| 例文 |
temperature processingの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2994件
The process generally entails processing the surface of the substrate 20 to be substantially free of oxides, heating the substrate 20 in a non-oxidizing atmosphere to a carburization temperature, and then contacting the surface of the substrate 20 with a carburization gas mixture comprising a diluted low activity hydrocarbon gas while maintaining the substrate 20 at the carburization temperature.例文帳に追加
このプロセスでは、一般に、基材20の表面を加工処理して酸化物を実質的に含まないようにし、基材20を非酸化性雰囲気中で浸炭温度に加熱し、次いで基材20を浸炭温度に維持しつつ基材20の表面を希釈された低活性炭化水素ガスを含む浸炭ガス混合物と接触させる。 - 特許庁
To provide a heat developable photosensitive material which is excellent in density evenness and film conveyability and ensures occurrence of few scuff marks while maintaining high density even in the case of rapid processing, ensures a small rise of fog during high temperature storage, and further is excellent in image preservability during high temperature storage or in film conveyability and environmental suitability if necessary, and also to provide an image forming method.例文帳に追加
迅速処理を行った場合でも高濃度を維持しつつ、濃度むらやフィルムの搬送性に優れ、すり傷の発生が少なく、高温保存時のかぶり上昇が小さいく、又必要により、更に高温保存時の画像保存性に優れ、或いはフィルムの搬送性、環境適性に優れた熱現像感光材料及び画像形成方法の提供。 - 特許庁
In an information processor 100 where CPU 101a processing information is installed so that it can be attached to detached from the processor 100, the inner clock frequency of the CPU 101a is set and the operation condition of a temperature rise suppression operation executed in a temperature rise suppression means is decided in accordance with the inner cock frequency of CPU 101, which is set.例文帳に追加
情報を処理するCPU101aが着脱可能に装着された情報処理装置100において、CPU101aの内部クロック周波数を設定し、この設定されたCPU101aの内部クロック周波数に応じて、昇温抑制手段で実行される昇温抑制動作の動作条件を決定する。 - 特許庁
The in-core process quantity measuring device is constituted of a plurality of detector protection tubes 3 inserted in the core 2 of a reactor pressure vessel 1, a plurality of temperature sensors 4 arranged in the detector protection tubes 3, a data processor 5 processing the measured signal to the temperature sensor 4 and an operation device 6 for calculating the core flowrate by using the values obtained with the data processor 5.例文帳に追加
原子炉圧力容器1内の炉心2に挿入された複数本の検出器保護管3と、この検出器保護管3内に配置された複数の温度センサ4と、この温度センサ4の測定信号を処理するデータ処理装置5と、このデータ処理装置5で得られた値を用いて炉心流量を算出する演算装置6とからなっている。 - 特許庁
A control valve 12 is installed to vary the degree of opening of a communication passage 11, in response to the operating condition of engine 1, thereby the air discharged from compressor 4 is returned to the turbine 3 and the temperature of the exhaust gas is made to drop, and the thermal loading of the turbo-charger 2 and exhaust gas processing means are reduced, and abnormal rise in the exhaust temperature is also avoided.例文帳に追加
エンジン1の運転状態に応答して連絡通路11の開度を可変制御するコントロールバルブ12を設けたことにより、コンプレッサ4から吐出された空気をタービン3に戻して排気の温度を低下させ、もって、ターボチャージャ2および排気処理手段の熱負荷を低減させるとともに、排気温度の異常上昇を回避するようにした。 - 特許庁
To provide a control method and a control device for a heating furnace capable of adjusting the temperature and flow rate of a gas distributed into the furnace optimally for processing a heated object, even when environmental conditions such as barometric pressure and temperature near the heating furnace, a pressure of the gas distributed into the furnace, and the condition of a wiring board are changed, and reducing its installation area.例文帳に追加
加熱炉近傍の気圧および温度等の環境条件、炉内に送り込まれる気体の圧力が変化、あるいは配線基板の状態が変化したとしても炉内に送り込まれる気体を被加熱物の加工に最適な温度および流量に調整すると共に、設置面積が少ない加熱炉の制御方法および制御装置を提供する。 - 特許庁
