「surface processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(80ページ目) - Weblio英語例文検索

To constitute so that static electricity generated in a semiconductor wafer during processing do not accumulate, and to suppress generation of particles caused by the omission of the particles, by making higher mechanical adhesion strength of a conductive layer formed on a placement surface, in a jig for vacuum suction.例文帳に追加

本発明の真空吸着用治具の目的は、加工中に半導体ウエハに発生した静電気がたまらないようにすることである。 - 特許庁

To provide a disc-like heater and an apparatus for processing a wafer in which the surface of a disc-like ceramic basic body can be heated uniformly and the disc-like ceramic basic body can be protected against damage.例文帳に追加

円盤状セラミック基体の表面を均熱化できるとともに、円盤状セラミック基体の破損を防止できる円盤状ヒータおよびウエハ処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a contact type charger capable of stably charging a photoreceptor over a long term regardless of processing speed without damaging the surface of the photoreceptor.例文帳に追加

プロセス速度に関係なく、長期間安定して感光体を帯電できるとともに、感光体表面を傷つけることがない接触帯電方式の帯電装置を提供する。 - 特許庁

Thereby work for processing the surface of the sintered product taken out of the sintering mold 80 is unnecessary and processes for manufacturing the sintered product can be reduced.例文帳に追加

このため、焼結型８０から取り出された焼結品の表面を加工する作業が必要なく、焼結品を製造する工程を少なくすることができる。 - 特許庁

To provide a driving method of an organic EL light emission part in which deterioration in quality of a display surface due to variation in time length of mobility correction processing can be suppressed.例文帳に追加

移動度補正処理の時間長の変動に起因した表示画面の品質の劣化を抑制することができる有機ＥＬ発光部の駆動方法を提供する。 - 特許庁

To similarly correct processing algorithm or the like so that the quality of images of a surface image and the quality of a rear side image which are simultaneously read by a simple means coincide with each other.例文帳に追加

簡単な手段により同時に読み込まれた表面画像と裏面画像の画像品質が同一になるように処理アルゴリズム等を同じに補正すること。 - 特許庁

In the inner plate 10 for cosmetics which houses the cosmetics 11 to be mounted on a compact case 12, the internal surface of the inner plate 10 has an activation processing applied thereon.例文帳に追加

化粧料１１を収容してコンパクト容器１２に装着される化粧料用中皿１０において、中皿１０の内面に活性化処理が施されている。 - 特許庁

To provide a substrate processing method in which the inside of a substrate surface of a circular disk is uniformly washed in a washing treatment by mixing and discharging a compressed gas and a treating chemical.例文帳に追加

円形基板を加圧された気体と処理薬液を混合し吐出させて洗浄処理において、基板面内を均一に洗浄する基板処理方法を提供する。 - 特許庁

According to this, the obstacle can be accurately recognized while removing the influence of reflection by wet road surface only by providing one camera without needing two stereo-cameras and only by performing easy arithmetic processing to an image taken by the one camera.例文帳に追加

また、上側の物体像Ｑ１および反転像Ｑ２′の相関値Ａに基づいて路面が濡れているか否かを精度良く判定することができる。 - 特許庁

Heat insulating materials 13 and 23 are interposed between core molds 12 and 22 and between surface processing layers 14 and 24 in both of the movable mold 10 and the fixed mold 20.例文帳に追加

可動側金型１０及び固定側金型２０のいずれにもコア型１２，２２と表面加工層１４，２４との間に断熱材１３，２３が介在されている。 - 特許庁

To provide a texture processing method capable of forming, on a surface of a substrate of a magnetic hard disk, a texture streak having a concave part with adequate depth and a convex part with adequate height.例文帳に追加

磁気ハードディスクの基板の表面に、適度な深さの凹部と適度な高さの凸部を有するテクスチャ条痕を形成できるテクスチャ加工方法を提供する。 - 特許庁

A PSD signal processing circuit 80 outputs a position voltage signal corresponding to the position of light reception of split light on a PSD light reception surface on the basis of signals after the integration.例文帳に追加

