「temperature processing」に関連した英語例文の一覧と使い方(48ページ目) - Weblio英語例文検索

The catalyst for purifying exhaust gas is obtained by supporting noble metal particles on a metal oxide carrier, and then processing it at a temperature higher than 600°C but lower than 900°C in the atmosphere of the higher percentage of an oxygen component than air.例文帳に追加

貴金属微粒子を金属酸化物担体に担持させた後、大気より高い酸素成分の割合の雰囲気において、６００℃よりも高くかつ９００℃よりも低い温度において処理してなる、排ガス浄化用触媒。 - 特許庁

To provide a negative photosensitive lithographic printing material having high sensitivity to various lasers, having high processing stability even after storage in a high temperature and high humidity environment, and causing no surface stain in printing.例文帳に追加

各種レーザーに対して高い感度を有し、平版印刷材料が高温度且つ高湿度の環境下に保存されても、処理安定性が高く、印刷時に地汚れの発生しないネガ型感光性平版印刷材料を提供する。 - 特許庁

The frozen processed food of sweet potato is provided by removing vascular bundles of sweet potato, blanching the sweet potato using low-temperature steam by saturated water vapor, then freezing, thawing and processing or cooking the blanched sweet potato.例文帳に追加

薩摩芋の維束管が除去され、飽和水蒸気による低温スチームを用いてブランチングが行われ、その後、冷凍され、解凍後、加工または調理することを特徴とする冷凍薩摩芋加工食品を提供するようにした。 - 特許庁

Consequently, deterioration prevention of the fuel battery module FC and improvement on power generation efficiency are attained by always operating the fuel battery cell stacks 21a to 21c at the suitable temperature range on the basis of the processing.例文帳に追加

従って、上述の処理に基づいて、燃料電池セルスタック２１ａ〜２１ｃを常に適切な温度範囲下で運転することにより、燃料電池モジュールＦＣの劣化防止及び発電効率の向上を図ることができる。 - 特許庁

To obtain a thermoplastic resin composition which is excellent in thermal coloration resistance and thermal deterioration resistance under high temperature in a molded article obtained by processing an engineering plastic produced by adding especially a graft copolymer to a thermoplastic resin.例文帳に追加

熱可塑性樹脂、特にグラフト共重合体が添加されたエンジニアリングプラスチックを加工して得られた成形品において、高温下における耐熱着色性や耐熱劣化性に優れた熱可塑性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁

To provide a ceramics cooling plate that has a heat emission property to keep a wafer at constant temperature and prevent thermal deformation during exposure as well as high rigidity and low thermal expansion factor for high processing accuracy.例文帳に追加

露光処理時などにおいて、ウェハの温度を一定にして熱歪みを防ぐための排熱性と、高い処理精度を実現するための高剛性および低熱膨張性をいずれも兼ね備えるセラミックス製冷却プレートを提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus which downsizes an apparatus for adjusting the temperature and humidity of air to be fed to a resist coating unit and a developing unit and reduces the running cost such as power consumption, etc.例文帳に追加

レジスト塗布処理ユニットおよび現像処理ユニットに供給する空気の温度や湿度を調整するための装置の小型化および消費電力等のランニングコストの低減を図ることができる基板処理装置を提供すること。 - 特許庁

To improve mold release paper with an emboss, capable of improving mold releaseability from synthetic leather and being used for manufacturing the synthetic leather requiring the processing under a high-temperature environment, and a method for manufacturing the mold release paper with the emboss.例文帳に追加

合成皮革との剥離性を向上させることが可能で、高温環境での処理を必要とする合成皮革の製造にも使用可能なエンボス付き離型紙及びエンボス付き離型紙の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photographing apparatus capable of efficiently consuming the accumulated power of a battery in a photographing processing operation requiring fan driving for reducing the temperature inside a main body, and to provide a power utilization method for the photographing apparatus.例文帳に追加

本体内部の温度を低減するファン駆動を伴う撮影処理動作においてバッテリの蓄積電力を効率よく消費することができる撮影装置及び当該撮影装置における電力活用方法を提供すること。 - 特許庁

To provide a new polyvinyl chloride-based resin for a paste, capable of being produced in a good productivity, and excellent in gelling property of a plastisol, preservation stability of the plastisol, tensile physical properties under a low temperature processing condition and heat resistance.例文帳に追加

