「upper step」に関連した英語例文の一覧と使い方(24ページ目) - Weblio英語例文検索

Further, a socket 541 in which the end part of a pipe 3 to be connected is inserted is arranged at a cylinder body 54, and a stopper step part 542 is formed only at the upper part of the inner periphery on the deep side thereof.例文帳に追加

また、前記円筒体５４には被接続管３の端部が挿入される受口５４１が設けられると共に、その奥側の内周上部にのみストッパー段部５４２が設けられている。 - 特許庁

When a horn starts ultrasonic vibration, a displacement sensor continuously detects the amount of depression of an upper metallic plate, and a detection signal is output to the controller of the ultrasonic metal welder (step S1).例文帳に追加

ホーンが超音波振動を開始すると、変位量センサは上側の金属板の沈み込み量を連続的に検出して、検出信号を超音波金属接合機コントローラに出力する（ステップＳ１）。 - 特許庁

Thereafter, a turntable 6 is provided at an optional position on the table upper surface, and a rotating table storage box 14, a handle 11 and a vertical step lever 13 are provided on the lower side of the turntable 6.例文帳に追加

次に、テーブル上面の任意の位置に回転テーブル（６）を設け、この回転テーブル（６）下側に回転テーブル収納ボックス（１４）及び、ハンドル（１１）と上下ステップレバー（１３）を設けたことを特徴とする。 - 特許庁

In addition, the connection pin 20 insets a small diameter shaft part 20C in the pin hole 16A of the bracket part 16, and a step part 20B provided on the upper end side of the pin shaft part 20A is contacted on the bracket part 16.例文帳に追加

また、連結ピン２０は、小径軸部２０Ｃをブラケット部１６のピン穴１６Ａ内に挿通すると共に、ピン軸部２０Ａの上端側に設けた段部２０Ｂをブラケット部１６に当接する。 - 特許庁

The outer container 3 has engaging projections 10 and 11 to be elastically engaged with the respective engaging grooves 6 and 7 of the inner container 2 on the inner periphery, and the upper end terminates right below the step part 8 of the inner container 2.例文帳に追加

外容器３は、内容器２の各係合溝６，７に弾性的に係合する係合突起１０，１１を内周に持ち、上端は、内容器２の段部８の直下で終結する。 - 特許庁

In addition, each chamfer 42a of the prescribed shape is held by a holding section 52 and the upper blade 40 which are adjacent in the FD downstream side of a lower receiving blade 38 while shaping the chamfer 42a for each step.例文帳に追加

又、各段毎の切り起し４２ａの成形と同時に、下受刃３８のＦＤ方向下流側に隣接する挟持部５２と上刃４０とで、所定形状の切り起し４２ａを挟持する。 - 特許庁

To provide a method for manufacturing a fin transistor and a method for manufacturing a saddle-type fin transistor capable of preventing the upper portion of a fin from being lost in a formation step of a recess of a field oxide film.例文帳に追加

フィールド酸化膜のリセス形成工程において、フィンの上部が損失することを防止することができるフィントランジスタの製造方法及びサドル型フィントランジスタの製造方法を提供すること。 - 特許庁

The electrode section of the solid-state image pickup element 3 housed in the recess 2 of the package 1 is connected to the plated wiring film 8 on the upper step section 7 formed in the package 1 through bonding wires 9.例文帳に追加

ボンディングワイヤ９により、中空パッケージ１の収納凹部２に収納される固体撮像素子３の電極部と、パッケージ１内部の上側段差部７にあるめっき配線膜８とを接続する。 - 特許庁

To provide a cover, a handle and a step not only enabling equipments in a machine-cab of an upper swing body to be easily checked and maintained from the ground, but also being unbreakable in case of swinging a hydraulic shovel.例文帳に追加

上部旋回体のマシンキャブ内の機器等の点検、整備を地上から容易に可能とし、また旋回時に破損し難い油圧ショベルのカバーと取っ手とステップを提供することを目的とする。 - 特許庁

When a sheet workpiece is carried by a feed conveyor part 2 from an upstream process step down to a clamping feed part where it is stopped, an upper clamp 13 and a lower clamp 15 hold the leading end of the sheet workpiece.例文帳に追加

前工程より搬送コンベア部２で搬送される薄板状ワーク１をクランプ搬送部１７にて停止後、上クランプ１３及び下クランプ１５にて薄板状ワーク１の前端を把持する。 - 特許庁