To provide a substrate, a substrate holding apparatus, an analysis apparatus, a program, a detection system, a semiconductor device, a display apparatus and a semiconductor manufacturing apparatus, which can detect or analyze information regarding the temperature of a substrate that can be used in an environment where the substrate has a high temperature and prevent decrease in the flexibility in the processing work of the substrate.例文帳に追加
基板の温度といった情報を検出または解析する基板、基板保持装置、解析装置、プログラム、検出システム、半導体デバイス、表示装置、および半導体製造装置であって、基板が高温になる環境でも用いることができ、かつ、この基板に対する加工作業の自由度の低下を防止できるものを提供する。 - 特許庁
The present polishing equipment of semiconductor wafer forms a processing chamber which is arranged extendedly in an aperture of head body and in partition from exterior between it and the head body, comprises a roughly circular membrane holding the semiconductor wafer with an inner circumference lower surface, and prepares an air temperature controlling means for controlling a temperature of air directly pressurizing the membrane with air pressure.例文帳に追加
本半導体ウェーハの研磨装置は、ヘッド本体の開口部に張設されてヘッド本体との間に外部と仕切られてなる加圧室を形成するとともに、内周部下面で半導体ウェーハを保持するほぼ円形のメンブレンとを有し、メンブレンを直接空気圧により加圧する空気の温度を制御する空気温度制御手段を備える。 - 特許庁
To provide a biaxial orientation polyester film having high mechanical strength and good heat-resistant dimensional stability in a processing temperature/using temperature range as a reinforcement material of an electrolyte membrane of a solid polyelectrolyte fuel cell, having good hydrolytic property in a use environment of high humidity, and being suitable as a reinforcement material of a solid polyelectrolyte membrane.例文帳に追加
固体高分子電解質型燃料電池の電解質膜の補強材として高い機械的強度および加工温度・使用温度域において優れた耐熱寸法安定性を有し、また高湿度の使用環境において優れた加水分解性を有する、固体高分子電解質膜の補強材として適した二軸配向ポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁
The microcomputer 2 determines the seat on which the occupant is seated by processing a heat image data and detects the wearing state of the seat belt by using discontinuity of surface temperature distribution of an upper half body of the occupant's especially of a face and a scruff.例文帳に追加
マイクロコンピュータ2は、熱画像データを処理して、乗員の居る座席を判断するとともに、乗員の上半身の特に顔および首筋の表面温度分布の不連続性を利用して、シートベルトの着用状態を検出する。 - 特許庁
The silicon wafer is obtained by processing single crystal grown by a Czochralski method, a rapid temperature rising/falling heat treatment of ≤10 seconds is applied to the wafer having an initial interstitial oxygen concentration of ≥1.4×10^18atoms/cc (ASTM F-121, 1979).例文帳に追加
チョクラルスキー法によって育成された単結晶から加工されたシリコンウェーハであって、初期格子間酸素濃度が1.4×10^18atoms/cc(ASTM F−121,1979)以上のウェーハに、10秒以下の急速昇降温熱処理を施す。 - 特許庁
Then, a signal-processing part corrects the reflection intensity, based on the visibility information from the outside (S200), and estimates the condition of the road surface for each measurement point the three pieces of information and road surface temperature information from the outside (S300).例文帳に追加
すると、信号処理部が、外部からの視程情報に基づいて「反射強度」を補正し(S200)、上述した3つの情報と外部からの「路面温度情報」とを用いて測定点毎に路面の状況を推定する(S300)。 - 特許庁
To provide a detergent processing extrusion granulating machine demonstrating the stabilized extrusion performance without being affected by a water content in a detergent raw material and the temperature thereof, and a manufacturing method for a granular detergent or detergent raw material particles using the machine.例文帳に追加
洗剤原料中の水分や温度の影響を受けず安定した押出性能を発揮する洗剤加工用押出造粒機及びそれを用いた粒状洗剤又は洗剤原料粒子の製造方法を提供する。 - 特許庁
A control section 190 collects the sound volume RAV of the reproduced voice output to a sound field space where adjustment of an atmosphere including adjustment of a temperature is performed by the air conditioning device 900, from a voice signal processing section 120.例文帳に追加