生産性良く製造可能で、プラスチゾルのゲル化性、プラスチゾルの貯蔵安定性、低温加工条件における引張物性、耐熱性に優れた新規なペースト用塩化ビニル系共重合樹脂を提供することを課題とする。 - 特許庁

The processing method comprises a hydrolysis process (step 240) in which the treating material containing lithium-transition metal-containing complex oxide (positive electrode active material etc.) and aluminum member (positive electrode current collector etc.) is treated in a high temperature high humidity atmosphere.例文帳に追加

本発明の処理方法は、リチウム・遷移金属含有複合酸化物（正極活物質等）およびアルミニウム部材（正極集電体等）を含む被処理材を高温多湿雰囲気で処理する加水分解工程（ステップ２４０）を備える。 - 特許庁

When the temperature detected by all thermal detection elements constituting the infrared image sensor 9 rises substantially uniformly, the signal detecting/processing circuit 19 makes a decision that a scattering visible light entered into the sensor 9 and invalidates an acquired data.例文帳に追加

そこで、信号検出・処理回路１９は、赤外線イメージセンサ９を構成する全ての熱検知素子の検知温度が略均一に上昇したときは散乱可視光が入射したと判断して取得データを無効化する。 - 特許庁

To provide a filler for a solar cell module that uses a polyethylene-based resin, has excellent transparency and heat resistance property, and has excellent flexibility at low temperature of -50 to 0°C even after crosslink processing.例文帳に追加

ポリエチレン系樹脂を使用しながら、良好な透明性と耐熱性を有し、架橋処理をした後においても、−５０〜０℃の低温で良好な柔軟性を有する太陽電池モジュール用充填材を提供することを課題とする。 - 特許庁

To make a depth constant even when a workpiece temperature is unequal, in a method of laser processing, which melts a workpiece by a prescribed depth by relatively displacing a laser beam and the workpiece, while emitting the laser beam to the workpiece.例文帳に追加

レーザ光をワークに照射しながら、前記レーザ光と前記ワークとを相対的に移動させて前記ワークを所定の深さまで融解するレーザ加工方法において、ワーク温度が不均一になる場合でも、前記深さを一定にする。 - 特許庁

Lithographic imaging of a 50 nm (or less) half-pitch feature in a chemically amplified resist (usually used in the manufacture of an integrated circuit) is made possible by the use of reduced temperature post-exposure processing and a low activation energy chemically amplified resist.例文帳に追加

（集積回路の製造に通常使用される）化学増幅レジストにおける、５０ｎｍ（以下）のハーフピッチ・フィーチャーのリソグラフィ・イメージングが、低温露光後処理と低活性エネルギー化学増幅レジストを用いることによって可能になる。 - 特許庁

To provide a semiconductor manufacturing apparatus provided with a wafer holder by which the cooling speed of a heater can be improved and the uniformity of temperature distribution of the heater at the time of cooling can be secured and capable of sharply shortening the processing time of a semiconductor wafer.例文帳に追加

ヒータの冷却速度の向上と共に、冷却時のヒータの温度分布の均一性を確保できるウエハ保持体を備え、半導体ウエハの処理時間を大幅に短縮することができる半導体製造装置を提供する。 - 特許庁

To provide a concentrated color developing composition which suppresses the change of oxidation-reduction potential due to storage at high temperature and effectively suppresses the change of gamma balance by development before and after storage, and also to provide a processing method using the same.例文帳に追加

高温での保存による酸化還元電位の変化を抑制し、保存前後での現像によるガンマーバランスの変化を効果的に抑制することが出来る発色現像濃縮組成物及びこれを用いた処理方法を提供する。 - 特許庁

In the processing method of measurement data in strange condition monitoring of a crack of a construction, change over time of data of crack width of the construction is regarded as a waveform of a time of day history, are low-pass filtered, and fluctuation caused by a change of temperature is removed.例文帳に追加

構造物のひび割れの変状監視における計測データの処理方法において、構造物のひび割れ幅の経時変化データを時刻歴の波形とみなしてローパスフィルタをかけ、温度変化に起因する変動を除去する。 - 特許庁

