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Weblio 辞書 > 英和辞典・和英辞典 > すえじゅんに関連した英語例文

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すえじゅんの部分一致の例文一覧と使い方

該当件数 : 3016



例文

本発明の半導体静電保護回路が、第1の電圧供給端子(VDD1)、第2の電圧供給端子(VDD2)、第1の基準供給端子(VSS1)、第2の基準供給端子(VSS2)、第1の電圧供給端子と第2の電圧供給端子との間に接続された第1のダイオード、および第1の基準供給端子と第2の基準供給端子との間に接続された第2のダイオードを有する。例文帳に追加

This electrostatic protecting circuit for semiconductor has a first voltage supply terminal (VDD1), second voltage supply terminal (VDD2), first reference supply terminal (VSS1), second reference supply terminal (VSS2), first diode connected between the first voltage supply terminal and the second voltage supply terminal, and second diode connected between the first reference supply terminal and the second reference supply terminal. - 特許庁

米国のOSHA基準とEUのPCA3%基準の両方をクリアーしている高圧水素化精製したナフテンベースオイルとOSHA基準とPCA3%基準のいずれに照らしても発ガン危険対象となっていないナフテン系アスファルトを混合することで、安全でかつ優れたゴムプロセスオイルを作る。例文帳に追加

This safe and excellent rubber process oil is produced by mixing a naphthene base oil purified by high-pressure hydrogenation and clearing both of OSHA standard of USA and PCA 3% standard of EU, and a naphthene-based asphalt not being a hazardous target with reference to the OSHA standard and the PCA 3% standard. - 特許庁

法線方向に対して80°の角度をなす隣の単位レンズに接する直線SLと交差する外輪郭上の基準点SPでのレンズ面角度α(°)と、基準点SPと端部とを結ぶ基準線分が基準点での基準接線に対してなす角度β(°)と、端部でのレンズ面角度γ(°)と、が所定の関係にある。例文帳に追加

The lens face angle α (°) in a reference point SP on the outer contour crossing a straight line SL in contact with the adjacent unit lens making angle 80° with the normal line, an angle β (°) between a reference line segment for connecting the reference point SP to the end part and the reference tangential line at the reference point and a lens face angle γ (°) at the end part form a prescribed relation. - 特許庁

演算部は、特定情報で特定される手順が自身の行うべき手順である場合にのみその手順を実施(s130→s140)して、その次の手順が特定されるように特定情報を更新する(s160)、といったことを演算処理における全ての手順が実施されるまで繰り返す(s120〜s160)。例文帳に追加

The processing unit executes the step specified by specific information, only if the step is the one that the processing unit should execute (s130 to s140), and the processing unit updates the specific information so that the next step is specified (s160); this is repeated until all the steps of the calculation process are executed (s120 to s160). - 特許庁

例文

ドライブトランジスタTrdの閾電圧Vthの影響を補正する準備として、第1スイッチングトランジスタTr2は、スキャナ部から供給される制御信号に応じ導通してドライブトランジスタTrdのゲートGを第1基準電位Vss1に設定し、第2スイッチングトランジスタTr3は、同じくソースSを第2基準電位vss2に設定する。例文帳に追加

As a preparation to correct the influence of a threshold voltage Vth of a drive transistor Trd, a first switching transistor Tr2 is conducted according to a control signal supplied from the scanner section to set the gate G of a drive transistor Trd at a first reference potential Vss1 and a second switching transistor Tr3 likewise sets the source S at a second reference potential vss2. - 特許庁


例文

中継サーバRは、自機の登録端末TからSMTP手順でのメール送信要求を受けると、そのSMTP手順の宛先コマンドからアカウント情報を検出し、その宛先の端末Tが登録されている中継サーバRに接続して、前記SMTP手順によって受信したメールデータを中継転送する。例文帳に追加

When the relay server R receives a request for mail transmission by an SMTP procedure from its registered terminal T, the relay server R detects account information from a destination command of the SMTP procedure, and connects with a relay server R where a terminal T of the destination is registered to relay and transfer mail data received by the SMTP procedure. - 特許庁

少なくとも端子部が形成されるCu平角導体上には、パラジウムの含有率が3〜25質量%のSnPd合金めっき層、その上に純Snめっき層或いはSn系合金めっき層が形成され、前記めっき層の合計厚さが0.5〜2.0μmで且つ純Snめっき層或いはSn系合金めっき層の厚さが0.3〜1.0μmであるめっきCu平角導体とすることによって、解決される。例文帳に追加

