「surface step」に関連した英語例文の一覧と使い方(9ページ目) - Weblio英語例文検索

The substrate 102 has a structure in which a step is formed on a device mounting surface along its outer edge and the step is covered with the sealing resin.例文帳に追加

基板１０２は、素子搭載面に外縁に沿って段差が設けられ、段差が封止樹脂により被覆された構成を有する。 - 特許庁

To provide a two-step push switch which can be thinned, since a protrusion for fixing a push member will not protrude from the lower surface of the two-step push switch.例文帳に追加

二段押圧スイッチの下面から押圧部材固定用の突起が突出することなく薄型化が図れる二段押圧スイッチを提供する。 - 特許庁

When it is not a split road in step S10, it is judged in step 12 whether the coefficient of friction μ of the road surface is most μ1.例文帳に追加

ステップＳ１０でスプリット路でないならば、ステップＳ１２で路面の摩擦係数μが所定値μ１以下か否かを判定する。 - 特許庁

A scribe line S1 is formed on the surface of a first glass substrate 10 (step A1) and then a scribe line S2 is formed (step A2).例文帳に追加

第１のガラス基板１０の表面にスクライブラインＳ１を形成し（ステップＡ１）、その後にスクライブラインＳ２を形成する（ステップＡ２）する。 - 特許庁

In the surface processing step the particulate obtained by the pyrolysis step is cleaned with water, nitric acid, acetic acid, a base, or aluminum fluoride.例文帳に追加

表面処理ステップでは、熱分解工程によって得られた微粒子を、水、硝酸、酢酸、塩基、またはフッ化アルミニウムにより洗浄する。 - 特許庁

In the method, a product surface treatment step 30 includes a coating step 32 of forming an internal layer 5a comprising particles of the antioxidant material 4.例文帳に追加

また、製品表面処理工程３０が、酸化防止材４の粒子からなる内層５ａを形成するコーティング工程３２を有する。 - 特許庁

The film 3 is laminated on the external surface, thereby providing the case body 1 formed with an equal plane on the external surface without dents and having no step on an internal surface.例文帳に追加

フィルム３を外面側に積層することによって、外面側は同一平面を形成してへこみがなく、内面側には段差のない収納体１となる。 - 特許庁

A guide rail member is provided with a first rail surface and a second rail surface where an engaging step part is formed along the longitudinal direction facing the first rail surface.例文帳に追加

ガイドレール部材は第１のレール面と、これに対面し長手方向に沿って係合段部が形成された第２のレール面が設けられている。 - 特許庁

In the angle adjusting step, an angle of the floated surface is adjusted and the surface is ground with a magnetic head element-forming surface on a substrate as reference for the block.例文帳に追加

角度調整工程では、ブロックに対し基板上の磁気ヘッド素子形成面を基準に浮上面の角度を調整して当該面を研削する。 - 特許庁

A method for manufacturing the tire comprises the step of forming the side wall forming surface 4 by including a main surface 4a for forming the side plate body 2a, and an auxiliary surface 4g for forming the engaging piece 2b.例文帳に追加

サイドウォール成形面４を、サイドプレート本体２ａがなす主面４ａと、前記嵌め込み片２ｂがなす補助面４ｂとを含んで形成する。 - 特許庁

To prevent the occurrence of surface defects and deterioration of surface roughness in a polishing step when a locally worked glass substrate surface is polished.例文帳に追加

局所加工が施されたガラス基板表面を研磨するにあたり、研磨工程における表面欠陥の発生や表面粗さの悪化を防止する。 - 特許庁

The metal support fitting 82, the shield plate 161, the lower step face 165 and the top surface flat part 167 makes an inclined surface with the top surface thereof inclined forward.例文帳に追加

これら支持金具８２、遮蔽板１６１、下部段差面１６５及び上面平坦部１６７は、その上面を手前に傾斜する傾斜面とされている。 - 特許庁

The metal support fitting 82, the shield plate 161, the lower step face 165 and the top surface flat part 167 make an inclined surface with the top surface thereof inclined forward.例文帳に追加

これら支持金具８２、遮蔽板１６１、下部段差面１６５及び上面平坦部１６７は、その上面を手前に傾斜する傾斜面とされている。 - 特許庁

A plurality of thin grooves 22 extending from the step surface 12A at a tire equator surface CL side to a groove bottom 20B of the fourth groove 20 are formed on the loose inclination surface 20A.例文帳に追加

緩傾斜面２０Ａに、タイヤ赤道面ＣＬ側の踏面１２Ａから第４の溝２０の溝底２０Ｂへ延びる細溝２２を複数本形成する。 - 特許庁

A surface state reproducing step for reproducing the surface state obtained by the measurement result to a facing surface of an unused magnetic head is performed.例文帳に追加