To provide a wastewater treatment method which can decompose and remove oil in high-temperature wastewater of ≥45°C discharged from facilities using a large amount of oil such as those in the food service industry, the food processing industry and the like, without cooling the wastewater.例文帳に追加

外食産業や食品工業等、油を多く使う施設から排出される４５℃以上の高温廃水でも、冷却することなくそのまま油分の分解除去を行う廃水処理方法を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a touch panel with a loudspeaker having favorable strength even without carrying out hard coat processing, exercising high heat resistance and transparency, even in a comparatively high-temperature environment, and capable of exercising superior acoustic characteristics.例文帳に追加

ハードコート処理を行わなくても良好な強度を持つとともに、比較的高温環境においても高い耐熱性と透明性を発揮し、且つ優れた音響特性を発揮することが可能なスピーカ付タッチパネルを提供する。 - 特許庁

To improve both reliability of processing quality and productivity, reduce a device price and miniaturize a device by maintaining a highly cleaned atmosphere even if an interior of an airtight chamber is in a high temperature state in a semiconductor manufacturing device with an airtight chamber.例文帳に追加

気密室を有する半導体製造装置に於いて、気密室内が高温状態でも高清浄雰囲気に維持し、処理品質の信頼性を向上すると共に生産性の向上、装置価格低減、装置の小型化を図る。 - 特許庁

Article 252 The employer shall, as regards places where high-temperature slag are processed with water, or are disposed, in order to prevent steam explosions, take the following measures. However, this shall not apply to the case that water smash processing is carried out: 例文帳に追加

第二百五十二条　事業者は、水蒸気爆発を防止するため、高熱の鉱さいを水で処理し、又は廃棄する場所については、次の措置を講じなければならない。ただし、水砕処理を行なうときは、この限りでない。 - 日本法令外国語訳データベースシステム

To provide an automatic analyzer capable of realizing the control of temperature of a standard solution and a diluted sample with high accuracy in electrolyte analysis while inhibiting the impairing of the processing performance of a colorimetric analyzing part when the electrolytic analyzing part is used.例文帳に追加

電解質分析部使用時の比色分析部の処理能力の低下を抑えつつ、電解質分析において高精度の標準液および希釈試料の温度制御を実現できる自動分析装置を提供する。 - 特許庁

To provide a phase adjusting method, a phase adjusting apparatus, and a plasma processing apparatus which keep a phase change quantity constant at all the time regardless of a change in surrounding temperature, are extremely inexpensive and are superior even with respect to power saving.例文帳に追加

周囲の温度変化に関係なく、常に位相変化量を一定に維持することができるとともに、非常に安価で省エネに対しても優れた位相調整方法及び位相調整装置及びプラズマ加工装置を提供する。 - 特許庁

To provide a chemical-resistant liquid comprising a polyamide, a layered silicate and a liquid crystal resin, a thermoplastic resin composition having an improved gas permeation resistance, chemical resistance and low- temperature toughness wherein the thickness non-uniformity in processing is inhibited, and a molded product.例文帳に追加

ポリアミドと層状珪酸塩および液晶性樹脂からなる耐薬液および耐ガス透過性、耐薬品性、低温靭性の改良および加工時の肉厚むらを改良した熱可塑性樹脂組成物および成形品を提供する。 - 特許庁

To provide an image processor for reducing power consumption of a chip, in which plural functional blocks to constitute a controller to execute various functions are incorporated, to suppress temperature rise of the chip and the increase processing speed.例文帳に追加

さまざまな機能を実行させるためのコントローラを構成する複数の機能ブロックが組み込まれたチップの消費電力を削減すると共に、チップの昇温を抑え、処理速度の向上を図った画像処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a polishing monofilament having not only excellent acid-resistant property but also excellent wet-heat resistant property and particularly preferably used in acid liquid washing and polishing processing under high temperature and high humidity of a stainless steel plate.例文帳に追加

耐酸性に優れるばかりか、耐湿熱性にも優れた特性を有し、特にステンレス鋼板などの高温、高湿下における酸液洗浄研磨加工において好ましく使用することができる研磨用モノフィラメントの提供。 - 特許庁

To provide austenitic stainless steel which has oxidation resistance property and high-temperature strength, facilitates manufacturing of raw materials and processing to products by forming and welding, can be used for a large range of fields and exhibits excellent economy.例文帳に追加