空調装置900によって温度調整を含む雰囲気調整が行われる音場空間へ出力される再生音声の音量RAVを、制御部190が音声信号処理部120から収集する。 - 特許庁
The cellulousic fiber subjected to a liquid ammonia treatment is subjected to a steam treatment at a high temperature under a high pressure in a state in which ≥20 wt.% of water based on the fiber is previously added thereto in the method of shape-stabilizing processing for the cellulousic fiber.例文帳に追加
液体アンモニア処理を施したセルロース系繊維を、予め繊維に対して20重量%以上の水分を付与した状態で高温高圧水蒸気処理を行うセルロース繊維の形態安定加工方法。 - 特許庁
The chip discharging groove is formed by being subjected to turning grinding toward the shank part from one side of the cutting edge, and the seizure problem by deviation by excessive stress and increase of temperature when carrying out grinding processing of the chip discharging groove on the cutting edge part is prevented.例文帳に追加
切り屑排出溝は切り刃の一辺よりシャンク部に向かって旋回研削し、切り刃部で切り屑排出溝を研削加工のとき過大な応力によるずれと、温度の上昇による焼きつき問題を防止する。 - 特許庁
To provide a reduced-pressure dryer capable of shortening the processing time by preventing the occurrence of a low temperature part which can cause the dew condensation formed on the inside of a chamber or the inside of exhaust pipe with a simple structure and control.例文帳に追加
簡易な構成および制御によって、チャンバ内部や排気管内部に結露の原因となり得る低温部が発生することを防止することにより処理時間を短縮することが可能な減圧乾燥装置を提供する。 - 特許庁
To provide a temperature converter capable of improving a linear error, capable of preventing complicated processing and troublesome confirmation, and capable of linearizing a reference thermo-electromotive force or a reference resistance value, by optimum polynomial approximation.例文帳に追加
本発明は、直線性誤差の向上と複雑な処理、煩雑な確認を防止し、最適な多項式近似により、基準熱起電力または基準抵抗値の線形化ができる温度変換器を提供することを目的とする。 - 特許庁
An etch resistant heater for use in a wafer processing assembly has a superior ramp rate of at least 20°C per minute, maximum temperature difference across the surface (for example, >100°C over 300 mm), and at least one electrode.例文帳に追加
ウェーハ処理アセンブリ中で使用され、少なくとも1分につき20℃の優れた温度上昇率と、表面にわたる最大温度差(例えば>300mmにわたり100℃)と、少なくとも1個の電極とを有する耐腐食性ヒータ。 - 特許庁
The display control circuit 11 may halt processing for obtaining the vertical retrace period data B when the image data D is a dynamic image data, and may obtain the vertical retrace period data B based on ambient temperature and external light intensity.例文帳に追加
表示制御回路11は、画像データDが動画データのときには垂直帰線期間データBを求める処理を停止してもよく、周囲温度や外光の強度に基づき垂直帰線期間データBを求めてもよい。 - 特許庁
To provide an electrostatic chuck which reduces the manufacturing cost, by eliminating integration of a dielectric layer with a heating/cooling flange, and which, in particular, exerts proper corrosion resistance with respect to high-temperature processing of a semiconductor, and to provide its manufacturing method.例文帳に追加
誘電体層と加熱・冷却フランジとの一体化を省略して製造コストを低減し、特に半導体の高温プロセスに対しても十分な耐食性を有する静電チャックおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a steam oven capable of evenly cooking and processing food with good heat efficiency by causing superheated steam to circulate evenly inside the oven to prevent uneven temperature inside the oven so as to keep the flavor of the food from deteriorating and nutrients from flowing out.例文帳に追加
過熱蒸気を庫内に均等に循環させて庫内での温度ムラの発生を抑え、食品の風味低下や栄養分の流出を抑えて、熱効率良く均一に調理・加工処理ができるスチームオーブンを提供する。 - 特許庁
To provide a gas barrier multilayer film which has excellent gas barrier properties and excellent adhesion between layers, and is suppressed in decrease of the gas barrier properties and free from separation of layers even after long-term exposure to a high-temperature, high-humidity environment or after retort processing.例文帳に追加
