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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > temperature processingに関連した英語例文

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temperature processingの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 2994



例文

Laser projection time measurement processing is performed at a step S1 and the value of a laser projection time accumulating timer is read in at a step S2; and source voltage data are read in at a step S3 and temperature data are read in at a step S4.例文帳に追加

ステップS1でレーザ出射時間測定処理が実行され、ステップS2でレーザ出射時間累積タイマの値が読み込まれ、ステップS3で電源電圧データが、ステップS4で温度データが読み込まれる。 - 特許庁

To provide a material, in particular a dental material, which has a large penetration curing depth, does not have conventional defects, has especially sufficiently long processing time, and achieves curing without generating a high temperature.例文帳に追加

本発明の目的は、大きい貫通硬化深さを有し、上記欠点を有さず、そして特に充分に長い加工時間を有し、そして高温を発生させずに硬化する、材料、特に歯科材料を提供することである。 - 特許庁

To provide an imaging part of an electronic endoscope which does not generate the falling of a lens and the decline of an optical performance, etc., even when pressure in a space where the endoscope is placed is high when receiving high temperature and high pressure steam sterilization processing.例文帳に追加

高温高圧蒸気滅菌処理を受ける際に内視鏡が置かれた空間が高圧になっても、レンズの脱落や光学性能の低下等が発生しない電子内視鏡の撮像部を提供すること。 - 特許庁

In the control unit 200, the frequency for execution of the inert gas exhaust processing (step S20) by the anode gas circulation unit 350 is increased when the operation temperature of the fuel cell 100 is equal to or more than a first threshold (step S40).例文帳に追加

制御部200は、燃料電池100の運転温度が第1の閾値以上であるときに、アノードガス循環部350が不活性ガス排出処理(ステップS20)を実行する頻度を増加させる(ステップS40)。 - 特許庁

例文

The sub CPU 53 outputs information as to a scene illuminant (color temperature), a photographic place, the colors and features of main objects, etc. to an image processing circuit 30 through a main CPU 31.例文帳に追加

サブCPU53は、シーン解析によって得られる光源(色温度)や撮影場所、主要被写体の色、主要被写体の特徴などの情報を、メインCPU31を介して画像処理回路30へ出力する。 - 特許庁


例文

To provide a laminating device that relaxes damage to a diaphragm by eliminating or suppressing a temperature difference generated between an upper surface and a lower surface of a substrate to be subjected to laminating processing, and has a short cycle time and high productivity.例文帳に追加

ラミネート処理する基板の上下面の間に生じる温度差を解消または抑制してダイヤフラムの損傷発生を緩和でき、しかも、タクトタイムが短く生産性の高いラミネート装置を提供する。 - 特許庁

To provide a drain water processing apparatus of a vending machine, which is capable of efficiently adjusting an internal atmosphere of an article storage box or the like to a desired temperature and of reducing the power consumption.例文帳に追加

商品収容庫等の内部雰囲気を所望の温度に効率良く調整することができ、しかも消費電力量の低減化を図ることができる自動販売機のドレン水処理装置を提供すること。 - 特許庁

To eliminate work for processing an external electric wire for connecting plural select button units and to eliminate danger of the electric wire to be exposed under a high temperature in contact with an illumination lamp as well.例文帳に追加

自動販売機の選択ボタン装置において、複数の選択ボタン単体を接続するための外部電線を処理する作業をなくして、電線が照明灯に接触し高温にさらされる恐れもなくする。 - 特許庁

Sensors of humidity, dust, resistance, vibration, sound, smell, power-on time measurement and visual sense are built in a computer system, in addition to sensors of temperature and voltage, and a service processor transmits data to a central processing unit, to properly handle the fault.例文帳に追加

温度、電圧の各センサに加えて、湿度、粉塵、抵抗、振動、音、臭い、通電時間計測、視覚の各センサを、計算機システムに組み入れ、サービスプロセッサが中央処理装置に通知し、対応する障害処理を行なう。 - 特許庁

例文

To provide a bedding material composed of a high-density woven fabric realizing low air permeability without damaging the texture and appearance under a mild condition of the linear pressure and surface temperature of a blast calender roll in down-proof processing.例文帳に追加

ダウンプルーフ加工によるプラストカレンダーロール線圧や同表面温度をマイルド条件として風合い及び外観品位を損ねずに低通気度を実現させた高密度織物による寝装資材を提供すること。 - 特許庁

