containing the processing unit and the operating unit and isolating them from the external space.例文帳に追加

第１、第２基板の表面を処理する処理装置と、第１基板と第２基板とを重ね合わせるための操作装置と、前記処理装置及び操作装置を、チャンバ２０１内部に収容して、チャンバ内部を外部空間から隔離する。 - 特許庁

To provide a processing device of relatively simple structure comprising a developing means capable of securely developing a processing liquid on a plate-shaped support to which a specimen is attached to an attached surface without requiring difficult manual work.例文帳に追加

構造が比較的簡単であり、被処理物を付着させた板状の支持体上の処理液を、難しい手作業を必要とすることなく、付着面上にムラなく確実に展開することができる展開手段を有する処理装置を提供すること。 - 特許庁

To provide a lightweight ceramic where heat received on its surface is reduced by a porous structure consisting of inside fine pores, where water retentivity and water permeability are given by the porous structure and which is adapted to global environment by increasing a usable range with antibacterial processing, waterproof processing and lightening.例文帳に追加

内部の微細な細穴から構成されている多孔質構造が表面に受けた熱を減少させ、また保水透水性を起こし、更に抗菌加工、防水加工及び軽量化で利用範囲を広げ地球環境に順応させる。 - 特許庁

To provide a manufacturing method of an optical film that can prevent an influence on alignment of liquid crystal on a rubbing processing surface as much as possible by winding a long plastic film after rubbing processing, the optical film, and liquid crystal display device.例文帳に追加

ラビング処理後の長尺のプラスチックフィルムを巻き取ることによるラビング処理面における液晶の配向性への影響を可及的に防止することができる光学フィルムの製造方法、光学フィルムおよび液晶表示装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device having a dust removing means capable of preventing the adhesion of dusts over a main surface of a substrate even for a large substrate, and giving no influence on the uniformity of a plasma processing.例文帳に追加

プラズマによって処理する製造プロセスにおいて、大型の基板に対しても基板の主表面全体におけるダストの付着を防止し、かつ、プラズマ処理の均一性に影響を与えないダスト除去手段を備えるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

When the cleaning liquid is supplied from a washing nozzle 15, the cleaning liquid is supplied directed toward the inner wall of the processing tank, so that the process liquid pulled by an upper part on the processing tank 3 inner wall with surface tension is made to flow down in the tank 3.例文帳に追加

洗浄ノズル１５から洗浄液を供給すると、処理槽３の内壁に向けて洗浄液が供給されるので、表面張力により処理槽３内壁で上部に引っ張られている処理液を槽内に流し落とせる。 - 特許庁

To provide a grinding method which is excellent in continuous stability and wears a less amount of a grindstone, and by which the surface roughness of the grindstone can be maintained without the need for maintenance in a rough processing and a finishing processing after attaching the grindstone to a grinder and bandfiling it.例文帳に追加

研削装置に砥石を取り付けて目立てを行った後は、粗加工および仕上げ加工においてノーメンテナンスで砥石表面の粗さを維持し砥石消耗量の少ない連続安定性に優れた研削方法を提供する。 - 特許庁

To provide a plate surface processing liquid, such as a neutralization stabilizing liquid or an etching liquid applied after the development processing of a lithographic printing plate by a silver complex salt diffusion transfer process, in which the plate wear of silver image is enhanced and, at the same time, an ink transfer point is improved.例文帳に追加

銀錯塩拡散転写法を用いた平版印刷版の現像処理後に施される中和安定化液あるいはエッチ液のような版面処理液に於いて、銀画像の耐刷力を向上させ、かつインキ乗り点を改良する。 - 特許庁

Combination of a material of the solid matter, the kind of the laser used for the processing and processing conditions is set so that the surface of the solid matter is not processed but the crack groups of such a size as its pattern is discriminated only inside the solid matter are generated.例文帳に追加

また前記固体の材質、加工に用いるレーザの種類、加工条件の組み合わせを、前記固体の表面が加工されず、前記固体の内部のみに前記パターンが識別される程度のサイズの前記クラック群が発生するように設定した。 - 特許庁

The signal processing IC chip 2 and the package chip 3 have the same chip size respectively, and the signal processing IC chip 2 is mounted on the package chip 3 in the form wherein the main surface where a pad 21 is formed is faced to one face of the package chip 3.例文帳に追加

信号処理用ＩＣチップ２とパッケージチップ３とは同じチップサイズとしてあり、信号処理用ＩＣチップ２がパッド２１の形成された主表面をパッケージチップ３の上記一面に対向させた形でパッケージチップ３に実装されている。 - 特許庁

To provide coin discriminating method and device capable of reliably discriminating the truth/falsehood of a coin and its denomination by preventing, with simple processing, deformation such as the separation and the connection of patterns which takes place in the case of performing binarization processing of the pictures of the front surface of the coin.例文帳に追加