高温高湿の環境下に長期間曝された際や、レトルト処理後であっても、ガスバリア性の低下が少なく層間剥離が起こらない、優れたガスバリア性及び層間密着性を有するガスバリア性積層フィルムを提供する。 - 特許庁
To provide a thin heat pipe in a simple constitution, which does not need special processing, is superior in mass-productivity, and has high heat radiating and heat absorbing properties so that the entire surface can be heated or cooled in a short time with a temperature distribution free from unevenness.例文帳に追加
簡素な構成で、特殊な加工を必要とせず、量産性に優れ、表面全体を短時間で温度分布に斑の無い状態に加熱又は冷却することができる放熱性、吸熱性に優れた薄型ヒートパイプの提供。 - 特許庁
To solve the problem in which in long exposure imaging, such as bulb exposure, processing of repeated retrieval of image data out of an imaging element would invite a temperature rise of imaging elements and an increase in dark current noise, resulting in deteriorated picture quality of the recorded image.例文帳に追加
バルブ撮影等の長時間撮影において、撮像素子から画像データを繰り返し読み出して表示する処理を行うと、撮像素子の温度が上昇し、暗電流ノイズが増加するため、記録画像の画質が低下する。 - 特許庁
On the conveyance line A, a cleaning unit 21, a coating unit 22, a heating unit 23, a temperature control unit 24, and a rinse unit 25, which perform prescribed processing for the template T during conveyance, are arranged in this order, in the conveyance direction of the template T.例文帳に追加
搬送ラインAには、搬送中のテンプレートTに対して所定の処理を行う、洗浄ユニット21、塗布ユニット22、加熱ユニット23、温度調節ユニット24、リンスユニット25がテンプレートTの搬送方向に順に配置されている。 - 特許庁
When the wafer 10 is subjected to plasma process in this state, the wafer 10 and tray 11 are both cooled during the plasma processing, so that the wafer 10 is unlikely to have a temperature difference between a center part and an outer peripheral part thereof, thereby improving uniformity of etching.例文帳に追加
この状態でウエハ10をプラズマ処理すれば、プラズマ処理中にウエハ10とトレイ11の両方が冷却されるため、ウエハ10の中心部と外周部で温度差が生じにくくエッチングの均一性が向上する。 - 特許庁
Then, the center device 120 adds weather data at the time of sales to the merchandise information about the sold merchandise, performs totaling processing from the weather data and the merchandise information in association with the temperature and humidity information, and the totaling results is returned to the vending machine 110.例文帳に追加
このときセンタ装置120では、販売時の気象データを販売した商品に対する商品情報に付与して、その気象データおよび温度湿度情報が対応付けられた商品情報から集計処理を行う。 - 特許庁
To provide a cooler and a cooling method of heating components, e.g. a central processing unit or integrated circuits, in a computer in which cooling efficiency is enhanced by eliminating the temperature layer of refrigerant in a cooling pipe.例文帳に追加
冷却パイプ中の冷媒の温度層を解消し、コンピューターの中央演算処理装置や集積回路等の発熱部品を冷却する際の冷却効率を向上した冷却器及びその冷却方法を提供する。 - 特許庁
To solve the problem that the temperature of a specific switching element becomes excessively high when an output voltage of an impedance network IN is boosted by short circuit processing for short-circuiting upper and lower arms of an inverter IV connected to a motor generator 10.例文帳に追加
モータジェネレータ10に接続されるインバータIVの上下アームを短絡させる短絡処理によって、インピーダンスネットワークINの出力電圧を昇圧させる場合、特定のスイッチング素子の温度が過度に高くなるおそれがあること。 - 特許庁
The image processing means continuously acquiring a plurality of the photographed images corresponding to the total length of the high-temperature steel material and extracts the first pixel region corresponding to the region irradiated with the linear light from the acquired photographed image.例文帳に追加
画像処理手段は、高温鋼材の全長分に相当する複数の撮像画像を連続的に取得し、取得した撮像画像から線状光が照射された部位に対応する第1画素領域を抽出する。 - 特許庁
In a heat storage gas processing apparatus 1, there is mixed a fuel (e.g. town gas) of a quantity that is less than combustible limit concentration at ordinary temperature into gas to be processed on a gas introduction passage 10.例文帳に追加