例文

To provide a positive photosensitive polyimide composition which enables processing of a fine pattern, forms a film having heat resistance and a coefficient of linear expansion close to that of a substrate, does not require imidization at a high temperature, and can be alkali-developed.例文帳に追加

微細パターンの加工ができ、得られた被膜の耐熱性と基材との線膨張係数が近接し、かつ高温でのイミド化を必要としない、アルカリ現像できるポジ型感光性ポリイミド組成物を提供する。 - 特許庁

The masking layer can be obtained by conducting a conditioning process for more than five hours under a processing condition of the temperature being 30°C or more and the relative humidity being 90% or more after having pasted the dry film resist as a patterning mask.例文帳に追加

このようなマスク層は、ドライフィルムレジストをパターニングマスクとして貼りつけた後、温度が30℃以上、相対湿度が90%以上の処理条件で5時間以上コンディショニング処理を行なうことで得られる。 - 特許庁

In the film processing method for continuously stretching a resin film obliquely in the direction forming an angle of 5-85° with respect to the lateral direction of the resin film, the film at the time of stretching has a temperature distribution in its lateral direction.例文帳に追加

樹脂フィルムをその幅方向に対して5〜85度の方向に連続的に斜め延伸する方法であって、延伸時のフィルムがその幅方向で温度分布を有するようにして斜め延伸するフィルム加工方法。 - 特許庁

To provide a wafer processing unit for manufacturing a semiconductor device capable of improving the uniformity of a treatment process by minimizing a temperature change of a wafer treatment solution supplied onto a wafer rotating by a spin chuck.例文帳に追加

スピンチャックによって回転するウェーハ上に供給されるウェーハ処理溶液の温度変化を最小化することで処理工程の均一度を向上させる半導体素子製造用ウェーハ処理装置を提供する。 - 特許庁

The detector 5 is equipped with a light intensity sensor 5a for measuring the intensity of the reflected light, and an information processing device 5b for determining and recording the actual temperature and its change, based on a signal from the light intensity sensor 5a.例文帳に追加

検知器5は、反射光の強度を測定する光強度センサ5aと、光強度センサ5aからの信号に基づいて実際の温度とその変化を求め、記録する情報処理装置5bとを備えている。 - 特許庁

To provide a polystyrene resin sheet which is excellent in fogging- proof at a high and low temperature and mold-releasability or peelability of the sheet and has a low electrification property when molded, and is suitably used for secondary processing.例文帳に追加

高温、低温防曇性にとも優れ、シート及びシート2次成形品の離型性や剥離性に優れ且つ、成形時の帯電が少ない、2次成形に好適にしようできるスチレン系樹脂シートを供給すること - 特許庁

As abnormality detection objects 100 for executing abnormality detection processing depending on dialog objects, three A to C water temperature sensor objects 110a to 110c corresponding to a plurality of abnormality detection techniques are provided.例文帳に追加

ダイアグ対象に依存する異常検出処理を実行する異常検出オブジェクト100として、複数の異常検出手法に対応させたA〜Cの3つの水温センサオブジェクト110a〜110cを設ける。 - 特許庁

To provide a thermosetting adhesive composition which has resistance superior to solder cracking even in high-temperature solder reflow processing of approximately 260°C used for lead-free solder; and to provide a semiconductor package using the same.例文帳に追加

鉛フリー半田に用いられるような260℃程度の高温半田リフロー処理によっても耐半田クラック性に優れた熱硬化性接着剤組成物およびそれを用いた半導体パッケージを提供すること。 - 特許庁

A mixed gas of Xe, Kr or Ar and Xe or a mixed gas of Ar and Kr which can reduce the electron temperature of plasma is used as a noble gas in processing a film to be processed being an insulating film.例文帳に追加

さらに、絶縁膜である被加工膜を加工する際の希ガスとして、プラズマの電子温度を低減できるXeもしくはKrもしくArとXeの混合ガスもしくはArとKrの混合ガスを適用した。 - 特許庁

To provide a film forming method and a substrate processing apparatus for effectively forming a barrier layer including a high quality Ti film even under a low temperature and forming also a TiSi_x film, in a self-aligning manner, in an interface region between the Ti film and an underlayer thereof.例文帳に追加