The purpose is achieved by forming the plated Cu rectangular conductive body having 0.5-2.0 μm thickness of the total plated layer and 0.3-1.0 μm thickness of the pure Sn plated layer or the Sn based alloy plated layer. - 特許庁

排気再循環方式を具備したガスエンジンにおいて、排気再循環系と給気系との合流部にベンチュリーミキサー11を配設するとともに、該排気再循環系における該合流部上流側にEGRレギュレーター8を介設した。例文帳に追加

The gas engine of the exhaust recirculation type comprises a Venturi mixer 11 arranged in a combined portion between an exhaust recirculation system and an air supply system and an EGR regulator 8 interposed in the exhaust recirculation system on the upstream side of the combined portion. - 特許庁

純水供給源200から基板処理装置100に供給される純水は、基板処理装置100側において、窒素溶解ユニット58、78によって純水に窒素が過飽和に添加されることで窒素が溶解限度を超えて含まれるリンス液が生成される。例文帳に追加

On the substrate processing system 100 side, pure water supplied from a pure water supply source 200 to a substrate processing system 100 contains nitrogen supersaturated by nitrogen dissolution units 58 and 78, thus producing rinse liquid containing nitrogen over solubility limit. - 特許庁

例文

本発明は、高純度水素ガスの連続的な製造を停止した後、次回再起動させた際にも製造された水素ガス中の不純物(特に、CO)を低減可能で、かつ、製品水素ガスのロスを少なくすることが可能な高純度水素ガス製造用PSA装置の運転方法を目的とする。例文帳に追加

To provide an operation method of a PSA device for producing high purity hydrogen gas capable of reducing impurities (especially CO) in produced hydrogen gas even when being restarted next time after stopping continuous production of the high purity hydrogen gas, and reducing loss of product hydrogen gas. - 特許庁

例文

過熱保護回路5aには、この基準電圧信号V_refに準じた安定度の高い分圧基準電圧信号V_drを供給すると同時に、トランジスタQ5のベース、エミッタ間電圧V_BE5より得られる、所定の温度特性を有する電圧信号V_Jを供給する。例文帳に追加

A highly stable voltage dividing reference voltage signal Vdr conforming to the reference voltage signal Vref is supplied to an overheating protection circuit 5a, and a voltage signal VJ obtained from a voltage VBE5 between the base and emitter of the transistor Q5 and having a predetermined temperature characteristic is supplied thereto simultaneously. - 特許庁

溝3dに収容・保持されたグリースLは、ハブフランジ3bの取付基準面3pに徐々に滲み出して、ハブフランジ3bとブレーキディスクロータとの接触部分である取付基準面3pの全面を潤滑することができる。例文帳に追加

The grease L stored and held in the groove 3d is gradually exuded to the mounting level face 3p of the hub flange 3b and lubricates the whole surface of the mounting level face 3p which is a contact part of the hub flange 3b and the brake disc rotor. - 特許庁

ドット記録領域DTにおけるMxN個のドットのドット記録順序を、ドット記録領域DTにおいてドット記録順序が副走査方向の一列に亘って連続しないように、ドット記録領域DTでの主走査パスの最先のパス番号からパス番号順に設定する。例文帳に追加

The dot recording order of MxN dots in the dot recording regions DT is set to the order of path numbers from the first path number of the main scanning path in the dot recording regions DT so that the dot recording order in the dot recording regions DT is not continuous over one column in an auxiliary scanning direction. - 特許庁

本発明の縦型パワーMOSFET1は、トレンチ内部に形成された所定の不純物濃度を有するゲート電極層3a,3bと、ゲート電極層3a,3bを絶縁被覆し、ゲート電極層3a,3bの不純物濃度よりも低い不純物濃度であるキャップ酸化層2a,2bとを有する。例文帳に追加

The vertical power MOSFET 1 is provided with gate electrode layers 3a and 3b, that are formed inside a trench and have specified concentration and cap oxidized layers 2a and 2b that cover the gate electrode layers 3a and 3b, and of which the impurity concentrations are lower than those of the gate electrode layers 3a and 3b. - 特許庁

遅延部18は、基準信号生成部17から基準信号を入力し、基準遅延量の自然数倍の遅延量で入力信号であるACTコマンドを遅延させ、出力信号であるセンスアンプ活性化(SAE)信号を出力する。例文帳に追加