In addition, this method also includes an upper resin- made insulating layer forming step of forming a second resin-made insulating layer 9 on the first resin-made insulating layer, and second conductor layer 29 of the cyanogen-treated substrate 41.例文帳に追加

さらに、シアン処理がされた基板４１のうち第１樹脂絶縁層７及び第２導体層２９上に、第２樹脂絶縁層９を形成する上部樹脂絶縁層形成工程を備える。 - 特許庁

A manufacturing process of an apparatus for fabricating a semiconductor device which processes a substrate to be processed mounted on a sample stand in a container comprises a step for forming a dielectric film on the upper surface of the sample stand by spraying and cleaning the dielectric film with fluid, and a step for mounting a wafer on the upper surface of the dielectric film and attracting the wafer electrostatically a plurality of times.例文帳に追加

容器の内部の試料台上に載置された被処理基板を処理する半導体デバイス製造装置の製造方法であって、前記試料台の上面に誘電体製の膜を溶射により形成した後にこの誘電体製の膜を流体を用いて洗浄する工程と、前記誘電体製の膜の上面にウエハを載せて静電吸着させる処理を複数回行う工程とを備えた。 - 特許庁

A manufacturing method of a semiconductor device in the present invention comprises the steps of: forming an Si layer 20 on an upper surface of a nitride semiconductor layer 11 including a channel layer of an FET; performing heat treatment during or after the step of forming the Si layer 20; and forming an SiN layer 22 on an upper surface of the Si layer after the step of forming the Si layer 20.例文帳に追加

本発明は、ＦＥＴのチャネル層を含む窒化物半導体層１１の上面にＳｉ層２０を形成する工程と、Ｓｉ層２０を形成する工程において、又はＳｉ層２０を形成する工程の後に、熱処理を行う工程と、Ｓｉ層２０を形成する工程の後にＳｉ層の上面にＳｉＮ層２２を形成する工程と、を有する半導体装置の製造方法である。 - 特許庁

In this control device, whether or not the NOx catalyst is abnormal is temporarily determined based on capturing capacity of NOx of the NOx catalyst (step 18), and the temporary determination is inhibited when a temperature TLNC of the NOx catalyst is an upper limit temperature TLMTH having a prescribed value as an initial value or more (step 11-13).例文帳に追加

制御装置では、ＮＯｘ触媒のＮＯｘの捕捉能力に基づいてＮＯｘ触媒が異常であるか否かが仮判定され（ステップ１８）、ＮＯｘ触媒の温度ＴＬＮＣが所定値を初期値とする上限温度ＴＬＭＴＨ以上のときに仮判定が禁止される（ステップ１１〜１３）。 - 特許庁

A method of manufacturing a semiconductor device 100 includes: a step in which an insulating layer formed on the upper surface of a silicide layer 104 containing Ni is dry-etched to expose the silicide layer 104 containing Ni; and a step for cleaning the silicide layer 104 containing Ni in a return flow having reducibility.例文帳に追加

半導体装置１００の製造方法は、Ｎｉを含むシリサイド層１０４の上面に形成された絶縁層をドライエッチングして、Ｎｉを含むシリサイド層１０４を露出させる工程と、Ｎｉを含むシリサイド層１０４を還元性を有する還元水で洗浄する工程と、を含むことを特徴とする。 - 特許庁

In the solid-state image pickup element, a step is formed in the vicinity of a boundary between both parts that a front surface of a light receiving plane of the pixel part area is positioned lower than the upper surface of the multilayer wiring part area, and a sloped transparent resin layer whose surface protrudes downward is provided on a surface ranging from the step to the pixel part.例文帳に追加

固体撮像素子において、画素部領域の受光面表面が多層配線部領域の上面より低い位置となるように両部の境界付近に段差が形成され、段差から画素部にいたる表面上に、その表面が下に凸なスロープ状の透明樹脂層を設けた。 - 特許庁

A front edge 41c of the intermediate blade respectively forms a step height with the front edges 41b and 41c on an opposite side surface of the twisted direction, without respectively forming the step height with the front edges 41b and 41c on a side surface in the twisted direction of the upper blade and the lower blade in a crossing part with the front edges 41b and 41c.例文帳に追加

