「surface temp」に関連した英語例文の一覧と使い方(2ページ目) - Weblio英語例文検索

Then, the high vapor pressure element diffuses through the grain boundary of the base metal or the like to form into a gaseous state on the surface of the corrosion resistant high temp. material and to uniformly cover the surface, which is bonded with oxygen to form into a dense oxidized film.例文帳に追加

すると、高蒸気圧元素が母材の粒界等を通って拡散し、耐食性高温材の表面でガス状となって同表面を一様に覆い、酸素と結合して緻密な酸化皮膜となる。 - 特許庁

Subsequently, in the two-layered sample constituted by laminating the layer 1 of the first substance and the layer 2 of the second substance, the temp. response of the rear surface of the two-layered sample is actually measured after pulse heating is applied to the surface of the two-layered sample.例文帳に追加

次いで、第１物質の層１と第２物質の層２の積層により構成される２層試料において、当該２層試料の表面をパルス加熱し、そのときの裏面の温度応答を実測する。 - 特許庁

Before starting the cooling, the surface temp. of the steel plate is measured and in the case the deviation in the surface temps. is in the regulated range, the water cooling device is used, and in the case the deviation therein is out of the regulated range, the gas cooling device is used to execute the cooling control.例文帳に追加

冷却開始前に鋼板の平面温度を測定し、平面温度の偏差が定められた範囲内であれば、水冷却装置を使用し、範囲外であれば、ガス冷却を使用して冷却制御する。 - 特許庁

To keep a treating liquid so as not to lower the temp., while the treating liquid spreads on the whole surface of a substrate by supplying hot water to the back surface side of the substrate to heat to accurately control the temp. of the treating liquid supplied to the substrate in a wet process performed by supplying the treating liquid to the substrate as the substrate is rotated.例文帳に追加

基板を回転させながら、この基板に処理液を供給することにより行われるウエットプロセスにおいて、基板の裏面側に温水を供給して加温することによって、基板に供給された処理液の温度を正確に管理して、この処理液が基板の全面に広がる間にその温度が低下しないように保持する。 - 特許庁

When the surface layer 4 comprising the propylene/ethylene random copolymer is to be laminated on the surface of the intermediate layer 3 after the layer 3 is laminated and cooled, the intermediate layer 3 is cooled by a cooling roll of which the surface temp. is 50°C or higher.例文帳に追加

また、中間層３を積層し冷却後、その表面にプロピレン−エチレンランダム共重合体からなる表層４を積層する際、中間層３を冷却ロール表面温度が５０℃以上として冷却する防炎性ラミネートクロスの製造方法である。 - 特許庁

The surface temp. irregularity of a mold is adjusted and the pressure difference between the inner pressure and outer pressure (on a gas vent hole side) of the parison coming into contact with the gas vent hole of a mold is adjusted to prevent a part of the surface of the parison from penetrating into the gas vent hole.例文帳に追加

金型の表面温度ムラを調整し、併せて金型のガス抜き孔に接するパリソンの内圧と外圧（ガス抜き孔側）の圧力差を調整してパリソン表面の一部がガス抜き孔に侵入することを防止する。 - 特許庁

A surface protective layer 2 comprising a curable resin of which the elongation at the thermoforming temp. of a decorative sheet main body 1 is 40-200% is provided on the surface of the thermoformable decorative sheet main body 1.例文帳に追加

熱成形性の化粧シート本体１の表面に、該化粧シート本体の熱成形温度における伸び率が４０％以上２００％以下である硬化性樹脂からなる表面保護層２を具備する化粧シートである。 - 特許庁

To obtain stable printing quality by uniformizing the surface temp. of a heating roll, without shortening a service life of the heating roll, even if printing conditions such as the printing speed, an adopting paper sheet.例文帳に追加

印刷速度、使用用紙等の印刷条件が変わっても、加熱ロールの寿命を縮めることなく、加熱ロールの表面温度を均一化し、安定した印刷品質を得る。 - 特許庁

The Joule's heat generated by the current passing the laminated body 5 is radiated through the heat radiating layer 6 having a large surface area, which suppresses the temp. increase in the MR element 50.例文帳に追加

積層体５を流れる電流によって生じるジュール熱は、表面積の大きな放熱層６を介して放熱されるので、ＭＲ素子５０の温度上昇を抑制することができる。 - 特許庁

To easily conform to the standard/low temp. treating technology to improve the capacitance density and maintain a desired flatness by laying a dielectric material layer on lower electrodes and the surface of a dielectric layer and forming upper electrodes on the dielectric material layer.例文帳に追加