そして、その測定結果により得られた表面状態を未使用の磁気ヘッドの対向面に再現する表面状態の再現処理を行う。 - 特許庁

A method of manufacturing the COF comprises: a step of providing a flexible circuit board 10 having a first surface and a second surface opposite to the first surface; and a step of forming a plurality of leads on the first surface of the flexible circuit board.例文帳に追加

ＣＯＦを製作する方法は、第一表面と、第一表面の反対側の第二表面を有するフレキシブル回路基板１０を提供する段階と、フレキシブル回路基板の第一表面に複数のリードを形成する段階とを含む。 - 特許庁

The manufacturing method of a coupled substrate includes a coupling surface processing step for processing at least one of first and second substrates each including a coupling surface containing silicon and a coupling step for coupling the coupling surface of the first substrate and the coupling surface of the second substrate.例文帳に追加

結合基板の製造方法は、シリコンを含む結合面を有する第１及び第２基板の少なくとも一方を処理する結合面処理工程と、第１基板の結合面と第２基板の結合面とを結合させる結合工程とを含む。 - 特許庁

A method for measuring an aspherical surface object includes a step of obtaining shape data of a first lens surface 91 and a second lens surface 92 of an aspherical lens 9 by reflected wave surface measurements using a first interferometer 1A and a second interferometer 1B, and a step of approximating each of the shape data with Zernike polynomial.例文帳に追加

第１干渉計１Ａと第２干渉計１Ｂとを用いた反射波面測定により、非球面レンズ９の第１レンズ面９１および第２レンズ面９２の形状データを求め、各形状データをツェルニケ多項式で近似する。 - 特許庁

In this panel (1), a skin sheet (7) is pasted on an upper surface (2), and a step part (10) is provided on an end of the upper surface (2), and a boundary part between the upper surface (2) and the step part (10) is formed into a curved surface.例文帳に追加

本発明にかかるパネル（１）は、表皮シート（７）が上面（２）に貼着されるパネル（１）であって、上面（２）の端部に段部（１０）を有し、上面（２）と段部（１０）との境界部分が曲面形状で形成されていることを特徴とする。 - 特許庁

In the case of a display mode wherein a first display surface and a second display surface face in different directions, the display device specifies a display surface to be browsed by the user (step Sa2) and displays an image on an image display unit of the specified display surface (step Sa3).例文帳に追加

表示装置は、第１表示面と第２表示面とが異なる方向を向く表示モードである場合において、ユーザが閲覧する表示面を特定し（ステップＳａ２）、特定した表示面の画像表示部に画像を表示する（ステップＳａ３）。 - 特許庁

This surface finishing method is characterized by including a step of removing a surface layer and the unnecessary part of the surface of a sintered layer M which has been prepared by that time, by a predetermined removal margin Hz, to finish the surface, in a sintering step after the sintered layer M has been formed.例文帳に追加

焼結層Ｍの形成後にそれまでに作成した焼結層Ｍの表面部の表層及び不要部分を所定の除去代Ｈｚで除去して表面仕上げを行う除去加工工程を焼結工程の中に挿入する。 - 特許庁

The plating layer may be formed on an inner surface, an outer surface, or an entire surface of the body, a step may be formed along an inner periphery on an end portion of an opening surface of the body, and the substrate may be inserted into the step.例文帳に追加

前記メッキ層は、前記ボディの内部や外部あるいは全体面に形成されることが可能であり、前記ボディの開放面端部には内週面に沿って段差が形成されて、前記基板が前記段差に挿入されるようになっている。 - 特許庁

This method of treating the contaminated instrument surface includes: a step of covering the surface with a foam; and a step of maintaining the foam on the surface to keep the surface moist prior to cleaning the instrument to prevent foreign matter thereon from becoming dried on and more difficult to remove during cleaning.例文帳に追加

処理方法は、器具表面を泡で覆うステップと、器具を洗浄処理する前までその泡を器具表面に保持して器具表面を湿らせ、異物が器具表面上で乾いて洗浄処理で取除きにくくなるのを防ぐステップとを含む。 - 特許庁

The surface modification method for the silicone resin comprises carrying out the ozone contact step of bringing ozone into contact with the surface of the silicone resin and carrying out the reducing agent contact step of bringing a reducing agent into contact with the surface of the resultant silicone resin.例文帳に追加

シリコン樹脂表面にオゾンを接触させるオゾン接触工程を行った後、前記シリコン樹脂表面に還元剤を接触させる還元剤接触工程を行うシリコン樹脂の表面改質方法。 - 特許庁