ＰＳＤ信号処理回路８０は、積分後の信号をもとに、ＰＳＤ受光面上における分離光の受光位置に応じた位置電圧信号を出力する。 - 特許庁

When manufacturing the toothed belt, a tooth cloth jacket 28 and a tooth cloth processing sheet 24 being mutually a separate body are arranged along a surface of a molding metal mold 26 (see, Fig.2(a)).例文帳に追加

歯付きベルトの製造時に、互いに別体である歯布ジャケット２８と歯布処理シート２４とを、成型金型２６の表面に沿って配設する（図２（ａ）参照）。 - 特許庁

Further, in the case where a separation groove 40 is formed beforehand, any product 41 in a laser scribed trace for example can be removed with the surface processing process.例文帳に追加

また、予め分離溝４０を形成するような場合には、例えばレーザスクライブ痕の生成物４１をその表面加工工程により除去することもできる。 - 特許庁

The deterioration of the surface roughness of the element reflector is prevented by processing the element reflector after a protection film is given to the reflective face of the element reflector.例文帳に追加

要素反射鏡の反射面に保護膜を付与した後要素反射鏡を加工することにより、要素反射鏡の反射面の表面粗さの劣化を防止する。 - 特許庁

To provide a molded product of which the molding work is easy and the surface is not damaged at the time of bending processing and which has good appearance and excellent strength.例文帳に追加

曲げ加工するとき、成形作業が容易で、表面が損傷されず、見栄えがよく、かつ、強度的にも優れた成形品を提供することを、その課題とする。 - 特許庁

In this image processing, a hue distribution image, a mirror surface reflected distribution image, a brightness distribution image, etc. are checked corresponding to the hue, chroma, brightness and transparency of a treatment material.例文帳に追加

この画像処理においては、処理材料の色相、彩度、明度、透明度のに応じて色相分布像、鏡面反射分布像、明度分布像等をチェックする。 - 特許庁

To accurately and easily perform the processing positioning in a charged particle beam apparatus even if the sample is not transparent and even if no characteristic shape exists on the sample surface.例文帳に追加

透明試料以外でも試料表面に特徴のある形状がない場合でも、荷電粒子ビーム装置における加工位置決めを高精度かつ容易に行えるようにする。 - 特許庁

To obtain a method of manufacturing a semiconductor device, capable of effectively removing an unnecessary base film adhered to the side and back surface portions of a body for processing.例文帳に追加

被処理体の側面部分や裏面部分に付着する不要な下地膜を効率的に除去することができる半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To obtain a foamed molding having a smooth outer surface fitted to flocking processing, printing and the mounting of a label or decorative skin or the application of a design and excellent in design effect.例文帳に追加

植毛加工、印刷、ラベルまたは化粧用表皮の装着、あるいはデザインを施すのに適した平滑な外側表面を備えた意匠性に優れた発泡成形体。 - 特許庁

A PSD signal processing circuit 70 outputs a position voltage signal corresponding to the position of light reception of split light on a PSD light reception surface on the basis of the voltage signal.例文帳に追加

ＰＳＤ信号処理回路７０は、この電圧信号をもとに、ＰＳＤ受光面上における分離光の受光位置に応じた位置電圧信号を出力する。 - 特許庁

The concealing processing for concealing the mounting part is applied to the first decorative part 80 at least at a part of a front-surface thereof opposed to the mounting part 91b.例文帳に追加

そして、第１意匠パネル８０には、その表側の面のうち少なくとも取付部９１ｂに対向する部分に、取付部を隠蔽するための隠蔽加工が施される。 - 特許庁

Next, in a fourth processing, an impervious material 6 having impervious performance is laid on a banked surface of the bank body 2, and this impervious material 6 is connected to the geogrid 5.例文帳に追加