標準／低温処理技術と適合しキャパシタンスの密度を向上させる多層構造で使用されるＣＭＰと適合性を有するキャパシタ構造を提供すること。 - 特許庁

According to one favorable embodiment, the steel layer 11 of composite material is provided on the inner surface of the telescope part in order to minimize the thermal stress due to a temp. change generated by solar beams.例文帳に追加

また、好ましい具体例では、複合材の鋼層（１１）は、太陽により生じる温度変化による温度ストレスを最小にするために、テレスコープ部の内面上に設けられる。 - 特許庁

To synthesize a hard BN thin film having excellent characteristics as those of a coating material to be used at high temp. and further capable of applying coating on the surface of a thermaly weak material.例文帳に追加

高温で使用される用途のコーティング材料としての優れた特性を持ち、更に、熱的に弱い材料の表面にもコーティングが可能な硬質ＢＮ薄膜を合成すること。 - 特許庁

To provide a hot rolling equipment train and rolling method of hot rolled steel strips by which the securement of finished temp. by rolling and prevention of surface defects such as scale-like scale defects are compatible.例文帳に追加

圧延仕上温度の確保とウロコ状スケール疵などの表面欠陥の防止を両立させることが可能な、熱間圧延設備列及び熱延鋼帯の圧延方法を提供する。 - 特許庁

Thereafter, by performing the heat treatment at a temp. of ≥ the glass- transition point of polymethylmethacrylate forming the optical waveguide 30, the cut surface 43 is inclined, thereby forming the optical waveguide mirror.例文帳に追加

この後、光導波路３０を形成するポリメチルメタクリレートのガラス転移点以上の温度で熱処理することにより、切断面４３が傾斜し、光導波路ミラーが形成される。 - 特許庁

When the surface layer 4 substantially comprising the propylene/ethylene random copolymer is laminated on the surface of the intermediate layer 3 after the layer 3 is laminated to be cooled, the intermediate layer 3 is cooled by a cooling roll of which the surface temp. is 50°C or higher to be laminated.例文帳に追加

また、中間層３を積層し冷却後、その表面にプロピレン−エチレンランダム共重合体から本質的になる表層４を積層する際に、中間層３を冷却ロール表面温度が５０℃以上で冷却して積層するラミネートクロスの製造方法である。 - 特許庁

Then, the gaseous organic material vaporizing on the surface of the carbon fiber formed body 7 does not cause very much pyrolysis in the vicinity of the surface to easily diffuse toward the center part and rapidly pyrolyzed in the center part having relatively high temp.例文帳に追加

従って、炭素繊維成形体２の表面部で蒸発した有機物ガスは表面近傍ではあまり熱分解を起こさず、中心部に向けて容易に拡散して行き、比較的温度が高い中心部において急激に熱分解される。 - 特許庁

The heating temp. of a viscoelastic body 17 by a heating coil 16 at the time of retract coarse motion separating a probe 10 from the surface of a sample is made higher than that at a time of approach coarse motion allowing the probe 10 to approach the surface of the sample.例文帳に追加

加熱コイル１６による粘弾性体１７の加熱温度を、探針１０を試料１９表面から引き離すリトラクト粗動時の方が、該探針１０を該試料１９表面に近付けるアプローチ粗動時より高くなるようにした。 - 特許庁

An oxide superconducting thin film is formed on the surface of a substrate 5 which is heated to a prescribed temp. in a vapor deposition zone A while parallelly moving the substrate 5 so as to pass through the vapor deposition zone A.例文帳に追加

蒸着領域Ａを通過するように基板５を平行移動させつつ、蒸着領域Ａ内で所定の温度に加熱された基板５の表面に酸化物超電導体薄膜を成膜する。 - 特許庁

With the use of such an apparatus for evaporation-polymerizing raw material monomers A, B for forming a polyimide film on a wafer, the surface temp. of the wafer is set below 30°C to evaporation-polymerize them to form the film.例文帳に追加

かかる装置を用いて、ウエハー上に原料モノマーを蒸着重合せしめてポリイミド膜を形成するに際し、該ウエハーの表面温度を３０℃より低くして蒸着重合し、成膜する。 - 特許庁

This recrystallized silicon carbide has open pores, a carbon layer on the inner wall surface of each open pore is removed by etching and the resistivity at room temp. is ≥10000 Ω.cm.例文帳に追加