Here, the interlayer insulating film 2 formed on the first surface 1a of the semiconductor substrate 1 reflects a step between the bottom surface of the first hole 7 and the first surface 1a of the semiconductor substrate 1, resulting in a step shape.例文帳に追加

このとき、半導体基板１の第１面１ａに形成されている層間絶縁膜２は、第１孔７の底面と半導体基板１の第１面１ａとの段差を反映して段差形状になっている。 - 特許庁

The surface cleaning method having a first step of injecting photocatalyst steam to the surface of an object for cleaning and a second step of irradiating the surface of this object for cleaning with light including UV rays is provided.例文帳に追加

浄化対象物の表面に光触媒水蒸気を噴射する第１のステップと、前記浄化対象物の表面に紫外線を含む光を照射する第２のステップとを有する表面浄化方法とする。 - 特許庁

In the case of printing the additional image on the rear surface of the backing paper, an original image is formed on the front surface of the backing paper (step S16), and a process necessary for charge for the image formation on the front surface is performed (step S17).例文帳に追加

裏紙を用いて付加画像を"裏面に印字"する場合は、表面に原稿画像を形成し（ステップＳ１６）、この表面の画像形成に対して課金のために必要な処理を行う（ステップＳ１７）。 - 特許庁

Then, the method further includes a step of flaking all the semiconductor elements 2 from the rear surface of opposite side to the front surface where the element structure 21 is made, and a step of attaching an optical component 3, etc. to the rear surface 31 made by flaking.例文帳に追加

次いで、半導体素子２の全個を、素子構造２１が作り込まれた表面とは反対側の裏面から薄片化し、さらにその薄片化してなる裏面３１に光学部材３などを付設する。 - 特許庁

The method includes a boring step for forming the supply hole on a hole forming surface 11 of the die and a groove working step for forming the slit groove 3 on a groove forming surface 12 opposite to the hole forming surface 11 of the die.例文帳に追加

金型の穴成形面１１に供給穴を形成する穴加工工程と、金型の穴成形面１１の反対側の面である溝成形面１２にスリット溝３を形成する溝加工工程とを有する。 - 特許庁

At this time, the interlayer insulating film 2 formed on the first surface 1a of the semiconductor substrate 1 is step shaped as a result of reflecting the shape of a step between the bottom surface of the first hole 7 and the first surface 1a of the semiconductor substrate 1.例文帳に追加

このとき、半導体基板１の第１面１ａに形成されている層間絶縁膜２は、第１孔７の底面と半導体基板１の第１面１ａとの段差を反映して段差形状になっている。 - 特許庁

The method includes the step that an adhesive 12 is coated on a first surface 14 of a first workpiece 16 and the step that the first surface of the first workpiece is made to contact a surface 20 of a second workpiece 22.例文帳に追加

当該方法は、第１のワークピース１６の第１の表面１４に接着剤１２を塗布するステップと、第１のワークピースの第１の表面を第２のワークピース２２の表面２０に接触させるステップとを含む。 - 特許庁

The method of manufacturing the color filter includes: a step of forming a mask layer C on a surface of a black matrix BM; a step of forming color filter layers CF(R), CF(G), and CF(B); and a step of removing the mask layer C.例文帳に追加

ブラックマトリクスＢＭの表面にマスク層Ｃを形成する工程と、カラーフィルター層ＣＦ（Ｒ），ＣＦ（Ｇ），ＣＦ（Ｂ）を形成する工程と、マスク層Ｃを除去する工程と、を有することを特徴とする。 - 特許庁

The method for measuring silica particulates includes a solving step of solving a surface of the precision component with a solution, and a quantitative determination step of quantitatively determining the silica particulates out of impurities in the solution through the solving step.例文帳に追加

精密部品の表面を溶液で溶解する溶解ステップと、溶解ステップを経た溶液中の不純物量からシリカ微粒子を定量する定量ステップとを備えている。 - 特許庁

To perform high-speed image forming operation without adversely influencing a following electrifying step even when performing a destaticizing step for destaticizing the surface of an image carrier before a cleaning step.例文帳に追加

像担持体表面の除電工程をクリーニング工程の前に実行する場合であっても、次回の帯電工程に悪影響を及ぼすことなく、高速な画像形成動作を実行する。 - 特許庁

The supporting unit 2 is composed of the lower step supporting frames 3A directly fitted to the upper surface of the base tray 1 and the upper step supporting frames 3B fitted to the upper part of the lower step supporting frames 3A.例文帳に追加

支持ユニット２は、ベーストレイ１の上面に直接取付けられる下段の支持枠３Ａと、下段の支持枠３Ａの上方に取付けられる上段の支持枠３Ｂからなる。 - 特許庁

A border groove 13 extending along a border portion between the step plate 8 and the riser 9 between both the edge portions of the step 4 in a width direction is provided at the edge portion on the riser 9 side of the step surface 7.例文帳に追加