中間部翼の前縁部４１ｃは、前縁部４１ｂ、４１ｃと交わる部分において、上部翼と下部翼が捩れた方向の側面では前縁部４１ｂ、４１ｃとそれぞれ段差を形成せず、捩れた方向と反対の側面では前縁部４１ｂ、４１ｃとそれぞれ段差を形成する。 - 特許庁

The dimension of the average radial step difference between the projecting portions (17) and non-projecting portions (19) of the axial lower part (18B) of the knurl (18) disposed on the periphery of the skirt wall (10) is set smaller than that of the average radial step difference between the projecting portions and non-projecting portions of the axial upper part (18A) of the knurl.例文帳に追加

スカート壁（１０）の外周面に配設されているナール（１８）の軸線方向下部（１８Ｂ）における突条部（１７）と非突条部（１９）との平均半径方向段差寸法を、ナールの軸線方向上部（１８Ａ）における突条部と非突条部との平均半径方向段差寸法よりも小さく設定する。 - 特許庁

This arrangement method includes; a step of arranging a lower pipe to be connected in a state of inserting it into the vertical hole in a spigot side part thereof and a state of appearing from the vertical hole in a receiver opening 2 side part thereof so that the receiver opening 2 is opened upward; and a step of inserting the spigot 5 of an upper pipe to be connected from over the receiver opening 2 opened upward.例文帳に追加

接続対象の下方の管を、その挿口側部分が縦穴に挿入され、受口２側部分が縦穴から出て受口２が上向きとなった状態に配設する工程と、接続対象の上方の管の挿口５を、前記上向きとなった受口２の上から挿入する工程とを有する。 - 特許庁

In a heat treatment device provided with a heat insulation tank 22 whose disc-shaped ceiling wall member 24 covers an upper edge opening of a cylindrical side wall member 23, the side wall member 23 and ceiling wall member 24 form a female step part 25 and a male step part 26 that fit each other.例文帳に追加

円盤形状の天井壁部材２４が円筒形状の側壁部材２３の上端開口部に被せられた断熱槽２２を備えている熱処理装置において、側壁部材２３と天井壁部材２４との結合部分には互いに嵌合する雌形段差部２５と雄形段差部２６とを形成する。 - 特許庁

This manufacturing method of a semiconductor memory element is provided with a first step wherein the interlayer insulating film is formed in an upper part of a semiconductor substrate on which a capacitor is formed, and a second step wherein the interlayer insulating film is dry-etched under a condition that electron temperature of the plasma is maintained to 2.0 eV to 4.0 eV and the capacitor is exposed.例文帳に追加

本発明の半導体メモリ素子の製造方法は、キャパシタが形成された半導体基板上部に層間絶縁膜を形成する第1ステップ、及びプラズマの電子温度を2.0eVないし4.0eVに保持した条件下に前記層間絶縁膜をドライエッチングして前記キャパシタを露出させる第2ステップを備えている。 - 特許庁

Furthermore, the method for manufacturing a multilayer printed wiring board includes: a step of placing an upper substrate sheet 61' on the conductive bumps 71 and pressing the sheet to allow the conductive bumps 71 to penetrate the lower surface of the sheet; and a step of masking predetermined regions of the substrate sheets 61, 61' and removing a region other than the predetermined regions to form a circuit.例文帳に追加

多層プリント配線板製造方法は、さらに、導電性バンプ７１上に上方基板シート６１’を載置して押圧し、その下面に導電性バンプ７１を貫入させる工程と、基板シート６１，６１’のうち、所定の領域をマスクし、この所定の領域以外を除去して回路を形成する工程と、を備えている。 - 特許庁

The step 2 for closing the clearance formed between a train 7 and an edge of the platform 1 is rotatably supported relative to the platform 1 through a hinge 4, the hinge 4 is positioned at an inner side more than the edge of the platform 1, and the upper surface of the platform 1 is removed by the sum of thicknesses of the step 2 and the hinge 4.例文帳に追加

列車７とプラットホーム１の縁との間に形成される隙間を塞ぐためのステップ２はプラットホーム１に対しヒンジ４を介して回転自在に支持されるとともに、ヒンジ４はプラットホーム１の縁よりも内側に位置し、更にステップ２とヒンジ４の厚さの分だけプラットホーム１の上面を削除する。 - 特許庁