開気孔を有する再結晶炭化珪素であって、前記開気孔の内壁面のカーボン層がエッチングにより除去されており、室温抵抗率１００００Ω・ｃｍ以上であることを特徴とする。 - 特許庁

In this method, the temp. of the substrate is controlled to ≤130°C to form the transparent electrically conductive film on the surface of the substrate, and, after that, the formed transparent electrically conductive film is subjected to heat treatment at ≥180°C.例文帳に追加

該方法は、前記基板の温度を１３０℃以下にして前記基板の表面に前記透明導電膜を形成した後、１８０℃以上の温度で前記形成した透明導電膜を熱処理する。 - 特許庁

The base metal contains an element forming oxide on the surface of the base metal at the time of high temp. oxidation, and the high vapor pressure material contains a high vapor pressure element of the kind different from that of the oxide forming element.例文帳に追加

母材は、高温酸化時に母材表面に酸化物を形成する元素を含むものであり、高蒸気圧材料は、前記酸化物形成元素とは異なる種類の高蒸気圧元素を含む。 - 特許庁

In the tempering process thereafter, in the state of lowering the heating temp. of the high frequency inductor 10, e.g. to about 200-250°C, the high frequency inductor 10 is shifted downward along the tooth surface of the tooth part 2.例文帳に追加

その後の焼戻し工程では、例えば２００〜２５０℃程度まで高周波誘導子１０の加熱温度を下げた状態で、高周波誘導子１０を歯部２の歯面に沿って下向きに移動させる。 - 特許庁

Moreover, when the wafer W in which the organometallic compound has been dried is heated at a prescribed temp. in a heat treating part 4, the organometallic compound applied on the surface of the wafer W is thermally decomposed to form a uniform metallic thin film of the organometallic compound on the surface of the wafer W.例文帳に追加

さらに、金属有機物が乾燥されたウエハＷを熱処理部４において所定の温度で加熱すると、ウエハＷの表面に塗布された金属有機物が熱分解し、ウエハＷの表面に均一な金属有機物の金属薄膜が形成される。 - 特許庁

At this state, by using a brazing filler metal 4 essentially containing heat treatable copper in the carburizing temp. region, brazing between a tappet main body 2 and a ceramic 3 is performed, at the same time, carbon is impregnated into the surface of the outer peripheral surface 2d and the groove 2c of the stem part 2a.例文帳に追加

そして、この状態で浸炭温度域で熱処理可能な銅を主成分とするロー材４を用いてタペット本体２とセラミック３とのロー付処理を行うと同時に、ステム部２ａの外周表面２ｄ及び溝２ｃの表面に炭素を含浸させる。 - 特許庁

When the surface layer 4 comprising the propylene/ethylene random copolymer is to be laminated on the surface of the intermediate layer 3 after the adhesive layer 5 and the intermediate layer 3 are laminated and cooled, the adhesive layer 5 and the intermediate layer 3 are cooled by a cooling roll of which the surface temp. is 50°C or higher.例文帳に追加

また、接着層５および中間層３を積層し冷却後、その表面にプロピレン−エチレンランダム共重合体からなる表層４を積層する際に、接着層５及び中間層３を表面温度が５０℃以上の冷却ロールによって冷却する防炎性ラミネートクロスの製造方法である。 - 特許庁

A second substrate layer 6 having thermal deformation temp. higher than that of the first substrate layer 4 is formed on the rear surface of the first substrate layer 4 through a self-adhesive layer 5 and a surface layer 1 containing photocatalyst particles is formed on the surface of the first substrate layer 4 through a primer layer 3 and an intermediate layer 2 and shows hydrophilicity corresponding to light excitation.例文帳に追加

第１の基体層と第２の基体層を有する多層フィルムであって、前記第１の基体層の表面には、光触媒粒子を含有する表面層を備えてなり、該表面が前記光触媒の光励起に応じて親水性を呈することを特徴とする光触媒性親水性フィルム - 特許庁

The first seal part 52 absorbs the surface roughness of separators 30 and 40, etc., which may drop the sealing performance of the interface and follows the changed dimensions resulting from a temp. change in an electrolyte film 22, etc.例文帳に追加

軟らかい第１シール部５２により、界面のシール性を低下させるセパレータ３０，４０等の表面の粗さを吸収すると共に電解質膜２２等の温度変化による寸法変化に追従することができる。 - 特許庁

The surface temp. difference of a turbine blade after heating is detected by an infrared camera, and the detection result is transmitted to an evaluation system of the life of an object to be inspected along with the detecting position data due to a position measuring sensor 4 of the object to be inspected.例文帳に追加