蓄熱式気体処理装置1において、蓄熱層2a〜2cより上流における被処理気体導入路10において被処理気体中に常温での可燃限界濃度以下となる量の燃料(例えば都市ガス)を混入する。 - 特許庁
Then, color shift correction processing is appropriately performed in timing that the possibility of the occurrence of color shift gets high as a result that the speed variation of the intermediate transfer belt due to the variation of the in-machine temperature and the contraction/expansion of the respective parts of the device are caused.例文帳に追加
そして、機内温度の変動に起因する中間転写ベルトの速度変動や装置各部の伸縮が生じた結果、色ずれ発生の可能性が高まるタイミングで色ずれ補正処理が適切に実行される。 - 特許庁
When the wafer W is placed on the cooling plate 60 and cooled, the cover 66 is moved down to form a processing chamber S, and the cover 66 at the low temperature is brought near to the wafer W to facilitate the cooling of the wafer W.例文帳に追加
ウェハWが冷却板60上に載置され,冷却される際に,蓋体66を下降させて,処理室Sを形成すると共に,低温の蓋体60をウェハWに近づけて,ウェハWの冷却を促進させる。 - 特許庁
As a result, it is made possible to make the polarization of the capacitor to be zero and thus it is made possible to prevent the imprint degradation even with respect to a high temperature treatment in the succeeding packaging process by performing such a polarization erasing processing after a probe inspection.例文帳に追加
これにより、分極を0にすることが可能となり、このような分極消去処理をプローブ検査後に実施することで、後のパッケージ工程における高温処理に対してもインプリント劣化を防止することが可能となる。 - 特許庁
Subsequently, an optical element (second optical element) is molded using a corrected mirror surface piece 17 obtained by the correction processing of the temporary mirror surface piece 4 (S05) and the temperature of the second optical element is leveled to evaluate the second optical element (S06).例文帳に追加
次にこの仮鏡面駒4を修正加工した修正鏡面駒17を用いて光学素子(第2の光学素子)の成形を行い(S05)、その第2の光学素子について温度ならしをした上で評価する(S06)。 - 特許庁
To provide a water repellent fiber aggregate whose water absorbing property is improved by temperature rise while having excellent water repellency and to provide a water repellent processing method of a fiber aggregate for producing the water repellent fiber aggregate.例文帳に追加
優れた撥水性を有しながらも、温度上昇により吸水性が向上する撥水性繊維集合体、および該撥水性繊維集合体を製造するための繊維集合体の撥水加工方法を提供すること。 - 特許庁
To provide a substrate support boat which is hardly warped even if thin pillars are used, excellent in processing precision, and capable of preventing the occurrence of particles and shortening the time required for making a semiconductor substrate uniform in temperature through its surface.例文帳に追加
本発明の目的は、細い柱でも反りが生じず、加工精度が高く、パーティクルの発生を防止し、かつ半導体基板面内の温度が均一になるまでの時間が短縮される基板支持ボートを与えることである。 - 特許庁
To provide a method for manufacturing a ceramic sheet high in precision of thickness without requiring a processing cost by controlling the thickness of the ceramic sheet at a room temperature instead of controlling in a drying furnace, and a molding machine suitable therefor.例文帳に追加
本発明は、 乾燥炉内においてセラミックシートの厚さを制御するのではなく室温で制御可能とし、加工費がかからず且つ厚み精度の高いセラミックシートの製造方法とそれに好適なセラミックシート成形機を課題とする。 - 特許庁
A temperature of the laser light permeation center o of protection glass 5 attached in a head housing 10 as the laser processing head 1A is measured, and a monitoring mechanism capturing the thermal lens phenomenon of the protection glass 5 is added on the basis of the measurement value.例文帳に追加
レーザ加工ヘッド1Aとして、ヘッドハウジング10内に装着された保護ガラス5のレーザ光透過中心部oの温度を計測し、この計測値に基づいて保護ガラス5の熱レンズ現象を捉えるモニタリング機構を付属する。 - 特許庁
An energy conservation expression applied with a volume element is also introduced in this processing, and a temperature, a cooling speed or both thereof in the expression is(are) determined at first to evade arithmetically a problem of the spatial dependence of a calculation expression.例文帳に追加