The rinsing step includes a circulation/rinsing step for rinsing the inside of the tank T while circulating water in a circulation system in which water is injected from an injection part S arranged at an upper part of the inside of the tank T, water is discharged from a bottom part TB of the tank T and the discharged water is re-fed to the injection part S.例文帳に追加

すすぎ工程は、タンクＴの内部の上方に配置された噴射部Ｓから水を噴射させるとともにタンクＴの底部ＴＢから水を排出させ、排出された水を再び噴射部Ｓに供給する循環系において水を循環させながらタンクＴの内部をすすぐ循環すすぎ工程を含む。 - 特許庁

In the apparatus, a step of discharging a hydrogen peroxide water (in a spray state) from a hydrogen peroxide discharging mechanism 20 to the substrate W and thinning the water on the upper surface of the substrate W, and a step of thereafter simultaneously supplying ozone gas and pure water (spray state) from an ozone gas supply nozzle 30 and a pure water discharge mechanism 50 are repeated.例文帳に追加

そして、基板Ｗに過酸化水素水吐出機構２０から過酸化水素水（噴霧状）を吐出して基板Ｗの上面で過酸化水素水を薄膜化させるステップと、その後、オゾンガス供給ノズル３０と純水吐出機構５０からオゾンガスと純水（噴霧状）が同時に供給されるステップと、を繰り返す。 - 特許庁

With the side wall and ceiling wall members being combined at the step part, even when the ceiling wall member curves in a baking step, a gap is prevented from occurring between a periphery of the ceiling wall member and upper edge opening of the side wall member, so that heat in the heat insulation tank is prevented from dissipating.例文帳に追加

側壁部材と天井壁部材とが段差部によって結合していることにより、天井壁部材が空焼きステップにおいて反ったとしても、天井壁部材の周辺部と側壁部材の上端開口部との間に隙間が発生するのを防止できるために、断熱槽内の熱が逃げるのを防止できる。 - 特許庁

The method for manufacturing an exposure mask includes: a step S1 of patterning a light shielding film 2 formed on a quartz substrate 1 to form a light shielding pattern 2c; and a step S4 of directly measuring the level difference H from the surface of the quartz substrate 1 to the upper face of the light shielding pattern 2c and obtaining the measured value of the level difference H.例文帳に追加

石英基板１上に形成された遮光膜２をパターニングして遮光パターン２ｃを形成するステップＳ１と、石英基板１の表面から遮光パターン２ｃの上面までの段差Hを直接測定して、該段差Hの実測値を得るステップＳ４と、を有することを特徴とする露光用マスクの製造方法による。 - 特許庁

When the sheet conveying route 25 of an image forming device is held between an upper guide plate 45 and a body guide 40, a step part 42 having a sheet guide surface 43 formed on the inside thereof is projectedly disposed at the side of the body guide having a rib 41, and an end guide 45 placed on the step part 42 is fixed with fixing screws 47.例文帳に追加

画像形成装置の用紙搬送路２５を、上ガイド板４５と本体ガイド４０の間に規制するに際して、リブ４１を設けている本体ガイド４０の側部に、用紙案内面４３を内側に設けた段差部４２を突出配置し、前記段差部４２の上にエンドガイド４５を載せて固定ネジ４７により固定する。 - 特許庁

When the sound volume data is made large and exceeds an upper prescribed value Vu (step 15), it is shifted to a live piano mode processing (step 17), the motors 44 and 51 are rotated reversely via the driving driver 74, the hammer stop rail 41 moves backward, the string sound generation is allowed, and the performance information is not transmitted to the tone generator 80 to inhibit the electronic sound generation.例文帳に追加

音量データが大きくされ上所定値Ｖｕを越えると（ステップ１５）、生ピアノモード処理になり（ステップ１７）、駆動ドライバ７４を通じて、モーター４４、５１が逆回転され、ハンマーストップレール４１が後動して、弦発音が許容され、演奏情報がトーンジェネレータ８０へ送られず、電子発音が禁止される。 - 特許庁

In addition, slots SL3 and SL4 at a lower step correspond to storage media wider than those of slots SL1 and SL2 at an upper step to thereby enable an operator to visually recognize all storage media inserted into the slots SL1 to SL4 even when a plurality of types of storage media are used at a time.例文帳に追加