硬貨表面画像の２値化処理に際して生じるパターンの分離や結合といった変形を簡単な処理で防止し、硬貨の正為、金種等の識別を確実に行うことのできる硬貨識別方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method for processing a driving belt by which a series of continuous belt processing time for securing the belt to a belt running portion, polishing, and taking out is substantially shortened and the lateral surface of the belt can be precisely polished.例文帳に追加

ベルトのベルト走行部への取り付け、研磨加工、そして取り出しまでの一連の連続したベルト加工時間を大きく短縮し、また精度よくベルト側面を研磨することができる伝動ベルトの加工方法を提供することを目的とする。 - 特許庁

Next, recessing or cutting processing exceeding the maximum thickness of the chip 3 is carried out along the cutting schedule line 2, and then after sticking the protective tape 5 on the surface thereof, the wafer 1 is held on the chuck table 17 of a grinding processing apparatus 10 with the backside thereof being exposed.例文帳に追加

次に切断予定ライン２に、チップ３の最大厚さを超える溝加工か、もしくは切断加工を施し、表面に保護テープ５を貼着してから、研削加工装置１０のチャックテーブル１７上に裏面を露出させてウェーハ１を保持する。 - 特許庁

To provide a device which, when a treatment containing fine particles of ices is supplied to a surface of a board to process the board, can perform a uniform processing without causing a processing unevenness, and does not damage a film formed on the board.例文帳に追加

氷の微粒子を含む処理液を基板の表面へ供給して基板の処理を行う場合に、処理むらを生じることなく均一な処理が可能であり、基板上に形成された被膜にダメージを与えることもない装置を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a liquid film freezing method capable of generating a frozen film entirely on a surface of a substrate while inhibiting degradation of durability of a substrate peripheral member, and a substrate processing method using the liquid film freezing method.例文帳に追加

基板周辺部材の耐久性が劣化するのを抑制しながら基板表面の全面に凍結膜を生成することができる基板処理装置、液膜凍結方法および該液膜凍結方法を用いた基板処理方法を提供する。 - 特許庁

The side surface of a transparent or translucent plate-shaped target 10 is irradiated with the light of a floodlight projector 22 and the image acquired by photographing the reflected light from the plate-shaped target 10 by an imaging device 21 is taken in a memory processing device 24 to be subjected to image processing.例文帳に追加

投光装置２２の光を透明または半透明の板状体１０の側面に照射し、その反射光を撮像装置２１によって撮像して得られた画像を、記憶・処理装置２４に取り込んで画像処理を行う。 - 特許庁

Resin which is unaltered even when exposed to water or oil is formed on a wire as a resin layer formed on the wire surface, so as to exert a more effective electric discharge performance and improve processing speed and processing face properties of a workpiece.例文帳に追加

ワイヤ表面に形成する樹脂層としては、水や油に曝されても「変質」しない樹脂をワイヤ上に形成することで、より効果的な放電性能を発揮し、加工速度の向上及び被加工物の加工面性状の良好化が図れる。 - 特許庁

To provide a processing device such as an etching device which is capable of preventing deposits from falling down separating from an exhaust line to adhere as particles to the surface of a semiconductor wafer which is located below, where the deposits are attached to the inner wall of the exhaust line provided at an upper part of the processing device.例文帳に追加

上方に形成されている排気ラインの内壁に付着したデポ物が剥離して落下し、下方に存在する半導体ウエハの表面にパーティクルとして付着することを防止できるエッチング装置のような処理装置を得ること。 - 特許庁

To provide a print data processor, a print data processing method, and a program thereof which allow print objects to be arranged in a plurality of sections on a printable surface respectively independently of a printer for performing print processing.例文帳に追加

印刷処理を実行する印刷装置に依存することなく、印刷可能面の面上の複数の区画のそれぞれに印刷オブジェクトを配置することができる印刷データ処理装置、印刷データ処理方法、およびそのプログラムを提供する。 - 特許庁

A surface of a photosensitive material containing deionized water or a very small amount of a color developing agent or an alkali agent is coated with a preprocessing solution, coated with a developing agent part processing solution and then coated with an alkali part processing solution to carry out a color developing step.例文帳に追加

純水又は微量の発色現像主薬若しくはアルカリ剤を含有する感光材料表面に、前処理液を塗布した後、主薬パート処理液を塗布し、その後アルカリパート処理液を塗布することにより発色現像工程を行う。 - 特許庁

The rice bran powder produced when carrying out the processing treatment of the wash-free rice, and the byproduct comprising the outermost layer of the albumen are saccharified by an enzyme to provide a solution having a high viscosity, and coating the surface of a rice grain subjected to a processing treatment for the wash-free rice, with the resultant solution.例文帳に追加

無洗米加工処理の際に生じる糠粉及び胚乳最外層からなる副産物を、酵素により糖化して粘度の高い溶液を作成し、この溶液を無洗米加工処理した米粒表面にコーティングする。 - 特許庁