低温下であっても,良質なTi膜を含むバリア層を効率よく形成することができ,そのTi膜と下地との界面領域に自己整合的にTiSi_x膜を形成することができる。 - 特許庁

After the operation of the interruption key 29b, the shift to the low power mode is blocked, the display section displays a state of interrupt processing and the wait time until the printer heater 31b increases temperature is not required.例文帳に追加

割り込みキ−29bの操作後には、このような低電力モ−ドへの移行を阻止して、表示部に割り込み処理中であることを表示し、また、プリンタヒ−タ31bが昇温するまでの待機時間を不要とする。 - 特許庁

To provide a film for laminating a lid of a metal can, having excellent processability in lid formation, having excellent corrosion resistance of hardly causing corrosion at a score processing part even if being held at a high temperature, and useful for laminating easily openable lid of the metal can.例文帳に追加

製蓋加工性に優れ、高温保持されてもスコア加工部に腐蝕を生じない優れた耐腐食性を備え、金属缶イージーオープン蓋の貼り合せに有用な、金属缶蓋貼り合わせ用フィルムを提供する。 - 特許庁

Hole sealing processing is applied on the surface of the oil accumulative grooves 6 so that lubricating oil accumulated in the oil accumulative grooves 6 is maintained in the oil accumulative grooves 6 without being pulled into an inner air hole 3 during a temperature fall.例文帳に追加

油溜り溝6の表面には、この油溜り溝6に溜められた潤滑油が、温度下降時に内部空孔3へ引き込まれることなく油溜り溝6に保持されるよう、封孔処理が施されている。 - 特許庁

To provide an engine system which can accurately measure a pressure difference between gas inlets and gas outlets of a diesel smoke filter and an EGR valve and temperature of exhaust gas passing through an exhaust line, and a method for processing data of the engine system.例文帳に追加

ディーゼル媒煙フィルタ及びEGRバルブのガス入口とガス出口との圧力差、及び排気ラインを通る排気ガスの温度を精度よく測定できるエンジンシステム及びそのデータ処理方法を提供する。 - 特許庁

This sensor 5 is provided with a vibration sensor 12, a temperature sensor 13, and a rotational speed sensor 14, which are detection parts detecting a detection object, and a circuit part 15 processing signals detected from the detection parts.例文帳に追加

センサ5は、検出対象を検出する検出部である振動センサ12と温度センサ13と回転速度センサ14、及びこれら検出部で検出された信号を処理する回路部品15とを備える。 - 特許庁

Since the substrate W is dried by high temperature nitrogen gas in the processing bath 20 having a capacity smaller than that of a container 10, need for an organic solvent, e.g. IPA, can be eliminated or the quantity thereof being used can be reduced.例文帳に追加

その結果、収容器10より容積の小さい処理槽20内で高温の窒素ガスによる基板Wの乾燥が行われるため、IPA等の有機溶剤が不要となる、またはその使用量を削減できる。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition that enables developing processing by a dilute aqueous alkaline solution with high shape accuracy, and that can form an optical waveguide having superior transmission characteristics even under high temperature and high humidity conditions.例文帳に追加

希アルカリ水溶液による現像処理が可能であり、形状の精度が高く、高温高湿下でも優れた伝送特性を有する光導波路を形成しうる感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

An image control unit CU of a display module 1 of a mobile object comprises; an image processing circuit 110; a temperature detecting circuit 300; an analog to digital converter 310; a controller 320; and a luminance adjusting circuit 330.例文帳に追加

移動体の表示モジュール1の画像制御ユニットCUは、画像処理回路110と、温度検出回路300と、アナログ/デジタル変換器310と、コントローラ320と、輝度調整回路330とを備える。 - 特許庁

To provide a polyurethane resin formed article, without lowering its heat deformation temperature and also without decreasing impact strength, and excellent in cut-processing property and flame retardant property, and a flame retardant resin formed material obtained by curing/forming the same.例文帳に追加

成型品の熱変形温度が低下せず、かつ衝撃強度も低下しない、切削加工性と難燃性に優れたポリウレタン樹脂成型品、およびこれを硬化成型した難燃性樹脂成型を提供する。 - 特許庁

To provide a technique for restraining a decrease in temperature of a heating roller and a pressurizing roller due to passage of paper or the like in fixing processing without greatly increasing overall power consumption of a fixing device.例文帳に追加