耐酸化性と高温強度を有した上で、素材の製造および製品への成形、溶接による加工が容易であり、広範な分野での使用に耐える優れた経済性を兼ね備えるオーステナイト系ステンレス鋼を提供する。 - 特許庁

To provide an image processor and an image processing method capable of surely detecting a pixel defect that later occurs due to changes over time and temperature characteristics of an imaging element and the reflection of foreign matters attached to the imaging element.例文帳に追加

撮像素子の経時変化や温度特性により後発的に発生する画素欠陥及び撮像素子に付着した異物の写り込みを確実に検出することができる画像処理装置及び画像処理方法を提供する。 - 特許庁

To provide a substrate processing apparatus and method capable of preventing the occurrence of downtime in replacing chemicals in a reservoir tank, and maintaining the temperature of a chemical to be supplied to a substrate at a constant exact time.例文帳に追加

貯留槽内の薬液の交換時におけるダウンタイムの発生が防止され、かつ基板に供給される薬液の温度を正確に一定に保つことができる基板処理装置および基板処理方法を提供することである。 - 特許庁

To provide a sound absorbing material for a vehicle excellent in sound absorbing capacity, having combustion resistance enabling sufficient use in a high temperature region, easily susceptible to molding processing, not polluting environment and easy to recycle and a method for efficiently producing this sound absorbing material.例文帳に追加

吸音性能が優れ、高温部位にも十分使用できる耐燃焼性を有し、成形加工が容易で環境を汚染することがなく、リサイクルも容易な車両用吸音材及びその効率的な製造方法を提供。 - 特許庁

This solid pharmaceutical preparation of gastric suspending type is composed of (A) a suspending type preparation part including an expanding type polymer molecule expanded by a low temperature plasma processing and (B) a pharmaceutical preparation part containing a medicament.例文帳に追加

低温プラズマ処理により膨張した膨張性高分子を含有する浮遊性製剤部分（Ａ）と、薬物を含有する製剤部分（Ｂ）とから構成された製剤が、胃内浮遊型固形製剤として可能であることを見出した。 - 特許庁

The smoothness, the surface temperature, and the pressurizing pressure of the heat roller 328a on the upstream side in the conveying direction of the recording medium are not higher than those of the heat roller 328b at the downstream side, and hot pressing fixing processing is performed in accordance with the fixing and the progress of drying and fixing.例文帳に追加

記録媒体搬送方向上流側のヒートローラ３２８ａの平滑度、表面温度、加圧圧力は下流側のヒートローラ３２８ｂ以下であり、乾燥及び定着の進行に合わせた熱圧定着処理が行われる。 - 特許庁

The hybrid monolayered carbon nanotube, which includes the dopant substance in the monolayered carbon nanotube, is made by keeping the monolayered carbon nanotube with a perforation and the dopant substance under vacuum pressure at the processing temperature as the dopant substance changes to a vapor.例文帳に追加

開孔を有する単層カーボンナノチューブとドーパント物質を、真空減圧下で、ドーパント物質が蒸気となる処理温度に保持することで、ドーパント物質が単層カーボンナノチューブに内包されたハイブリッド単層カーボンナノチューブを作製する。 - 特許庁

To improve the adhesion and durability of the film stacks during subsequent elevated temperature processing in a method for forming modulated tantalum/tantalum nitride diffusion barrier stacks on semiconductor device substrate used in interconnect structure.例文帳に追加

配線構造に使用される半導体デバイスの基板上に、調節されたタンタル／窒化タンタルの拡散障壁の積み重ねを形成する方法において、後の高温の加工中における膜の積み重ねの付着性及び耐久性を改善する。 - 特許庁

The processing liquid has at least a hydrophilic group and a hydrophobic group respectively in its one molecule, and includes an organic substance having volatility at a room temperature.例文帳に追加

低誘電率材料が少なくとも表面の一部に露出している基板を処理する処理液であって、１分子中に親水基並びに疎水基を少なくともそれぞれ１つ有し、かつ室温において揮発性を有する有機物を含む。 - 特許庁