A delay part 18 inputs the reference signal from a reference signal generating part 17, delays an ACT command being the input signal with delay quantity of natural number times of the reference delay quantity, and outputs a sense amplifier activation (SAE) signal being an output signal. - 特許庁

高速モードでは、撮像素子2から各グループの各画素信号をタイミングをシフトさせながら順に読み出し、メモリ6a〜6dに順に書き込み、メモリ6a〜6dの画素信号Sa〜Sdをタイミングをシフトさせながら順に読み出し、各グループ毎の画素信号で1フレームを形成する。例文帳に追加

In a high-speed mode, the pixel signals of each group are sequentially read from the imaging element 2 while shifting timing and sequentially written into the memories 6a-6d, and the pixel signals Sa-Sd are sequentially read while shifting timing to form one frame with the pixel signals of each group. - 特許庁

コンパクト化した二塔式PSA装置により、設備費や設備設置面積の低減を図ると共に、少ない吸着塔による問題点である高純度水素などの高純度ガスの回収率低下を解決することができる高純度ガスの製造方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for manufacturing high-purity gas which reduces an installation cost and equipment installationa area and is capable of solving the degradation in the recovery rate of the high-purity gas, such as high-purity hydrogen, which is a problem on the adsorption by fewer adsorption columns by using a two-column type PSA apparatus which is made compact. - 特許庁

ノズル検査時は、先頭アドレスAD1〜AD4を、同図における▲印で示すように「45ノズル」分ずつ順次シフトさせつつ、複数回(四回)のデータ転送を繰り返すだけで、ノズル♯1〜♯180から検査用の吐出順序でインク滴を順次吐出させることが可能となっている。例文帳に追加

Ink droplets are ejected sequentially according to an ejection order for the inspection, from the nozzles #1-#180, by only repeating data transfer a plurality of times (four times), while shifting sequentially, by "45 nozzle", starting addresses AD1-AD4 as shown by a triangle mark in Fig., when inspecting the nozzles. - 特許庁

H-SLPは、目標端末が支援する複数の測位計算方法の優先順位を予め設定された優先順位設定条件に基づいて設定し、測位計算方法の各々に対応する優先順位情報を目標端末へ転送する。例文帳に追加

An H-SLP sets a priority order of a plurality of positioning methods which a target terminal supports according to a preset priority order set condition and transmits priority order information according to respective positioning methods to the target terminal. - 特許庁

ボリューム指令値SXに対応する出力電圧特性として,中間基準特性α1の他に,刺激感のもっとも強い治療環境用となる下限基準特性α2と,刺激感のもっとも弱い治療環境用となる上限基準特性α3とが設定される。例文帳に追加

Besides an intermediate standard characteristic α1, a lower limit standard characteristic α2 for a therapy environment providing strongest stimulus feeling and an upper limit standard characteristic α3 for therapy environment providing weakest stimulus feeling are set as output voltage characteristics corresponding to the volume command value SX. - 特許庁

熱媒循環回路として、ガスエンジンの冷却水排熱を主熱源とする熱媒を主熱源部3から循環供給し、貯湯/給湯用熱交換器に循環供給される前の上流側位置においてその熱媒を補助熱源部4によって補助加熱し得るようにする。例文帳に追加

The heat medium circulating circuit circulates and supplies a heat medium using the cooling water exhaust heat of a gas engine as a main heat source, from the main heat source part 3, and the heat medium is supplementarily heated by the auxiliary heat source part 4 in an upstream position before circulated and supplied to the heat exchanger for hot water storage/hot water supply. - 特許庁

次に、第2点と基準線が重なっていれば(s16:YES)、s14の処理に戻り、第2点と基準線が重なっていなければ(s16:NO)、直前の単位領域の配置を取り消し(s17)、基準線に対する単位領域の配置が終了する。例文帳に追加

Then, when the second point stays on the reference line (s16: YES), processing goes back to s14 or otherwise (s16: NO), the layout of the unit area immediately before the point is cancelled (s17) to end the layout of the unit areas with respect to the reference line. - 特許庁

同様に、VSS配線106に接続されるP型ウエル電位給電領域110を、例えばそれを構成する高濃度P型不純物拡散層の不純物濃度を、高濃度P型不純物拡散層で形成されたソース・ドレイン領域103よりも高くし、抵抗値を小さくする。例文帳に追加