To provide a method for processing a semiconductor wafer, which can planarize the entire surface with high accuracy and can process it with high throughput, and also to provide a plasma etching apparatus which can be used for processing of such a semiconductor wafer.例文帳に追加

ウエーハ表面全体にわたって高精度に平坦化することができるとともに、高いスループットで処理することができる半導体ウエーハの加工方法、及びそのような半導体ウエーハの加工に使用できるプラズマエッチング装置を提供する。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of improving plasma processing capability without deteriorating the capability of surface activation process by ultraviolet irradiation of a UV irradiation means adjacently installed with a plasma supply means.例文帳に追加

プラズマ供給手段と隣り合って設置した紫外線照射手段の紫外線照射による表面活性化処理の能力を低下させないようにして、プラズマ処理の能力を向上させることができるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

A wafer processing apparatus includes a chamber containing an internal space, a processing unit which is installed in the internal space of the chamber, can be drawn out through one surface of the chamber, and is provided with an exhaust line, and an exhaust member installed in the chamber.例文帳に追加

本発明の基板処理装置は、内部空間を有するチャンバと、前記チャンバの内部空間に設置され、前記チャンバの一面を通じて引き出すことができ、排気ラインを有する処理ユニットと、前記チャンバに設置される排気部材とを含む。 - 特許庁

The plasma treatment of the material in the form of a web is accompanied by subjecting at least part of the surface of the material in the form of a web to uniform treatment by an atmospheric plasma optionally in the presence of a processing gas and/or processing aerosol.例文帳に追加

前記ウエブ形態の材料のプラズマ処理に、前記ウエブ形態の材料の表面の少なくとも一部に常圧プラズマによる均一な処理を場合によりプロセスガスおよび／またはプロセスエーロゾルの存在下で受けさせることを伴わせる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus by which the surface of the substrate can be more uniformly processed by more uniformly controlling the temperature of a processing solution, such as a plating solution, in plating and which is relatively simple and can reduce a footprint.例文帳に追加

例えば、めっき処理中におけるめっき液等の処理液の温度をより均一に制御して、基板の表面により均一な処理を行い、しかも装置として比較的簡単で、フットプリントを小さく抑えることができるようにする。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and a substrate processing method which, when filling recesses, such as wiring trough and contact holes formed in a surface of a substrate, with a plated metal, can avoid the formation of voids in the plated metal without a decrease in the production efficiency.例文帳に追加

基板の表面に形成された配線溝やコンタクトホール等の凹部を金属めっきで埋め込む際にボイドの発生を回避でき、且つ生産効率を低下させることのない基板処理装置及び基板処理方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a wafer processing method capable of efficiently processing a wafer having a plurality of devices formed on a surface from a laminate comprising an insulation film and a functional film along a street partitioning the plurality of devices without damaging the devices.例文帳に追加

表面に絶縁膜と機能膜からなる積層体によって複数のデバイスが形成されたウエーハを、デバイスに損傷を与えることなく複数のデバイスを区画するストリートに沿って効率よく加工することができるウエーハの加工方法を提供する。 - 特許庁

The side wall surface 2 of the box is provided with working holes 3 formed for putting in the hands, and a long glove-like food processing glove 4 is connected to each of the working holes 3.例文帳に追加

このボックスの側壁面２に手を入れるための作業用孔３を形成し、この作業用孔３には長手袋状の食品加工用のグローブ４を接続している。 - 特許庁

To prevent the drying of particles such as polishing dust adherent to the surface of a substrate after processing treatment such as CMP treatment and to improve a cleaning effect in a cleaning part.例文帳に追加

ＣＭＰ処理等の加工処理した後の基板の表裏面に付着した研磨屑等のパーティクルの乾燥を防止し、かつ洗浄部での洗浄効果を高める。 - 特許庁

The need of a step for sufficiently lowering surface roughness of the bolt, the washer, and the bolt fastening part before the bolt fastening is eliminated, so that processing steps are simplified.例文帳に追加

また、ボルト締結前にボルト、ワッシャー、ボルト締結部の表面粗度を十分に低下させておく工程が不要となり、処理工程を簡素化することが可能である。 - 特許庁

To provide an apparatus for manufacturing a semiconductor device and a liquid crystal display device which can enhance the uniformity of the processing of the surface to be processed of a substrate.例文帳に追加

基板の被処理面内における処理の均一性を向上させることが可能な半導体装置および液晶表示装置の製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image processing device which does not reduce a printing speed and does not generate unevenness within a surface when a latent image is formed with a synthetic color except a simple color of KYMC.例文帳に追加

ＫＹＭＣの単色以外の合成色で潜像を形成する場合にも印刷速度が低下せず、面内ムラが生じない画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide an image processor and an image processing program for enabling an operator to easily and quickly select a graphic object arranged under (on the back surface) a transparent object.例文帳に追加

透明オブジェクトの下(背面)に配置された図形オブジェクトをオペレータが容易かつ迅速に選択することのできる画像処理装置および画像処理プログラムを提供する。 - 特許庁