この処理において、体積要素を適用したエネルギー保存の式も導入し、その式の温度、冷却速度、もしくは両者が最初に決定されるので計算式の空間依存の問題が算術的に回避される。 - 特許庁
To provide a gear suppressed in strength reduction caused by bonding and separation between a resin and a fiber structure by simplifying processing of a resin gear and reducing a size change of the fiber structure caused by use under high temperature.例文帳に追加
樹脂製歯車の加工を簡素化するとともに、高温下での使用における繊維構造体の寸法変化を低減することにより、樹脂と繊維構造体との接着剥離による強度低下を抑制した歯車を提供する。 - 特許庁
To provide a heat reversible recording medium, along with an image processing method employing the same, having a good recording sensitivity and a superior heat resistant shelf life, and also having a sufficient erasability even in a low temperature and low humidity environment.例文帳に追加
記録感度が良好で、耐熱保存性にも優れ、さらに低温低湿環境においても十分な消去性を有する熱可逆記録媒体および該熱可逆記録媒体を用いた画像処理方法を提供すること。 - 特許庁
To suppress lowering of vacuum degree due to temperature rise of cooling water, and reduce a quantity of sealing water for cooling the inside of a casing of a roots blower, in a suction processing device equipped with a multi-stage roots blower.例文帳に追加
多段式ルーツブロワーを備えた吸引処理装置において、冷却水の温度上昇による真空度の低下を抑制することができるとともに、ルーツブロワーのケーシング内部を冷却するための封水の量を削減すること。 - 特許庁
To provide a plasma display panel with a structure having a color filter made of organic pigment, with gas released from the color filter restrained from entering a discharge space, and capable of being manufactured using low processing temperature.例文帳に追加
有機顔料からなるカラーフィルタを備えた構成を有し、カラーフィルタからの放出ガスが放電空間に入り込むことが抑制されるとともに、低いプロセス温度を用いて作製することが可能なプラズマディスプレイパネルを提供する。 - 特許庁
To provide a method which can manufacture a urethane resin film having a high molecular weight and a high strength, by lowering the melt viscosity of a urethane resin, reducing the load during melt extrusion process and enabling the melt extrusion processing at a low temperature.例文帳に追加
ウレタン樹脂の溶融粘度を低減し、溶融押出時の負荷を下げるとともに、低い温度での溶融押出を可能とすることで、高分子量、高強度のウレタン樹脂フィルムを製造することができる製造方法を提供する。 - 特許庁
To provide a carbonization treatment furnace capable of achieving heat source application control and save energy by making circulating use of combustion heat and waste heat in heat circulation standard cycle during furnace chamber preheating, waste heat, furnace temperature cooling, and raw processing carbonization material drying.例文帳に追加
炉室の予加熱時、排熱時、炉温冷却時、並びに生加工炭化素材乾燥時の熱循環基準サイクルにおいて、燃焼熱や排熱を循環利用し、熱源応用制御と省エネルギー化を計る炭化処理炉を提出する。 - 特許庁
To improve adhesion of a mixture layer of an electrode and also its processing characteristics, and to provide a lithium secondary battery preventing the degradation of a battery capacity at high temperature storage at ≥50°C.例文帳に追加
本発明の目的は、電極の合剤層の密着性を向上させると共に加工特性を向上させることにあり、50℃以上の高温貯蔵時の電池容量の低下を抑制したリチウム二次電池を提供することにある。 - 特許庁
To provide a signal processing device capable of always performing measurement at constant accuracy even when there are temperature variation in a fluid to be measured, mixing of bubbles, and rapid change from gas to liquid, and performing phase and density measurement with a small amount of computation.例文帳に追加
被測定流体の温度変化、気泡混入、気体から液体への急速な変化があっても、常に一定の精度で計測でき、位相及び密度計測を少ない演算量で行える信号処理装置を提供する。 - 特許庁
The surface electrode and back electrode can be simultaneously subjected to the sintering processing at high temperature (for example, 900°C or above) needed for the back Ni-based electrode to have the ohmic junction with the semiconductor substrate, so the manufacturing processes can be simplified.例文帳に追加
裏面Ni系電極が半導体基板とオーミック接合するために必要な高温(例えば900℃以上)で、表面電極と裏面電極のシンター処理を同時に行うことができるため、製造工程が簡略化される。 - 特許庁
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