Similarly, a p-type well potential power supply region 110 connected with a VSS wiring 106, for example, impurity concentration of a high concentration p-type impurity diffusion layer which constitutes the region 110 is made higher than that of a source/drain region 103 formed of the high concentration p-type impurity diffusion layer, and resistance value is made small. - 特許庁

少なくとも冷媒接触面が純銅からなる冷却体に純水又は淡水からなる冷媒を循環させる方式の冷却構造物の前記冷媒接触面にSn、Ni、Pb又はそれらを主体とした合金からなる被膜を施す。例文帳に追加

In a cooling structure in which a coolant constituted of pure water, or plain water is circulated in a cooling body having at least a coolant- contact surface consisting of pure copper, a coating formed of Sn, Ni, Pb, or an alloy formed mainly thereof is applied to the coolant-contact surface of the cooling structure. - 特許庁

入力音声と標準パターンとのマッチング度を評価値に基づいて判定することにより、最適な標準パターンを選択する音声認識方法において、SNR値の小さい入力音声については各標準パターンに対する評価値の差が小さくなるように、評価値を補正する。例文帳に追加

In a speech recognition method wherein an optimal standard pattern is selected by judging the degree of matching between input speech and a standard pattern on the basis of an evaluation value, the evaluation value is corrected so that the differences between the evaluation values and each standard pattern become small concerning input speech of a small SNR value. - 特許庁

基準電流を流すと当該基準電流に対応する電圧が得られる基準MOSFETMrに、FETM01、M02、M03、及びM04からなる差動増幅部に流されるバイアス電流Irefを流してレベルシフト電圧Vlsを得る。例文帳に追加

A bias current Iref made to flow through a differential amplifier part comprising an FET M01, M02, M03, and M04 is made to flow through a reference MOSFET (Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor) Mr from which a voltage corresponding to a reference current can be obtained when making the reference current flow to obtain a level shift voltage Vls. - 特許庁

ドライブトランジスタTr2は、ゲートGが保持容量C1に保持された信号電位によってソースS基準で正極性となる順バイアスを受け、且つ順バイアスに応じてソース/ドレイン間に流れる電流Idsで負荷素子ELに通電する。例文帳に追加

In a drive transistor Tr2, a gate G receives forward bias that is a positive polarity, with reference to the source S by a signal potential held in the holding capacitance C1, and current Ids, flowing between the source and the drain according to the forward bias, is caused to flow to a load device EL. - 特許庁

MOSFET用基板の製造方法は、基板が準備される基板準備工程と、当該基板上に、導電型がp型である不純物としてのMgを含むとともに、遷移金属としてのTiを含有する半導体からなるp型ウェルが形成されるp型ウェル形成工程とを備えている。例文帳に追加

The manufacturing method of a substrate for MOSFET comprises: a substrate preparation process for preparing substrates; and a p-type well formation process for forming a p-type well made of a semiconductor containing Mg, namely a p-type-conductivity impurity, and a transition metal Ti on the substrate. - 特許庁

複数のタイトルの一つを選んでユーザが基準サムネイル画像Siを設定すると(Sa)、この選定されたサムネイル画像Siが基準断片情報(基準フレーム)として抽出され、そのフレーム番号がメモリS[i](i=0)に保存される(S1〜S2)。例文帳に追加

When a user selects one of a plurality of titles and sets a reference thumbnail picture Si (Sa), the selected thumbnail picture Si is extracted as reference fragmental information (reference frame), and its frame number is stored in a memory S[i] (i=0) (S1, S2). - 特許庁

到達順位判定部3は、(n+1)個のラッチ出力の到達順位を、各ラッチ出力の変化点が検出されるタイミングを相互に比較することにより判定して、判定結果を示す(n+1)個の到達順位判定信号を出力する。例文帳に追加

A reaching sequence judging part 3 judges the reaching sequence of (n+1) pieces of latch outputs by comparing timings, in which the changing point of each latch output is detected, and outputs (n+1) pieces of reaching sequence judgment signals indicating the judged result. - 特許庁

手順計算/確認装置12は炉心形状及び燃料個別情報に応じて予め規定された最適化手法(例えば、SA法)に応じて燃料集合体の炉心への装荷手順を燃料集合体装荷手順として生成して、表示装置13に表示する。例文帳に追加

A procedure calculating/checking apparatus 12 creates the procedure of loading the fuel assembly in the reactor core as a fuel assembly loading procedure according to an optimizing method (e.g., an SA method) specified on the basis of the shape of the reactor core and the individual fuel information, and displays the procedure on a display 13. - 特許庁