また、下段のスロットＳＬ３〜ＳＬ４は上段のスロットＳＬ１〜ＳＬ２に比べて幅広の記憶媒体に対応していることにより、複数種類の記憶媒体を一度に使用する際であっても操作者からスロットＳＬ１〜ＳＬ４に挿入されている全ての記憶媒体を視認することができる。 - 特許庁

Also a positioning part 136 where the step part 132 of hub 22 can be inserted at a central part of a lower flange 26, Positions in the height direction of the lower part of the resin ring 112 and the lower part of the metal ring 110 are deviated so that the step part 132 is plane-contacted to an upper plane of the positioning part 136.例文帳に追加

そして、下フランジ２６の中央部には、ハブ２２の段差部１３２が嵌め込み可能な位置決め部１３６を設け、該位置決め部１３６の上面に段差部１３２を面接触させるようにして、樹脂リング１１２の下端面と金属リング１１０の下端面の高さ方向の位置をずらしている。 - 特許庁

A homogeneous combustion jetting a fuel in an intake stroke mainly is enforced and the valve opening timing of an intake valve is slower than the valve closing timing of an exhaust valve and is after an intake upper dead point (step 103) and a fuel injection is started within the term from the valve closing timing of the exhaust valve to the valve opening timing of the intake valve at the homogeneous combustion time (step 105).例文帳に追加

燃料を主に吸気行程で噴射する均質燃焼を実施し、吸気弁の開弁時期は排気弁の閉弁時期より遅く吸気上死点以降とされ（ステップ１０３）、均質燃焼時には排気弁の閉弁時期から吸気弁の開弁時期までの期間内に燃料噴射を開始する（ステップ１０５）。 - 特許庁

A control gate electrode 4A is formed through a control gate insulation film 3A on the upper stage at the level difference step 1a and a floating gate electrode 6 is formed on the level difference step 1a to face the semiconductor substrate 1 through a tunnel insulation film 5B and to face the control gate electrode 4A through a capacitor insulation film 5A.例文帳に追加

段差部１ａの上段にはコントロールゲート絶縁膜３Ａを介してコントロールゲート電極４Ａが形成され、段差部１ａの上には、トンネル絶縁膜５Ｂを介して半導体基板１と対向し且つ容量絶縁膜５Ａを介してコントロールゲート電極４Ａと対向するフローティングゲート電極６が形成されている。 - 特許庁

The method of manufacturing the counterweight 10 is comprised of a filling step of filling the fillers 18 in the space section 17, and a water glass hardening step of pouring the water glass 19 in a molten state onto an upper portion of the fillers 18, decompressing a lower side of the space section 17, filling the water glass 19 in the fillers 18, and then hardening the same.例文帳に追加

その製造方法は、空間部１７に充填材１８を充填する充填工程と、充填材１８の上部に溶融状態の水ガラス１９を流し込み、空間部１７の下側を減圧状態にして水ガラス１９を充填材１８の間に入れた後、これを固化させる水ガラス固化工程を有する。 - 特許庁

A method for operating an upper node in the wireless communication system employing relay includes a step for setting transmission/reception mode switching region information of a relay station, a step for transmitting a signal to a terminal located in a service region in a first section of a downlink subframe by using resource allocation information, and a step for transmitting mode switching region information and a signal in a second section of the downlink subframe.例文帳に追加

中継方式を用いる無線通信システムの上位ノードの動作方法であって、中継局の送受信モード切換領域情報を設定するステップと、資源割り当て情報によってダウンリンク・サブフレームの第１区間でサービス領域に位置する端末に信号を送信するステップと、ダウンリンク・サブフレームの第２区間でモード切換領域情報及び信号を送信するステップと、を含む。 - 特許庁

In a step of forming the semiconductor deposition layer 150 having the columnar parts, a predetermined pattern of isolating semiconductor layer 130 is formed in a boundary region of the chip; in a step of forming the embedded insulating layer 120, at least the upper surface of the isolating semiconductor layer 130 is exposed; and in a step of forming the chip, the isolation semiconductor layer 130 is used to realize this isolation.例文帳に追加

そして、柱状部を有する半導体堆積層１５０を形成する工程において、チップの境界領域に所定パターンの分離用半導体層１３０を形成し、埋込み絶縁層１２０を形成する工程において、分離用半導体層１３０の少なくとも上面を露出させ、かつ、チップを形成する工程において、分離用半導体層１３０を用いて前記分離が行われる。 - 特許庁