定着装置全体としての消費電力を大幅に増加させることなく、定着処理時における通紙等による加熱ローラおよび加圧ローラの温度低下を抑制することができる技術を提供する。 - 特許庁

Thus, a film having fewer impurities, and a low wet etching rate, is formed on the resist or amorphous carbon layer (ACL) at a low processing temperature not causing damage to the resist or amorphous carbon layer (ACL) on the surface of the substrate.例文帳に追加

これにより、基板の表面のレジストあるいはACLにダメージを与えることのない低い処理温度で、不純物が少なく、ウェットエッチングレートが低い膜をレジストあるいはACLの上に形成することができる。 - 特許庁

To provide a RAID controller device, a RAID device, and a processing method and program for the RAID device capable of minimizing the temperature difference in each hard disk, and lengthening the life of each hard disk.例文帳に追加

ハードディスク毎の温度差を最小限に抑えて、各ハードディスクの長寿命化を図ることが可能なRAIDコントローラ装置、RAID装置、RAID装置の処理方法及びプログラムを提供する。 - 特許庁

To provide a technology for supplying cold air to each IT apparatus stored in a rack in just proportion so that the cold air reaches the upper part of the rack at a temperature required for cooling an information processing apparatus.例文帳に追加

ラックに収容された各IT機器へ冷気を過不足なく、かつラックの上部まで情報処理機器の冷却に必要な温度で到達するように供給できる技術を提供することを課題とする。 - 特許庁

To provide a semiconductor substrate heat treatment apparatus which can control a temperature distribution of a susceptor disposed by lamination even when a horizontal magnetic flux is provided to the susceptor, and can carry out heat treatment by batch processing.例文帳に追加

サセプタに対して水平磁束を与える場合であっても積層配置されたサセプタの温度分布制御を可能とし、かつバッチ処理による熱処理を可能とする半導体基板熱処理装置を提供する。 - 特許庁

To provide a method of manufacturing a semiconductor device, which decreases dependence of temperature of a semiconductor substrate on a pattern density, in heat-processing the semiconductor substrate where multiple patterns with different pattern densities exist.例文帳に追加

パターン密度が異なる複数の種類のパターンが存在する半導体基板の熱処理において、半導体基板温度のパターン密度依存性を低減することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。 - 特許庁

To allow a solder alloy having excellent connection reliability under high temperature and having high content of Cu, to be applied in a soldering method by the reduction processing using reducing gas with low environmental load.例文帳に追加

高温下での接続信頼性に優れたCu含有量の多いはんだ合金を環境負荷の低い還元性ガスを用いた還元処理によるはんだ接合方法に適用することを可能にすることを目的とする。 - 特許庁

Control processing parts of the multiple screen display device 100 monitor the temperatures of the respective LEDs 12 measured by the temperature sensors 13, and adjust the common setting value not to allow the temperatures to exceed maximum allowable temperatures.例文帳に追加

マルチ画面表示装置100の制御処理部は、温度センサ13が測定した各LED12の温度を監視して、それらの温度が最大許容温度を超えないように共通設定値を調整する。 - 特許庁

To provide an interlayer film 10 for laminated glass which hardly causes surface contamination, can be manufactured inexpensively with a fewer processes and can perform lamination processing for glass 101 at a room temperature and to provide a method for manufacturing the interlayer film for laminated glass.例文帳に追加

表面汚染が少なく、製造工程数が少なく低コストで製造でき、かつ、ガラス101へ室温で合わせ加工ができきる合わせガラス用中間膜10及びその製造方法を提供する。 - 特許庁

To provide a system and method for plasma processing of an article to be processed under prescribed temperature control, in order to bring about satisfactory semiconductor characteristics, and to provide a cluster tool.例文帳に追加

本発明は、良好な半導体特性をもたらすために所定の温度制御の下で被処理体にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置及び方法並びにクラスターツールを提供することを例示的目的とする。 - 特許庁

To supply a resist separation liquid with temperature appropriately regulated in accordance with a situation to a substrate, in a substrate processing apparatus configured to produce a resist separation liquid by mixing sulfuric acid with a hydrogen peroxide solution to be supplied to a substrate.例文帳に追加