半導体基板層と、半導体基板層の上方に設けられて半導体基板層の不純物濃度よりも低い不純物濃度を有するドリフト層と、を有する縦型MOSFETにおいて半導体基板層とドリフト層との間に半導体基板層の不純物濃度よりも低く且つドリフト層の不純物濃度よりも高い不純物濃度範囲において、その深さ位置に応じて不純物濃度が順次変化しているバッファー層を設ける。例文帳に追加

The vertical MOSFET which has a semiconductor substrate layer and a drift layer, provided above the semiconductor substrate layer and having a lower impurity concentration than the semiconductor substrate layer is provided with a buffer layer which continuously varies in impurity concentration, with the depth position within an impurity range being lower than the impurity concentration of the semiconductor layer and higher than the impurity concentration of the drift layer between the semiconductor substrate layer and drift layer. - 特許庁

0.005≦C<0.10mass%、1.0<Si≦3.0mass%、0.05≦Mn≦1.0mass%、20.0≦Cr≦32.0mass%、6.0≦Fe≦16.0mass%、0.001≦Y≦0.5mass%を含み、残部がNi及び不可避的不純物からなるNi基合金。例文帳に追加

The Ni-based alloy contains, by mass, 0.005%≤C<0.10%, 1.0%<Si≤3.0%, 0.05%≤Mn≤1.0%, 20.0%≤Cr≤32.0%, 6.0%≤Fe≤16.0%, 0.001%≤Y≤0.5%, and the balance Ni with inevitable impurities. - 特許庁

女子ダブルス種目で,小(お)椋(ぐら)久(く)美(み)子(こ)選手と潮(しお)田(た)玲(れい)子(こ)選手が末(すえ)綱(つな)聡(さと)子(こ)選手と前田美(み)順(ゆき)選手を破って全国制覇した。例文帳に追加

In the women’s doubles event, Ogura Kumiko and Shiota Reiko defeated Suetsuna Satoko and Maeda Miyuki and won the national title.  - 浜島書店 Catch a Wave

偏光板用フィルム積層体から高収率で、しかも高純度でセルロースエステルを回収する方法を提供することにあり、また回収したセルロースエステルを再利用し、再生セルロースエステルフィルムを提供する。例文帳に追加

To provide a recycled cellulose ester film by recycling a recovered cellulose ester to provide a method for covering the cellulose ester in a high yield and high purity from a film laminate for polarizing plate. - 特許庁

また、ARVSSレギュレータ6は、基準電圧VSSよりも高いセルソース電源電圧ARVSS1を領域2のSRAMモジュール12に供給する。例文帳に追加

An ARVSS regulator 6 supplies a cell source power supply voltage ARVSS1, which is higher than a reference voltage VSS, to the SRAM module 12 of a region 2. - 特許庁

そして、特に、nチャネル型MISFETの場合、MISFETのボディ領域から隣接するMISFETのソース領域あるいはドレイン領域へ向う向きが順方向となるようにダイオードを接続する。例文帳に追加

In particular, as for n channel MISFETs, the diode is connected such that the direction from the body region of one MISFET to the source region or drain region of an adjacent MISFET is a forward direction. - 特許庁

制御システム用のアプリケーションデータ(XML文書)が正しいことをコンピュータで検証するための検証手順データ(XSLTスクリプト)を容易に生成できる検証データ生成装置を提供する。例文帳に追加

To provide a verification data creation device, capable of easily creating verification procedure data (XSLT script) for computationally verifying that application data for control system (XML document) is correct. - 特許庁

ディジタル化されたRSSI信号を遅延して時間的に先行するRSSI信号のサンプル値を、RSSI信号の増加量を求める為の基準値とする。例文帳に追加

A digitized RSSI (received signal strength indication) signal is delayed, and a sample value of an RSSI signal that temporally precedes is defined as a reference value to calculate an increasing amount of the RSSI signal. - 特許庁

ステムおよびリードのめっきを、Cuめっき層13、Snめっき層14、Snとの金属間化合物形成及びSnとAuの反応抑制及びワイヤボンディングのための金属層15の順に形成する。例文帳に追加

The plating of stem and lead is formed in order of a Cu plating layer 13, an Sn plating layer 14, and a metal layer 15 for formation of intermetallics with Sn, suppression of reaction between Sn and Au, and wire bonding. - 特許庁