赤外線カメラで加熱後のタービン翼表面の温度差を検知し、その結果を被検査体位置計測センサ４による検出位置情報とともに被検査体寿命評価システム９に伝達する。 - 特許庁

To form an insulated film excellent in all of corrosion resistance, corrosion resistance in flawed parts, adhesion and corrosion resistance after stress relieving annealing at the baking temp. of <300°C in which the thermal decomposition of resins does not occur on the surface of a silicon steel sheet.例文帳に追加

樹脂の熱分解を生じない300 ℃未満の焼付け温度で、耐食性、疵部耐食性、密着性、歪取り焼鈍後の耐食性のいずれにも優れた絶縁皮膜を電磁鋼板表面に形成する。 - 特許庁

The coating process consists of a process for coating the surface of the base material with a membrane of amorphous titania and a process for heating the membrane to temp. equal to or lower than the softening point of the base material to convert amorphous titania to crystalline titania.例文帳に追加

この被覆工程は：（ａ）該表面を無定形チタニアの薄膜で被覆する工程と；（ｂ）該薄膜を基材の軟化点以下の温度に加熱して無定形チタニアを結晶性チタニアに変換する工程；からなる。 - 特許庁

In the low temp. plasma decomposition device, a granular ferroelectric material 3 is filled between both electrodes 1 and 2 and also alumina coating layers are provided respectively at the opposite surface side of the both electrodes 1 and 2.例文帳に追加

本発明は、このような低温プラズマ分解装置において、両電極の間に粒状強誘電体物質が充填されると共に、両電極の対向面側にそれぞれアルミナコーティング層を設ける。 - 特許庁

To provide a novel iron oxide based powder excellent in acid resistance and heat resistance and capable of keeping 'specific surface area, the characteristics of iron oxide itself' even after high temp. heat treatment and the producing method.例文帳に追加

耐酸性，耐熱性に優れ、しかも、高温下での熱処理後においても“比表面積，酸化鉄自体の特性”を保持し得る、新規な多孔質の酸化鉄系粉末およびその製造方法を提供すること。 - 特許庁

The titanium oxide-titanium phosphate powder has such a structure that ultrafine particles of titanium phosphate exist in an amount of 2-20 wt.% expressed in term of P2O5 between ultrafine particles of titanium oxide and a characteristic that its specific surface area does not decrease even when it is heated at high temp.例文帳に追加

酸化チタン超微粒子の間隙に、P_2O_5に喚算して２〜20重量％のリン酸チタンの超微粒子が存在している、高温度での加熱でも比表面積の低下の無い酸化チタン−リン酸チタン系粉末。 - 特許庁

The pigment absorbs laser energy of a first one or more of pulses, a plasma state of high temp/high pressure is generated on the glass substrate surface, a surface layer glass is fused/removed to form a recessed part 9, further, its surrounding is modified to a composition liable to absorb a beam.例文帳に追加

顔料が最初の１つ又はいくつかのパルスのレーザエネルギを吸収して、ガラス基板表面に高温・高圧のプラズマ状態が発生し、表面層のガラスを溶融・除去して凹所９を形成し、かつその周辺部をレーザ光を吸収し易い組成に変質させる。 - 特許庁

A plurality of divided surface heating elements 71, 72, 73, 74 for heating and softening a foil decoration sheet S are provided and heating temp. can be controlled at every surface heating element and at least one of the surface heating elements 71, 72, 73, 74 can be changed in its posture to the foil decoration sheet S.例文帳に追加

絵付シートＳを加熱軟化するための複数に分割された面発熱体７１、７２、７３、７４を有し、それら各面発熱体毎に加熱温度を制御できるようにされ、かつ、前記複数の面発熱体７１、７２、７３、７４のうちの少なくとも一つが前記絵付シートＳに対する姿勢を任意に変えることができるようにされてなる。 - 特許庁

In an embodiment, a cylindrical mold made of aluminum is introduced into a vacuum molding tank and once evacuated while heated to 300°C to be held to this temp. and, thereafter, a silane gas is allowed to gradually flow in the cylindrical mold to form a silicon film on the mold inner surface.例文帳に追加

実施例では、アルミニウム製円筒型を真空成形槽に入れて温度３００℃に加熱保持しながら一旦排気した後、円筒型の内部にシランガスを徐々に流して型内面にシリコン皮膜を形成した。 - 特許庁

The plated layer is formed on the surface of the steel sheet 1 by dipping the steel sheet 1 having a temp. of 505-580°C into a plating bath 9 composed of the aluminum-zinc alloy containing 25-75 mass % aluminum and heated at 595-610°C.例文帳に追加