次に、第４の工程で、遮水性を有する遮水材６を堤体２の盛り土された面に敷設し、この遮水材６をジオグリッド５と接続するようにしている。 - 特許庁

To provide coin discriminating method and device capable of performing discrimination processing at high speed by using the two-dimensional picture of a coin surface without turning, etc., of the picture.例文帳に追加

像の回転等を伴わずに硬貨表面の２次元画像を用いて高速に識別処理を行うことのできる硬貨識別方法および装置を提供する。 - 特許庁

To provide an optical shaping apparatus for shortening the time required for regulating the height of a liquid surface after the operation of a recoater to perform optical shaping processing rapidly and efficiently.例文帳に追加

リコータを作動させた後の液面高さの調節に要する時間を短縮し、迅速に効率よく光造形処理を実行させ得る光造形装置を提供すること。 - 特許庁

A display part for performing various displays and an operation part for giving various instructions for operation and the like are arranged on the outer surface of the case constituting the signal processing unit.例文帳に追加

信号処理ユニットを構成するケースの外表面には、各種の表示を行うための表示部と各種の操作指令等を与えるための操作部とが配置されている。 - 特許庁

The tube consisting of the glassy carbon and having the anti-oxidation layer on the outer surface is made as a process tube 1 to be used as a heating element of electromagnetic induction heating for thermal processing method.例文帳に追加

ガラス状炭素からなり、外表面に耐酸化層を有する管体をプロセスチューブ１とし、かつ電磁誘導加熱の発熱体として用いる熱処理方法。 - 特許庁

Here, before the second photoresist pattern 110 is removed, the semi-insulating GaAs substrate 101 is subjected to a plasma processing in an H_2S-containing atmosphere in order to stabilize the surface of the gate recess 111 with sulfur.例文帳に追加

ここで、ゲートリセス１１１を硫黄で表面安定化するため、第２のフォトレジストパターン１１０を除去する前にＨ_２Ｓを含む雰囲気下でプラズマ処理を加える。 - 特許庁

To provide a plasma processing device capable of generating various plasma by one device and providing various surface treatment to a substrate to improve a manufacturing efficiency.例文帳に追加

一台で各種のプラズマを発生でき、基板に対して各種の表面処理を可能にし、生産効率を向上させることのできるプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁

To suppress breakage of a cover which covers the lower surface of a window member and production of particles and to easily attach and detach the cover to/from an induction coupling plasma processing apparatus.例文帳に追加

誘導結合プラズマ処理装置において、窓部材の下面を覆うカバーの破損とパーティクルの発生を抑制し、且つカバーを容易に着脱できるようにする。 - 特許庁

In this case, contour line processing is performed for the surface 15a, and the regrinding position and the grinding amount are calculated so that a contour line of a prescribed height or higher may be extinguished.例文帳に追加

この場合、被加工面１５ａを等高線処理して、所定高さ以上の等高線が消滅するように再研削位置及び研削量を算出する。 - 特許庁

A search processing part 10 divides ground surface parts which are mutually adjacent and close in distance to be regarded as flat ground surfaces in the distance information dij.例文帳に追加

探索処理部１０は、この距離情報ｄijにおいて、互いに隣接した地表部分で、かつ、平坦な地表と見なせるほどに距離が近接した地表部分をグループ化する。 - 特許庁

To accurately detect a position-deviated quantity even in a substrate processing device with a structure such that a distance between a surface to be imaged and an imaging device varies with the thickness of the substrate and the like.例文帳に追加

被撮像面と撮像装置との距離が基板の厚さ等によって変わるような構造の基板処理機においても、位置ズレ量を正確に検出する。 - 特許庁

A battery 91 supplies electric power to the sensor pars 21 and 22, signal processing part 4, and transmitting circuit part 5, and is assembled on the other surface of the circuit board 1.例文帳に追加