ログ整理装置は、ログファイルを読み出し(Sa1)、ログに設定されている最大件数を超えるログが記憶されている場合には、古いログから順に削除する(Sa2、Sa3)。例文帳に追加

A log arrangement device reads a log file (Sa1), and performs deletion in order from the older log when the logs are stored by a number exceeding the maximum number set in the logs (Sa2, Sa3). - 特許庁

パッシブセンサ10の共振周波数fscは、SAW共振子12の共振周波数fsawがアンテナ11とSAW共振子12とのインピーダンスの差に準じたシフト量だけ周波数シフトした値となる。例文帳に追加

A resonance frequency fsc of the passive sensor 10 is a frequency-shifted value of a resonance frequency fsaw of the SAW resonator 12 by an amount according to a difference in impedance between the antenna 11 and the SAW resonator 12. - 特許庁

銅又は銅合金板上に、Ni被覆層(必要に応じて)、Cu−Sn合金被覆層及びSn被覆層からなる表面めっき層がこの順に形成され、Sn被覆層の上に黒鉛粒子が分散して付着している。例文帳に追加

An optional Ni covering layer, a Cu-Sn alloy covering layer and a surface plating layer comprising an Sn covering layer are formed in this order on a copper or copper alloy sheet and graphite particles are dispersedly attached onto the Sn covering layer. - 特許庁

銅又は銅合金板条からなる母材Aの表面に、リフロー処理により形成されたCu−Sn合金層YとSn層Xがこの順に形成されたSnめっき付き銅又は銅合金材料。例文帳に追加

In the tin plated copper or the copper alloy material, a Cu-Sn alloy layer Y and an Sn layer X which are formed according to reflow processing are formed in this order on the surface of a base material A made of copper or copper alloy strip. - 特許庁

第(M+1)〜第(M+N)の階調データは、第(M+1)〜第(M+N)のデータマスク回路52_M+1〜52_M+Nの順にマスクを解除状態に設定される。例文帳に追加

The (M+1)th-(M+N)th gradation data are set to a mask released state in the order of (M+1)th-(M+N)th data masking circuits 52_M+1-52_M+N. - 特許庁

Cu合金板条からなる母材の表面に、Cu_6Sn_5相を主体とするCu−Sn合金被覆層と、Sn被覆層がこの順に形成された導電材料。例文帳に追加

The conducting material has a Cu-Sn alloy covering layer consisting mainly of a Cu_6Sn_5 phase, and an Sn covering layer, which are formed in this order on the surface of a base material composed of a Cu alloy plate strip. - 特許庁

原料からのIn又はSnの損失を抑制でき、且つInとSnの合金を高純度で回収可能なInとSnとを含む合金の回収方法及びITOリサイクル材の処理方法を提供する。例文帳に追加

To provide a method for recovering an alloy containing In and Sn, which can recover an In-Sn alloy in high purity while suppressing a loss of In or Sn recoverable from raw materials, and to provide a method for treating an ITO recycled material. - 特許庁

SSL/TLSプロトコルに準拠して相互認証を行う場合に、サーバにおいて、鍵取得処理(ClientKeyExchange受信後のRSA復号化、DH離散対数演算など)を署名検証処理(CertificateVerify)が成功した後に行う。例文帳に追加

In performing mutual authentication in conformity with the SSL/TLS protocol, a server executes key acquiring processing (RSA deciphering after receiving Client Key Exchange, DH discrete logarithm operation or the like) after successfully executing signature verification processing (Certificate Verify). - 特許庁

スタートパルス(SP)が立ち上がると、クロック信号(CK、CKB)の立ち上がりに同期し、サンプリングパルス(sam)は、1段ごとにクロック信号(CK、CKB)の半周期ずつ遅れて順次立ち下がる。例文帳に追加

When the start pulse (SP) is raised, the sampling pulse (sam) falls successively while being lagged from a clock signal (CK, CKB) by a half period per stage, synchronously with the rise of the clock signal (CK, CKB). - 特許庁

例文

続いて、抽出した最小SAD値を基準にして、減ビット画素値でのSAD値を評価することで、真のSAD値の算出対象となる画像ブロックであるのか否かを判定する。例文帳に追加

Then the SAD values of the images comprising a reduced number of bits are evaluated on the basis of the extracted minimum SAD value to discriminate whether or not an image block is to be a calculation object of a true SAD value. - 特許庁

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