踏み面７のライザ９側の端部には、ステップ４の幅方向両端部間を踏板８とライザ９との境界部に沿って延びる境界溝１３が設けられている。 - 特許庁

The method comprises a step to attach a sampling swipe to a swiping surface, a step to fix the front end portion of the sampling swipe, and a step to fix the rear end portion of the sampling swipe.例文帳に追加

拭き取り面に試料採取用スワイプを取り付ける工程と、試料採取用スワイプの前端部を固定する工程と、試料採取用スワイプの後端部を固定する工程とを有する。 - 特許庁

On the surface of the aluminum-based material, a first mask forming step (step S102) is performed, and a hairline processing is given to the aluminum-based material through the opening of a first mask (step S103).例文帳に追加

アルミニウム系素材の表面に、第１のマスク形成工程（ステップＳ１０２）を実施し、第１のマスクの開口部を通してアルミニウム系素材にヘアライン加工を施す（ステップＳ１０３）。 - 特許庁

The preprocessing step is further constituted by a step of introducing a gas, which contains the same gas used in the film-forming process for forming the thin film on the semiconductor substrate into the reaction chamber, and a step of forming the surface layer on the susceptor surface by a CVD method.例文帳に追加

前処理工程はさらに、半導体基板上に薄膜を成膜する成膜処理と同じガスを含有するガスを反応チャンバ内へ導入する工程と、CVD法により表面層をサセプタ表面に形成する工程からなる。 - 特許庁

The method for pneumatic tire simulation comprises a step of setting a pneumatic tire model 1, a step of setting a road surface model, and a step of bringing the pneumatic tire model 1 into contact with the road surface model, turning the pneumatic tire model at the predetermined speed, and computing the deformation.例文帳に追加

空気入りタイヤモデル１を設定するステップ、路面モデルを設定するステップ及び空気入りタイヤモデル１を路面モデルに接触させかつ予め定めた速度で転動させて変形計算を行うステップを少なくとも含む。 - 特許庁

This method for coloring the surface comprises a first step of spraying a resin emulsion over the surface of the stack deposits and a second step of spraying a mixture liquid of the resin emulsion with a pigment or a dye after the passage of a prescribed time from the first step.例文帳に追加

野積堆積物の表面に樹脂エマルジョンを散布する第１工程と、前記第１工程から所定時間経過後に、樹脂エマルジョンと顔料もしくは染料との混合液を散布する第２工程を含む着色方法。 - 特許庁

The flag production method includes the first step to print a desired design on the front surface of a textile fabric and the second step to fix a functional agent to the back surface of the textile fabric after the first step.例文帳に追加

本発明に係る旗の製造方法は、繊維布生地の表面に所望のデザインの印刷を施す第１の工程と、第１の工程の後、繊維布生地の裏面に、機能性薬剤を固着させる第２の工程とを備える。 - 特許庁

The step section 50 has a first inner peripheral surface 51, a second inner peripheral surface 52 which is formed on an axial transmission side of the first inner peripheral surface 51 and is greater than a bore of the first inner peripheral surface 51, and a step surface 53 formed between the first and second inner peripheral surfaces 51 and 52.例文帳に追加

段差部５０は、第１内周面５１と、第１内周面５１の軸方向トランスミッション側に形成し第１内周面５１より内径が大きい第２内周面５２と、第１及び第２内周面５１、５２の間に形成した段差面５３とを有する。 - 特許庁

This electromagnetic wave shielding door 1 also sets the one surface and the other surface in an electrically nonconductive state by mutually separating a peripheral end part of the electromagnetic shielding face materials 12 and 13 of the one surface and the other surface by a step part 11A by arranging the step part 11A continuing with the end surface periphery of the door body 11.例文帳に追加

更に、扉本体１１の端面周囲に連続した段部１１Ａを設け、一方の面と他方の面の電磁波シールド面材１２，１３の周端部を段部１１Ａで相互に離間させて当該一方の面と他方の面とを電気的に非導通状態に設定した。 - 特許庁

This polishing method includes a step of rotating a semiconductor substrate (601) having the surface to be polished with the surface upward, and a step of polishing the surface with a brush (602) while monitoring the polished state of the surface in-situ by supplying slurry to the surface.例文帳に追加

被処理面を有する半導体基板（６０１）を、前記被処理面を上向きにして回転させる工程と、前記被処理面にスラリーを供給して、研磨の進行状態をｉｎ−ｓｉｔｕでモニターしつつブラシ（６０２）により研磨する工程とを具備する方法である。 - 特許庁