A semiconductor wafer processing apparatus, more specially, a semiconductor substrate support pedestal has a substrate support, an isolator, and first and second heat transfer plates for providing a controllable, uniform temperature distribution across the diameter of a semiconductor wafer.例文帳に追加

半導体ウェーハ処理装置、より詳細には半導体基板支持台は基板支持、アイソレータ、及び第１及び第２熱伝達板を有し、半導体ウェーハの直径を横切って制御可能で一定の温度分布を供給する。 - 特許庁

In the process of removing the resist layer for the atmosphere of the gaseous mixture, the volume ratio (steam/ozone gas) of the steam to the ozone gas is 1 to 4 and the temperature inside the processing chamber is 95°C to 140°C.例文帳に追加

前記レジスト層を除去する工程において、前記混合気体の雰囲気は、前記オゾンガスに対する前記水蒸気の体積比（水蒸気／オゾンガス）が１ないし４であり、前記処理室内の温度は９５℃ないし１４０℃である。 - 特許庁

To provide a method for producing an assisting food and a food additive using bone of eel as raw material suppressing offensive smell caused to bone marrow in raw bone of an eel, without using facilities for mincing, high pressure/high temperature processing.例文帳に追加

ミンチング用設備、高圧・高温処理設備を用いることなく鰻の生骨中の骨髄液による悪臭を抑制した鰻の骨を原料とする健康補助食品及び食品添加物の製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition capable of developing in an alkaline aqueous solution, processing at a low temperature and giving an excellent heat-resistant resin layer, and a phenol novolak useful as a curing agent for such resin composition.例文帳に追加

アルカリ水溶液での現像及び低温での加工が可能で耐熱性の優れた樹脂層を得ることができる感光性樹脂組成物、及びそのような組成物の硬化剤として有用なフェノールノボラックを提供すること。 - 特許庁

By this invention, by controlling the temperature of the oxidation catalyst on the downstream side of the filter, oxidation processing can be suitably performed on the particulate matter flowing out of the filter while minimizing energy imparted to the oxidation catalyst.例文帳に追加

本発明により、フィルタ下流の酸化触媒の温度制御を行うことで、酸化触媒へ付与するエネルギを可及的に低減しながらフィルタから流出してくる粒子状物質を好適に酸化処理することができる。 - 特許庁

The medical appliance body is brought into contact with gas containing nitrogen at a processing temperature of 800°C or more to make the ferrite stainless steel constituting the medical appliance body absorb nitrogen and austenitize at least a part of the ferrite stainless steel.例文帳に追加

医療用具本体を、窒素を含むガスに８００°Ｃの処理温度以上で接触させ、医療用具本体を構成するフェライト型ステンレス鋼に窒素を吸収させ、フェライト型ステンレスの少なくとも一部をオーステナイト化させる。 - 特許庁

To provide a heat treatment method of a silicon wafer which is capable of suppressing worsening of surface roughness even when rapid thermal processing (RTP) is performed at a high temperature with a high void defect annihilation power and which is further capable of suppressing occurrence of a recessed pit.例文帳に追加

ボイド欠陥の消滅力が高い高温下でＲＴＰを行っても、表面粗さの悪化を抑制することができ、更に、凹形状のピットの発生も抑制することができるシリコンウェーハの熱処理方法を提供する。 - 特許庁

A wafer W is heated on a hot plate 45 to a predetermined temperature, and, in such condition, a hydrofluoric acid vapor is introduced to the surface of the wafer W, and the process for removing the film which removes an oxide on the wafer surface by vapor-phase processing is performed.例文帳に追加

ホットプレート４５上でウエハＷを所定温度に加熱し、その状態で、ウエハＷの表面にふっ酸蒸気を導き、気相エッチング処理によってウエハＷの表面の酸化膜を除去する膜除去工程を行う。 - 特許庁

A control system is arranged for switching a position of the ash input nozzles arranged in a plurality and controlling an ash input quantity by a discharge state of melting slag, an ash processing quantity, a furnace inside temperature and a growth degree of ash sticking in the furnace.例文帳に追加

また溶融スラグの排出状況，灰処理量，炉内温度，炉内に付着する灰の成長度合いによって、複数設けた灰の投入ノズルの位置を切り替えたり、灰の投入量を制御する制御装置を設ける。 - 特許庁