アルミニウムを２５〜７５質量％含有するアルミニウム−亜鉛合金からなる５９５〜６１０℃のめっき浴９に、板温が５０５〜５８０℃の鋼板１を浸漬させることにより鋼板１表面にめっき層を形成する。 - 特許庁

Then, continuously to this heating treatment, nitriding treatment under heating is executed preferably at a temp. of 450 to 600°C, preferably in an N2 atmosphere under a gas pressure of 1 to 9.5 kgf/cm2 to form nitride on the surface of the base material.例文帳に追加

次いで、この加熱処理と連続させて、好ましくは１〜９．５ｋｇｆ／ｃｍ^2 のガス圧力のＮ_2 雰囲気中において、好ましくは４５０〜６００℃の温度で加熱窒化処理し、前記基材の表面に窒化物を形成する。 - 特許庁

This image forming device is constituted by setting a speed sensor 71 for detecting the recording medium transporting speed and a displacement sensor 72, between the downstream side of a photoreceptor 1 and the fixing device 60, and the temp. sensor 73 is set close to a surface of a fixing roller 62.例文帳に追加

感光体１の下流側と定着装置６０との間に、記録媒体搬送速度を検出する速度センサ７１、変位センサ７２を設置し、また、定着ロ−ラ６２の表面に接近して温度センサ７３を設置する。 - 特許庁

This treating liquid controlled to a prescribed temp. is supplied to the surface side 10a of the substrate 10 from a liquid supply nozzle and also the hot water is supplied to the back surface side 10b by forming a rotary shaft 12 for rotationally driving the substrate 10 into a hollow rotary shaft and arranging a substrate heating means 60 inside.例文帳に追加

液供給ノズル２７から基板１０の表面１０ａ側に所定の温度となった処理液を供給すると共に、その裏面１０ｂ側に温水を供給するために、基板１０を回転駆動する回転軸１２を中空回転軸となし、その内部に基板加温手段６０を配置する。 - 特許庁

The apparatus comprises a furnace 34 for receiving dual-side mount type component mounting substrates W being fed, and a cooling means 82 for cooling the lower surface of the substrate W with temp. controlled air during heating by a heating means 81 for heating the upper surface of the substrate W in the furnace 34.例文帳に追加

両面実装型の部品実装基板Ｗの供給を受ける炉体34と、炉体34内で部品実装基板Ｗの上側面を加熱する加熱手段81に対し、この加熱手段81による加熱中に部品実装基板Ｗの下側面を温度調整した冷風により冷却する冷却手段82を設ける。 - 特許庁

The hardened silica coating having a thickness of ≤1.5 μm is formed by coating a surface of a metal product body with a coating liquid which has been prepared by adding apatite, zeolite, mica or titanium oxide, each supporting Cu or Ag, to an ultrafine particle silica sol prepared from an alcohol solution containing silica alkoxide or silica and then heating the coated surface at a temp. of ≤250°C.例文帳に追加

シリカアルコキシド、又はシリカを含有するアルコール溶液で調整された超微粒体シリカゾルに、銅又は銀を担持したアパタイトやゼオライト又は雲母、或いは酸化チタンのいずれかを添加して金属製品体の表面に塗装し、２５０゜Ｃ以下で加熱して厚み1.5μm以内の硬化したシリカ皮膜を被着する。 - 特許庁

A reflection film 18 is formed on the back face 16b of a transparent glass substrate 16, and then the photocatalytic TiO2 film 20 and the porous SiO2 film 22 are formed by vacuum vapor deposition on the surface 16a of the substrate while keeping the substrate temp. to 200 to 450°C.例文帳に追加

透明ガラス基板１６の裏面１６ｂに反射膜１８を成膜し、その後基板温度を２００〜４５０℃に保って、基板表面１６ａに光触媒ＴｉＯ_２膜２０と多孔質ＳｉＯ_２膜２２を真空蒸着で成膜する。 - 特許庁

To provide a coating compsn. which does not require a long time or a high temp. for curing-drying with excellent durability and weatherability and which is used to cover a substrate surface so that a top coat layer comprising a photo-semiconductive layer is formed on top.例文帳に追加

硬化乾燥に長期間や高温条件を要せず、かつ耐久性・耐候性に優れた、基材表面を被覆して、その上に光半導体層を含有するトップコート層を形成するためのコーティング組成物を提供することを目的とする。 - 特許庁