電池９１は、センサ部２１、２２、信号処理部４及び送信回路部５に電源を供給するものであって、回路基板１の他面に組み付けられている。 - 特許庁

The copper film is subjected to polishing processing to remove the part of the copper film on the surface of the protective film 5 while leaving the part of the copper film in the groove portion.例文帳に追加

銅膜に研磨処理を施すことにより、溝部内に位置する銅膜の部分を残して保護膜５の表面上に位置する銅膜の部分が除去される。 - 特許庁

Gas introduced by a gas introduction means 29 can thereby be introduced to the surface being treated in the main processing space before being diffused into the second vacuum chamber.例文帳に追加

これにより、ガス導入手段２９から導入されたガスを、当該ガスが第２真空室内に拡散してしまう前に、主処理空間内の被処理面へ導くことができる。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus in which a substrate being conveyed while inclined at a predetermined angle is prevented from floating from the support roller supporting the back surface of the substrate.例文帳に追加

所定の角度で傾斜して搬送される基板が背面を支持した支持ローラから浮き上がるのを防止した基板の処理装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a dust core having low loss by planarizing the surface of a soft magnetic powder, and performing insulation processing to improve an annealing temperature and to provide a manufacturing method thereof.例文帳に追加

軟磁性粉末の表面を平坦化した後、絶縁処理を行うことで、焼純温度の向上を図り、低損失な圧粉磁心と、その製造方法を提供する。 - 特許庁

Both ends 12 and 12 of an inner peripheral surface portion 9 of the rim wire are formed into flat surfaces to abut against a machining member of a bending processing machine in a sheet state.例文帳に追加

リム線の内周面部９の両端部１２、１２は、ベンディング加工機の加工部材に対して面状に当接するように、平坦面に形成されている。 - 特許庁

The method for processing the glass cloth comprises spraying the surface of the glass cloth with steam jet with a pressure of 0.2-1.5 MPa while rolling around the glass cloth.例文帳に追加

ガラスクロスを巻き取りつつ、該ガラスクロス面に圧力が０．２ＭＰａ以上、１．５ＭＰａ以下の水蒸気流を噴霧することを特徴とするガラスクロスの加工方法。 - 特許庁

A plurality of holding rods 8 erected on the movable plate are projected in the processing chamber via seal parts 16 provided to through-holes 15 of the outer wall surface to hold a mask M.例文帳に追加

可動プレートに立設された複数本の保持ロッド８が、上記外壁面の透孔１５に設けたシール部品１６を介して処理室内に突出してマスクＭを保持する。 - 特許庁

Subsequently, as shown in Fig.6(f), a bottom surface of the mold groove 31 is subjected to full-cut processing by using a blade 103 in parallel to the lateral section bar 13 or the mold groove 31 (cutting process).例文帳に追加

次に、図６（ｆ）に示されるように、モールド溝３１の底面を、横セクションバー１３あるいはモールド溝３１と平行に、ブレード１０３でフルカット加工する（切断工程）。 - 特許庁

To provide a method for finish processing score line edges by which the edges of the score lines on the side of the face surface are angulated and burrs near the edges can be sufficiently eliminated.例文帳に追加

スコアラインのフェース面側の縁部を角張った形状とし、かつ該縁部近傍のバリを十分に除去することができるスコアライン縁部の仕上げ処理方法を提供する。 - 特許庁

During the chucking, a groove 5 is engraved by a ridge 12a of the base 12 so that the groove extends in an arc shape along the arranging direction of the tooth part 3 on the surface of the processing object 1.例文帳に追加

このチャッキング時に、基台１２の突条部１２ａによって加工対象物１の表面に歯部３の列設方向に沿って円弧状に延びる溝部５が刻設される。 - 特許庁

To provide a flat processing method of a wafer that can efficiently remove waviness of a surface of the wafer in a manufacturing step of the wafer for a semiconductor device.例文帳に追加

半導体デバイス用のウェーハの製造工程において、効率良くウェーハ表面のうねりを除去することができるウェーハの平坦化加工方法を提供する。 - 特許庁