硫酸と過酸化水素水とを混合してレジスト剥離液を生成し基板に供給する基板処理装置において、状況に応じて適切に温度調節されたレジスト剥離液を基板に供給する。 - 特許庁

To perform measurements of the spatial distribution and the temperature dependence of a dielectric constant accurately, without having to perform arithmetic processing after the measurements by making the contact force of a probe on a dielectric specimen always constant.例文帳に追加

誘電体試料に対する探針の接触力が常に一定になるようにし、測定後の演算処理を行うことなく誘電率の空間分布の測定や温度依存性の測定を正確に行う。 - 特許庁

To acquire a novel solid polymer electrolyte film capable of easily aiming at a thin film structure and enlarged design and having high ion conductivity in the vicinity of room temperature without losing a merit of a polymer compound (C) in spite of its processing.例文帳に追加

薄膜化や大型化などが容易で、加工しても高分子化合物(C)の長所を失うことなく、室温付近でも高いイオン伝導度を有する新規な高分子固体電解質フィルムを得ることにある。 - 特許庁

To provide a heat developable photosensitive material for plate making excellent in dimensional stability even at a high temperature in heat development and excellent also in color reproducibility and suitability to processing and a photographic substrate constituting the photosensitive material.例文帳に追加

熱現像による高温下でも寸法安定性に優れ、さらに色再現性と処理適性に優れた印刷製版用熱現像感光材料およびそれを構成する写真用支持体を提供する。 - 特許庁

When a substrate placement detection signal T is input from the hot plate 1, the correction processing unit 29 calculates a correction value S from the chamber temperature acquired when the substrate 17 to be heat-treated is heat-treated and its correction function.例文帳に追加

補正処理部29は、ホットプレート1からの基板載置検出信号Tが入力されると、被熱処理基板19の本加熱処理時に得られたチャンバー温度とその補正関数から補正値Sを算出する。 - 特許庁

This sensor device 7 comprises a detection part for detecting a temperature and vibration and a transmitter device for transmitting as a radio signal the signal after processing an output signal taken out from this detection part.例文帳に追加

このセンサ装置7は、温度及び振動を検出する為の検出部と、この検出部から取り出された出力信号を処理した後の信号を無線信号として発信する為の発信装置とを備える。 - 特許庁

To provide an optical disk original plate exposing device capable of performing stable exposure processing for a long time by reducing a detection error of focus light caused by base deformation resulting from temperature change.例文帳に追加

温度変化によって生じるベースの変形による、フォーカス光の検出誤差を減少させることができ、長時間の安定した露光処理が可能となる光ディスク原盤露光装置を提供することにある。 - 特許庁

To provide a photosensitive resin composition which attains resist formation by a photographic process with good pattern accuracy by development using an aqueous alkali solution and exhibits satisfactory heat resistance and flexibility by processing at a low temperature.例文帳に追加

写真法によるパターン精度の良いレジスト形成が、アルカリ水溶液を用いた現像で可能であり、また、低温での加工で十分な耐熱性及び柔軟性を発現する、感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁

Consequently, burnup type temperature up processing of discharging a large quantity of fuel into exhaust in a short time is not carried out during the deactivation of a catalyst, so that the undesired increase in the deposit quantity of PM can be prevented.例文帳に追加

このことにより触媒失活時に、短時間に大量の燃料を排気中に放出するバーンアップ型昇温処理が実行されないので、不本意なPMの堆積量増加を防止することができる。 - 特許庁

Consequently, the rinse liquid on the substrate surface Wf is replaced with the high-temperature IPA liquid with high replacement efficiency to suppress the amount of a rinse liquid remaining on the substrate surface Wf small before spin drying processing.例文帳に追加

このため、基板表面Wf上のリンス液が高い置換効率で高温IPA液に置換されてスピン乾燥処理前に基板表面Wf上に残存するリンス液の量を抑制することができる。 - 特許庁

例文

The electrodes 1, 2 are preferably in a cylindrical structure and, it is particularly preferable that a cooling material supply means 20 is provided for supplying cooling material 9 into the cylindrical electrodes to thereby decrease the temperature of the electrodes during plasma processing.例文帳に追加

電極は、円筒状構造であることが好ましく、特に、プラズマ処理中、電極温度を下げるために円筒電極の内部に冷却材を供給する冷却材供給手段を設けることが好ましい。 - 特許庁




  
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