The method for manufacturing a ferroelectric memory 1000 includes a step (a) wherein a lower electrode layer 20, a ferroelectric layer 30, and a first upper electrode layer 40 are stacked in sequence on a substrate 10; a step (b) to anneal the ferroelectric lamination; and a step (c) to pattern the ferroelectric lamination into a specified shape.例文帳に追加

本発明にかかる強誘電体メモリ１０００の製造方法は、（ａ）基体１０の上方に下部電極層２０、強誘電体層３０、および第１の上部電極層４０を順次積層することにより強誘電体積層体を形成する工程と、（ｂ）前記強誘電体積層体にアニール処理を行う工程と、（ｃ）前記強誘電体積層体を所定の形状にパターニングする工程と、を含む。 - 特許庁

An engaging groove 24 is made on the upper surface side along the circumferential fringe 23' of the mat body 2 and a stop face 27 is formed by forming a recessed step 26 at a lower part using the circumferential end face 25' as an inclining face.例文帳に追加

マット本体２の周端縁２３′に沿って上面側に係合凹溝２４を形成する一方、周端面２５′を傾斜面として下部に凹段部２６を形成することにより係止面２７を形成する。 - 特許庁

On the other hand, when the used amount has reached the variation threshold (Step S510:No), the control part 100 executes a collection as necessary, assuming that the possibility that the used amount reaches the upper limit by the end of the month is large.例文帳に追加

一方、制御部１００は、使用量が変動閾値に到達している場合（ステップＳ５１０：Ｎｏ）、月の終わりまでに使用量が上限に達する可能性が大きいとみなして、随時収集を実行する。 - 特許庁

If the objective optical characteristics are judged as out of the allowance, the step S5 is then carried change the film thickness of the upper layer than the layer having the changed film thickness so as to obtain desired optical characteristics.例文帳に追加

目的とする光学特性が許容範囲に入っていないと判断された場合は、ステップＳ５に移行し、膜厚を変更した層より上層の膜厚を変更して所望の光学特性が得られるようにする。 - 特許庁

Thus, the recessed container 2 has two parallel bottom surfaces which are not on the same plane, and comprise a first bottom surface configuring the bottom part of a recessed part 13 and a second bottom surface configuring the surface on the upper side of the step part 4.例文帳に追加

これにより凹状容器２は、凹部１３の底部を構成する第１の底面と、段部４の上側の面を構成する第２の底面から成る同一平面にない平行な２つの底面を有している。 - 特許庁

The recess part 30 has a two-stage configuration of a hollow 40 on the bottom and a part on the upper side thereof, and a step part 36 extends from the top of a first side surface 34 of the hollow 40 on the bottom to the bottom of a second side surface 32.例文帳に追加

凹部３０は、底側窪み４０とその上側の部分との２段構成であり、底側窪み４０の第１側面３４の上端から第２側面３２の下端にまで段差部３６が拡がっている。 - 特許庁

The upper surface part of the knob 4 of a left cover 1 is attached in close-contact with the lower surface of a step part 6 provided at the outer peripheral part of the structural frame 5 holding various units such as paper supply, photoreceptor and fixing units in a laser printer.例文帳に追加

左カバー１の取手４の上面部を、レーザープリンタ内の給紙、感光体、定着等の各種ユニットを保持する構造フレーム５の外周部に設けた段部６の下面に密着させて取り付ける。 - 特許庁

The liquid crystal display device is made up so that an insulating film 17 is embedded between electrode fingers 6a, and a step difference between the upper face of a 2nd electrode 6 and that of the insulating film 17 is smaller than the film thickness of the 2nd electrode 6.例文帳に追加

電極指６ａの間には、絶縁膜１７が埋め込まれ、第２電極６の上面と絶縁膜１７の上面との段差が、第２電極６の膜厚よりも小さい液晶表示装置とする。 - 特許庁

The periphery of the flexible member 4 includes: a large diameter part 41 formed at the upper edge; a small diameter part 42 extended below this large diameter part 41; and a step part 43 formed between the large diameter part 41 and the small diameter part 42.例文帳に追加

軟質部材４の外周面が、上端部に形成された大径部４１と、該大径部４１より下方に延設された小径部４２と、該大径部４１と小径部４２との間に形成された段部４３とからなる。 - 特許庁